压印光刻中高精度莫尔对准方法的研究

针对分步压印光刻工艺中多层套刻的高精度对准问题,提出一种应用斜纹结构光栅副实现x、y、θ三自由度自动对准的方法.光栅副分为4个区域,应用光电转换器阵列检测光栅副相对移动所引起的莫尔信号变化,通过电路系统处理可同时得到在平面x、y、θ三自由度的对准信号.驱动环节采用直线电机和压电驱动器作为宏微两级驱动,其分辨率分别为0.2μm和0.1nm,在激光干涉仪全程监测下,与控制系统一起构成闭环系统实现自动对准定位.实验结果表明,在多层压印光刻工艺中,实现了压印工作台步进精度小于10nm的高精度定位要求,使整个对准系统的套刻精度小于30nm.因此,应用这种莫尔对准方法可以获得较高的对准精度,同时能够满足压印100nm特征尺寸套刻精度的要求.     

三维云纹干涉法在PMMA材料特性分析中的应用

对云纹干涉法的原理、方法及实验系统进行了简要介绍,并利用三维云纹干涉仪实时测量了有机玻璃(PMMA)在三点弯曲时的三维位移场。对变形三维云纹图进行了分析,得出了三维应变分布图。     

数字光栅测振传感器性能分析与测试

为完善光栅测振传感器的性能,将光栅莫尔条纹技术应用到振动测量,在完成光栅测振传感器原理性实验的基础上,进行了理论分析,并就其特性进行了实验研究.通过构建高精度光栅传感器测试系统,对传感器的静动态特性进行深入研究,并建立了动态模型.实验证明,光栅测振传感器分辨力可达0.025μm,动态频率误差小于1.5%,振幅误差小于3.8%.     

亚波长金属/电介质双层光栅偏振片

用严格耦合波分析亚波长金属光栅和高频电介质光栅的衍射性质,给出了亚波长金属/电介质双层光栅偏振片的设计,同时通过严格耦合波分析给出了这种偏振片的TM波的反射特性和反射偏振比.     

铁纳米线阵列的结构与微观磁性

采用电化学方法制备了平行排列的Fe纳米线阵列。利用透射电镜、X—射线衍射、物性测量系统和穆斯堡尔谱分别对样品的形貌、晶体结构、宏观磁性和微观磁性进行了研究。结果表明样品形状均匀，但沿纳米线方向有晶体织构，且存在着很强的形状各向异性。利用结果，结合计算机模拟，对样品中原子磁矩的分布进行了讨论。     

基于3D-GM-BPM的平行定向耦合器模拟研究

提出了基于伽辽金法的三维光束传播法（3D－GM－BPM），可直接应用于三维波导光电子器件的光波传输模拟，并用它模拟分析了基于脊形光波导的平行定向耦合器遥光波传输特性。3D－GM－BPM最终归结为求角一阶常微分方程组，导出矩阵小，计算效率高。另外，平面映射边界条件使该方法无须引入人工边界条件，因而消除了非物理反射，有较高的计算精度。     

线性啁啾变迹及均匀光纤光栅的反射谱分析

该文从理论上研究了线性啁啾变迹光纤光栅及均匀光纤光栅的反射谱，经分析发现，高斯分布的耦合系数具有平滑反射谱，消除旁瓣的作用，啁啾系数的增大使得光栅的反射谱明显变宽，最大反射率降低，利用这个规律，可选择恰当的参量，制作出符合工程要求的光纤光栅，同时也发现均匀“弱”光纤光栅的反射谱具有sa(x)函数的分布特性，在此基础上提出用“弱”光纤光栅做匹配光滤波器的设想。     

RAID技术使用中存在的问题及对策

独立磁盘阵列技术虽然比较成熟，在小型机，服务器甚至微型计算机上都得到了广泛的应用。但是在具体的使用过程中，对使用者而言，由于普及程度不够，实践应用经验的欠缺，面对实际工作中各种不同的情况，例如：磁盘阵列崩溃后的阵列信息的不同修复方法；混用磁盘阵列级别崩溃后逻辑磁盘中原始数据的保持；什么情况下需要降低磁盘阵列卡固件BIOS的程序板本，具体如何操作；在做镜像时死机是因为什么原因造成的且如何解决等具体情况，即使对专业工程技术人员，也常感到无从下手。作者通过对长期实践工作中的总结，归纳了4个较有典型意义的案例解决方案。目的在于读者遇到同类问题时，能够节省时间，少走弯路，以加快磁盘阵列系统的修复或重建进程。     

平面锥形光波导模斑转换器的研究

基于三维有限差分束传输法（FD－BPM）对平面光波导器件中的关键元件之一－平面锥形模斑转换器作了深入的研究，对线性和数种非线性侧面边界的模斑转换器进行了数值仿真和对比，分析了平面锥形模斑转换器侧面边界函数对耦合损耗的影响，以及模斑转换器中模场分布随传输距离的变化，确定了不同长度的平面锥形模斑转换器的最佳侧面边界，指出长度在200－1000μm范围内具有余弦边界的平面锥形模斑转换器性能最佳，并且发现，光纤中的出射光进入模斑转换器以后，光波模式会逐渐发生变化，并最终转化为单模。     

二维金纳米微粒有序阵列的制备

对于用十二烷基硫醇包覆的金纳米微粒，用Langmuir-Blodgett(LB)技术制备了二维金纳米微粒有序阵列．在单纯的硫醇包覆的金纳米微粒形成的LB膜中，由于硫醇分子之间的疏水相互作用，容易导致金纳米微粒的自组织而在LB膜中形成缺陷．为了改善金纳米微粒的成膜性能和提高金纳米微粒阵列的有序性，正十二醇作为添加剂和润滑剂加入到金纳米微粒的氯仿溶液中与金纳米微粒一起形成LB膜．用透射电子显微镜对金纳米微粒的二维阵列进行了表征．结果表明，正十二醇的加入可以有效地减少用LB技术制备的二维金纳米微粒阵列中的缺陷，提高金纳米微粒阵列的有序性．