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41.
使用低介电常数基板和高电导率、高抗电迁移的金属Cu进行布线,可以提高高密度电子封装的传输速度和可靠性。采用乙酰丙酮铜作为前驱体,在常压下利用化学气相沉积技术对玻璃陶瓷基板进行Cu薄膜金属化。利用热重分析、X射线衍射和扫描电子显微镜等技术对前驱体、Cu薄膜进行分析观察。结果表明:影响Cu导体的电阻的主要因素是沉积温度。在温度为290~310℃,N2气流量为200~350mL/min和H2气流量为450~600mL/min的条件下,获得了致密的Cu薄膜,Cu导体方块电阻为25mΩ。  相似文献   
42.
利用单片机和语言电路技术设计的语言型导线查对检测仪,它可快速、准确地对导线与地短路、导线开路、导线间短路等进行查对和检查.  相似文献   
43.
提出一种完全新型的VDMOS-NMOS全兼容功率集成结构的设计方法。该结构采用与VDMOS工艺兼容的对接沟道结构形成NMOS器件,利用VDMOS工艺中p^+区反刻过程形成NMOS器件的有源区,利用VDMOS工艺中刻双扩散口有成NMOS器件的栅区及多晶性互连线。  相似文献   
44.
1958年世界上第一块采用全平面工艺研制的硅集成电路(IC)问世,由此揭开了人类社会进入“硅器”时代的序幕。30多年来IC技术的发展迅猛异常,已经完成了小规模集成电路(SSI)、中规模集成电路(MSI)、大规模集成电路(LSI)和超大规模集成电路(VLSI)的发展阶段,目前正在进入特大规模  相似文献   
45.
随着大规模集成电路的发展,高密度封装技术越来越受到人们的重视。厚膜金属化布线是封装的一个重要形式,提高封装密度要求减小布线宽度,提高丝网印刷精度,实现微细布线。 丝网印刷对厚膜浆料有着一对相互矛盾的要求,一方面从形成的厚膜和线条外观质量考虑,要求浆料具有好的流动性以消除线条上的丝网痕迹,得到表面和边缘光滑的布线;另一方面从线条分辨率考虑,希望提高浆料粘度,降低流动性,否则浆料易于向外扩展导致图形分辨率的降低,并造成线条的短路。目前实现微细布线广泛使用的方法是提高厚膜浆料的触变性,并加入表面活性剂改善浆料的流动性。有关丝网印刷精度和流变性的关系已有较多的研  相似文献   
46.
微波单片集成电路及其发展趋势   总被引:3,自引:0,他引:3  
讨论了微波集成电路的发展过程,特点,材料和元件,它的设计,制造,应用以及国内MMIC发展概况。  相似文献   
47.
讨论分析了近几年国内外硅微电子和GaAs微电子生产与技术的进展,并对未来微电子的发展进行了展望。  相似文献   
48.
以集成电路为主流的现代接收机,以其更复杂的电路结构,换来愈加完善的功能和更趋完美的声像质量.原理的相似性和结构的多样性是现代接收机的总体特征.  相似文献   
49.
50.
在固定参数动态灰色预测模型基础之上进行改进,提出了可变参数动态灰色预测模型.固定参数动态灰色预测模型的参数值为0.5,可变参数动态灰色预测模型的参数值由预测对象的影响因素来决定.根据对我国集成电路产业的应用研究,说明了可变参数动态预测模型具有更好的预测精度.同时,针对可变参数动态灰色预测模型的计算量很大的特点,应用Java编制了应用软件,可以方便快捷地进行运算,有利于该模型的应用推广.  相似文献   
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