微波ECR等离子体溅射沉积T_t薄膜的结构研究

用电子回旋共振(ECR)等离子体溅射方法在室温基片上沉积出的T_i薄膜的结构是用X RD和TEM进行分析的。结果表明所沉积的T_i薄膜是平均粒径,晶粒尺寸分布很窄的稳定fcc结构。在实验过程中发现可以通过对工作参数的调整控制薄膜的晶粒尺寸。我们还讨论了ECR等离子体对薄膜结构和晶粒尺寸的影响。     

CO选择性厚膜气敏元件及其特性

本文采用丝网印刷技术制作了CO选择性厚膜气敏元件,并对其加热器特性及气敏特性进行了研究。结果表明,元件的电参数具有较好的一致性;在低温下对CO具有较高的灵敏度和选择性。加热器在CO的工作温度下具有一定的稳定性。     

Mo/Cr_2O_3体系润滑状态转化及润滑膜结构

综合应用 ＳＥＭ， ＷＤＳ， ＳＡＭ及 ＸＰＳ等技术逐一分析了不同润滑状态下Ｍｏ／Ｃｒ２Ｏ３摩擦日表面膜的结构：观测到润滑状态转化和试件表面反应膜化学结构之间的对应联系；揭示了边界润滑状态下试件表面上形成了含有石墨和 ＭｏＳ２的混合团体润滑膜，这是Ｍｏ／Ｃｒ２Ｏ３体系高温下具有良好摩擦特性的关键。     

恒热源下平表面层流膜态沸腾的分析和计算

对沿恒热源传导下平表面层流流动的膜态沸腾进行研究。指出如何应用流线迭代法,对沿流动方向各截面上流体的速度分布和温度分布数值解的求法,并举例说明它的应用。最后对计算结果进行分析和讨论。     

超细Fe(OH)_2悬浮液氧化反应中氧传递速率

基于膜理论,分析了含有超细Fe(OH)_2颗粒的淤浆中氧气的传递速率。利用数值解与近似解法给出了增强因子与反应-扩散模数间的关系,两者符合很好。实验验证了Fe(OH)_2的氧化速率与其粒径成反比。     

聚丙烯薄膜表面改性的X射线光电子能谱研究

用二射线光电子能谱技术(MSCA或XPS)研究了在纯氧和纯氮气中,用射频辉光放电等离子体激发,使聚丙烯薄膜表面改性;在空气中用紫外光长期照射聚丙烯薄膜使其表面氧化.结果表明,后者与前者的氧化情况类似.氧化速率不同。在纯氧气氛中所获得的聚丙烯薄膜除了在最初阶段其表面含氧官能团主要是单键氧外,随着处理时间的增长,含双键氧的官能团显著增加.经长时期放置后,含氧官能团(主要是含双键氧官能团)减少.用曲线拟合方式,研究了在3种情况下所获得的聚丙烯薄膜的表面光电子能谱团,对其氧化机理进行了讨论。     

电弧放电法快速合成金刚石薄膜

本文用电弧放电等离子体ＣＶＤ快速生长金刚石薄膜。用拉曼散射，Ｘ射线衍射、电子显微镜等方法进行了结构表征。文中所论述的恒定的基板温度对沉积金刚石薄膜是非常重要的。     

电子密度对PCVD制备SnO_2导电薄膜的影响

利用双探针测得了管式射频等离子体反应器内电子密度的轴向和角向分布,并制得了SnO_2透明导电薄膜.实验表明,薄膜的沉积速率、电学性能及结晶形态受等离子体电子密度的影响较大.在电子密度高的地方,薄膜沉积速率快,薄膜电阻低,其薄膜的晶粒也均匀细微密集.     

气相生长统一模型

从微观输运与化学反应动力学出发,将薄膜气相生长过程划分为五个步骤,基于对步骤的分析,得到了淀积过程的共同规律,建立了气相淀积生长速率的统一模型.代入有关参数和少数实验数据即可得到具体的实用模型.文中揭示的薄膜生长规律对于优选工艺方法和具体工艺参数具有参考意义.     

电阻式卟啉LB膜NH_3敏感元件

本文合成了一种新型的钴卟啉LB膜气敏材料(CoTDMAPP),并制成电阻式LB膜气敏元件.对其气敏性的测试表明,该元件只对NH_3敏感,灵敏度高、响应恢复较快、稳定性较好,实现了常温下工作,且功耗低,一致性好.