非平衡磁控溅射掺Cr类石墨镀层的结构分析

采用非平衡磁控溅射离子镀技术,通过调节Cr靶的溅射功率,在单晶硅基片上沉积制备了一系列不同Cr含量的类石墨(Cr-GLC)镀层样品.利用Raman光谱仪、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子电镜(TEM)、显微硬度计分析了Cr-GLC的微观结构和显微硬度.结果表明,利用非平衡磁控溅射得到的Cr-GLC镀层,随Cr含量的增高,硬度逐渐降低并趋于稳定.当Cr含量小于4%时,Cr只以单质非晶态分布于非晶GLC中,Cr的掺杂降低了内应力;当Cr含量超过4%后,还有CrCx纳米晶存在于非晶态的GLC中;镀层由C、Cr和CrCx纳米晶粒组成非晶结构.     

电刷镀纳米晶Ni-Co合金镀层组织结构与性能的研究

采用可溶性阳极电刷镀技术制备Ni-Co合金镀层,利用用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)等方法研究合金元素钴对镀层组织结构和性能的影响.结果表明:刷镀工艺下制备的镍钴合金镀层的晶粒尺寸都是纳米级;镍钴合金镀层都是单相面心立方固溶体结构,合金元素Co在镀层中具有固溶强化和细化晶粒的作用,随Co含量的增加,刷镀层的晶粒尺寸减小,硬度提高,耐磨性与耐腐蚀性能提高.     

浅谈热浸镀工艺

金属腐蚀遍及国民经济各个领域,危害十分严重。热浸镀是一种有效的金属表面防护方法,具有效率高、成本低、镀层质量好等优点,不仅显著提高金属材料表面的耐蚀性能,还具有良好的装饰作用。本文从热浸镀工艺特点、影响因素、镀层性能等方面探讨热浸镀工艺。     

pH值对Ni-Fe-P化学镀层结构与磁性质的影响

以硼酸为缓冲剂,柠檬酸钠为络合剂,在弱碱性体系中化学沉积Ni-Fe-P合金.采用电子能谱仪、X射线衍射仪、透射电镜和振动样品磁强计,研究镀液pH值和NiSO4/FeSO4物质量的比等对镀层组成、结构和磁性能的影响.结果表明,在化学沉积Ni-Fe-P合金中,Fe随着Ni被还原而共沉积,但镀层中Fe原子数分数不高,属诱导共沉积机理.镀液pH值的提高有利于Fe的还原沉积,但会使镀层中P原子数分数稍微降低,约为17.81%~22.0%,属于中高磷镀层.沉积条件对Ni-Fe-P镀层的结构影响不大,合金镀态均为非晶态或微晶结构.Ni-Fe-P合金的磁性能与沉积条件密切相关,随着镀层中铁原子数分数的增加,镍原子数分数降低,镀层的饱和磁化强度和剩余磁化强度均增加.     

化学复合镀Ni—P—SiC镀层耐蚀性能研究

化学复合镀Ni-P-SiC镀层具有硬度高和耐磨性能好的特点。本文在此基础上进一步研究Ni-P-SiC镀层的耐蚀性,找出耐蚀性与镀层中SiC含量的变化规律。     

连铸结晶器表面电镀Ni-W-P-B4C复合镀层的性能研究

探讨B4C在镀液中添加量对连铸结晶器铜板表面电镀Ni-W-P-Bt4复合镀层性能的影响规律。试验条件下获得的复合镀层为非晶态，热处理后转变成晶态，主要物相为Ni3P，NiW，WB，Ni。扫描电镜分析镀层截面形貌表明，镀层组织均匀，固体颗粒在镀层中分散良好。硬度分析表明，复合镀层硬度较高，硬度值达891．1～1253．5HV。耐磨性分析表明，B4C的加入能大大地提高镀层的耐磨性。B4C的加入量为50g·L^-1时复合镀层的性能最好。     

致密热解碳层的混合气体包覆工艺研究

致密热解碳层是高温气冷堆包覆燃料颗粒的关键组成。该文介绍了在流化床包覆炉中采用丙烯（Ｃ３Ｈ６）和乙炔（Ｃ２Ｈ２）的混合气体作为反应体系的包覆工艺,以消除只用丙烯作为包覆气体时产生的热效应。讨论了包覆工艺参数（沉积温度、乙炔浓度等）对致密热解碳层的密度、沉积速率和碳利用率的影响,确定了制备致密热解碳层的最佳工艺条件。研究的结果在生产规模流化床包覆炉中得到了验证和实际应用。     

硅对热浸锌镀层的影响

实验研究了浸镀时间、钢基及锌池中的硅含量对热浸锌镀层厚度的影响。结果表明，随浸镀时间延长，镀层厚度明显增加；当钢基中的硅在一定范围内时，合金层厚度也明显增加，镀层灰暗，且ζ相为不连续的颗粒状，呈现出硅的反应性特征；改变锌池中硅的添加量，对镀层结构及厚度影响较小。     

H3PO3体系中镍磷非晶态合金及其耐蚀性能

用恒电流沉积、腐蚀电位和极化电阻等方法研究了H3PO3体系中Ni-P合金的电沉积及其镀层的腐蚀性能,用XRD、XPS、SEM检测了镀层的晶形、组成和表面形貌,探讨了沉积条件对镀层耐蚀性能的影响。研究结果表明：在H3PO3体系中得到的Ni-P合金镀层同样具有较强的耐蚀性,当镀层中磷的含量达7％时,晶形转为非晶态,镀层中含磷量越大,耐蚀性越好。