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111.
TSCR工艺生产IF钢相变及组织演变规律 总被引:1,自引:0,他引:1
采用Gleeble-1500热模拟试验机,研究了薄板坯连铸连轧工艺条件下(TSCR)无间隙原子钢(IF钢)的动态连续冷却转变规律,并分析了其组织演变规律.研究表明:Ti-IF钢的相变开始温度随着冷却速度的增大而下降,即Ar3降低,有利于低温终轧,并获得性能良好的IF钢.同时IF钢的硬度值随着冷却速度的增大而增大,冷却速度从1℃/s变化到30℃/s时,HRB从53.4增加到68.3,即其强度随冷却速度增大而增加. 相似文献
112.
利用大型商业软件CFX建立了高温氮化硅反应炉内温度场的数学模型,采用拟流体模型数值模拟炉内的层流流动,分析了氮气体积流量、各向异性散射和辐射特性等因素对温度场和产物质量浓度的影响.计算结果表明,为确保反应充分完全,预热段温度控制显得非常重要,而氮气体积流量起着决定性的作用;各向异性散射对径向温度、产物质量浓度有一定的影响;散射率对温度场影响很小;计算值与实验值相比较,误差在10%之内. 相似文献
113.
高压电场干燥技术在中药材干燥中的应用 总被引:7,自引:0,他引:7
在中药材、中药饮片及制药中间产品的传统干燥技术工艺中,存在着物料升温过高致使有效成分损失严重、生产时间长、能源消耗高、卫生不合格等问题.利用高压电场干燥技术对化橘红果和化橘红片进行了干燥试验及热风、真空干燥的对比试验,并对干燥后样品的有效成分作了实际检测.结果表明:高压电场干燥技术能够提高化橘红果和化橘红片的干燥速度,并且对有效成分可最大限度的保留.说明高压电场干燥技术是中药材加工领域里一项实用、有效的新型技术. 相似文献
114.
中国电子政务刚刚起步,技术含量还比较低,发展速度还比较缓慢,建设过程中存在诸多困难.文章分析了发展中存在的问题,以期寻找切实可行的解决方案. 相似文献
115.
分析了节流阀调速回路稳态性能各项要求之间的联系,对于一定的液缸工况和元件条件,进行节流阀调速回路稳态性能的定量比较。 相似文献
116.
对前向多翼式离心风机建立了性能及流场测试台位 性能试验及流场测试表明,性能试验重复性良好,曲线符合理论性能曲线.用粒子图像速度场仪技术对叶片尾迹区及蜗壳出口横截面上的二次流做了详细的变工况测量与分析.结果表明:叶片尾迹区脉动强度达20%~70%;在设计工况附近叶片尾迹影响区域小,在非设计工况下叶片尾迹影响区域大,尾迹区域占到蜗壳径向宽度的15%~25%,约是叶片弦高的2~3倍;在蜗壳横截面上明显存在二次流旋涡;沿着蜗壳旋出方向二次流对称分布,但是到达出口时,小流量下两侧旋涡结合成一个旋涡,大流量下两侧旋涡一直保持到蜗壳出口. 相似文献
117.
生物浸出中容易产生铁矾而影响目的矿物的浸出速度。文中就这一问题,围绕与Fe^3 有关的各种因素进行了详细分析,旨在充分发挥Fe^3 离子的氧化作用,又尽量减少其产生的负面影响。分析表明,在驯化适应低酸条件下浸矿细菌的基础上,合理调配酸性介质pH值、铁浓度、细菌氧化活性、氧化还原电位Ek值之间的关系,能使铁产生的沉淀降到最小化。 相似文献
118.
提出了热气机工质的一种循环压力改进计算方法,以理论输出功最大为目标建立了一种传动机构即Ericsson机构的尺度综合优化模型,确定了该机构的最佳几何参数.优化结果表明该方法对于优化该机构的几何参数、提高热气机的理论输出功率具有明显的效果. 相似文献
119.
邻、对甲酚与对二甲苯固液平衡 总被引:1,自引:0,他引:1
为结晶提纯邻甲酚和对甲酚,采用差示扫描量热法测定了邻甲酚和对甲酚分别与对二甲苯二元固液平衡数据,同时绘制出相应的简单低共熔型二元相图.低共熔组成和温度为:邻甲酚 (x) 对二甲苯 (1 -x),x=0.420 5,T=271.82K;对甲酚(x) 对二甲苯(1-x),x=0.459 8,T=272.52K.采用Ott方程对固液平衡数据进行关联,温度标准偏差不大于 0. 8K;根据固液平衡热力学基本关系,应用UNIFAC基团贡献法计算溶液活度系数,所得固液平衡计算值和实验值比较接近,说明UNIFAC法对以上体系是适用的. 相似文献
120.
非晶Fe77.5Si8.5B14合金晶化动力学的非等温方法研究 总被引:5,自引:0,他引:5
利用非等温差示扫描热分析法(DSC)研究了非晶Fe77.5Si8.5B14合金的晶化动力学.不同升温速率的DSC曲线表明非晶Fe77.5Si8.5B14合金的晶化过程为两步晶化.通过对不同升温速率的DSC曲线的分析,计算了两个析晶峰的晶化表观激活能E1(388.2 kJ·mol-1)和E2(339.0 kJ·mol-1),以及两个析晶峰的Avrami指数n1(1.7)和n2(3.3).根据动力学参数分析了非晶Fe77.5Si8.5B14合金的析晶机理晶化峰1的成核类型为均匀成核,晶粒生长为扩散控制的一维生长和二维生长;晶化峰2为整体析晶,晶粒生长以界面控制的二维生长和三维生长为主.最后结合表观激活能计算了两个析晶反应的频率因子ν1(4.05×1025)和ν2(1.14×1021). 相似文献