高疏水性镀层表面温度的高精度测控

根据半导体冷台的数学模型，优化设计出半导体冷台的ＰＩＤ控制器，为精确控制半导体冷台的温度，从理论及实践上都找到了具有应用价值的方法。     

平炉尘合成超细CoFe2O4的反应条件研究

包头钢铁厂的平炉尘含铁量高,粒径微细,以γ-Fe2O3为主,经过提纯分级可以作为生产超细磁性材料的原料.在有Co2 离子、Fe2 离子存在及避免氧化的条件下,将平炉尘转化为超细尖晶石型铁酸盐CoFe2O4,并和离子反应做了对比,对其反应条件进行了研究.     

搅拌在复合电镀中的作用

复合电镀过程中，搅拌是形成悬浮镀液的不可少的步骤，它又是镀层形成三机理之一－机械碰撞理论的支持，搅拌速度会直接影响复合镀层中的复合分量ａ。分量ａ与速度ｖｉ的关系曲有峰值。在极限速度下，机械碰撞理论会成为成膜的最主要机理。     

Fe-Ni纳米合金镀层结构的XRD表征

采用可溶性阳极电刷镀技术制备不同镍铁比例合金镀层,采用多晶衍射技术研究镀层物相组成、镀层晶粒大小、晶粒取向、镀层的晶格畸变以及Fe-Ni的固溶情况.分析结果显示,镀层中Fe占据Ni的位置形成固溶体,Fe含量的增加影响了镀层的晶粒取向并增加了晶格的畸变度,从而提高镀层的硬度和耐磨性.     

CoFe2O4/CoFe2S4活化PMS性能及机理

通过简单的两步水热法合成CoFe2 O4/CoFe2 S4复合物.扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)及X射线光电子能谱(XPS)物性表征表明,CoFe2O4/CoFe2 S4复合物由纳米片和纳米花颗粒混杂构成.与CoFe2 O4相比,原位硫化引入轻微缺陷可以增加活性位点,从而促进CoFe2 O4/CoFe2 S4复合物的氧化还原活性,赋予CoFe2 O4/CoFe2 S4催化过一硫酸盐(PMS)体系更优异的氧化降解能力.进一步的参数优化实验表明,CoFe2 O4/CoFe2 S4与PMS体系氧化降解黄连素的最佳条件为1 mg/L CoFe2 O4/CoFe2 S4、0.8 mmol/L PMS、温度40℃、pH 7.0,该条件下黄连素的降解率在60 min内可达98.4％.CoFe2 O4/CoFe2 S4循环使用3次后,黄连素降解率依然在90％ 以上.电子顺磁共振(EPR)研究表明,CoFe2 O4/CoFe2 S4与PMS体系产生的主要活性氧化物种为SO4-和HO.自由基抑制实验证明,SO4-是降解黄连素的主要活性物种.     

低共熔溶剂浸出高炉瓦斯泥-电沉积锌的研究

本文采用氯化胆碱-尿素低共熔溶剂体系浸出高炉瓦斯泥,再直接电沉积得到锌.实验考察了液固比、浸出时间、搅拌速度对锌浸出率的影响.浸出实验结束后,我们分别对体系进行了循环伏安测试和电沉积实验.实验结果表明:液固比为10 mL/g,浸出时间为30 h,搅拌速度为300 r/min,温度为70℃的条件下,锌的浸出率达到71%;循环伏安测试确定还原电位为-1.4 V;X射线衍射和能谱分析表明,镀层为纯度较高的金属锌;通过对镀层形貌分析发现电沉积得到了1μm左右团簇状晶粒组成的锌镀层.     

Ni-SiO2复合镀层腐蚀摩擦学性能研究

利用瓦特型复合镀液制备Ni-SiO2复合镀层,探讨了电沉积过程和获得的镀层的性质;尤其是电流密度对获得的Ni-SiO2复合镀层的性能和结构的影响。结果表明,Ni-SiO2复合镀层的硬度可达到HVM410．2。在3％NaCl溶液中,Ni-SiO2复合镀层磨损量比纯镍层降低50％,比A3钢的磨损量降低86％。电化学测试结果表明,Ni-SiO2复合镀层在3％NaCl溶液中的腐蚀电流比纯镍镀层降低43％,表现出较好的耐腐蚀性能。SEM分析显示Ni-SiO2复合镀层表面是由SiO2在Ni基体上紧密堆积而成,Ni与Si的组分比是3．4：1．2。X射线分析显示Ni-SiO2复合镀层中Ni为面心立方结构,其晶粒尺寸为19．1nm。     

络合剂对Co-Fe-P镀层化学沉积速率和结构的影响

采用化学镀方法制备Co-Fe-P合金,分析络合剂种类和浓度对化学镀层沉积速率和镀层结构的影响.重量法和电化学法测试所得的沉积速率表现出相似的趋势,即镀层沉积速率随着镀液中柠檬酸三氨含量的增大而增大.由于析氢等副反应的发生,电化学方法计算所得的沉积速率大于重量法所得的沉积速率.镀液中络合剂的不同会影响所制备镀层的结构,X射线衍射结果表明单独使用酒石酸钾钠为络合剂所得镀层晶化程度最大,而采用柠檬酸三钠和柠檬酸三氨为络合剂时所得镀层的晶化程度下降,有向微晶和非晶结构转变的倾向.     

Ni-P-SiO2化学复合镀工艺的研究

采用正交试验方法研究了主盐、还原剂、络合剂、纳米SiO2材料4因素对Ni-P-SiO2化学复合镀层性能的影响.试验表明:纳米SiO2材料添加量对镀层性能的影响最大,络合剂次之.当主盐30 g/L,还原剂25 g/L,络合剂20 ml/L,纳米SiO2 6 g/L时,镀层显微硬度达HV889.21,磨损量仅20.6 mg,且镀层分布均匀.     

石墨炉原子吸收光谱法测定眼镜框镀层中的镍含量

利用石墨炉原子吸收光谱法测定眼镜框镀层中的镍含量,经试验选用涂层石墨管进行测定可获得令人满意的试验结果,该法线性范围为0.1～30μg/L,检出限为0.5μg/l,RSD为10%.