电镀金刚石——镍复合膜沉积率研究

<正>随着电子行业的迅速发展,由于陶瓷、半导体材料、水晶、玻璃等材料的切割和开槽等高精度微加工技术日益增多,因此,要求用于这种加工的切割工具必须具有高硬度,磨削效率高,形状误差小且容易保持,高化学惰     

半透明多碱阴极浅氧敏化研究

根据多碱阴极理想模型:Na_3KSb+K_2CsSb+sb·Cs 偶极层,提出用 Cs_2O 取代 K_2CsSb+Sb·Cs 偶极层,很可能形成 p—n Na_2KSb—Cs_2O异质结光电阴极。用研制的氧发生器,以常规的碱金属源在超高真空系统中制备了 Na_2KSb,然后采用 NEA 光电阴极的激活工艺,用铯、氧交替激活 Na_2KSb,获得 p—n Na_2KSb—Cs_2O 光电阴极。结果表明,这种光电阴极在紫外—红外范围内具有较高的量子产额,其长波截止超过1.06um,达到1.1μm。     

磨抛工艺参数的计算机测控与分析

为了实现ＪＰ１２．６型六轴透镜抛光机工艺参数的自动调整，对其进行了改装；并构造了完整的加工过程工艺参数的自动检测系统。根据实验结果分析了主要工艺参数对抛光质量的影响，提出了以转速作为评判工件磨抛稳定与否的指标。     

空心阴极放电离子镀法沉积氮化钛涂层

论述了空心阴极放电离子镀的工作原理，ＫＹＦ－６００型离子镀膜机的特点，各工艺参数的选择与控制以及ＴｉＮ涂层齿轮切削性能的试验与结果分析。试验表明，经镀覆ＴｉＮ的高速钢齿轮刀具可提高寿命１至４倍，经济效益显著。     

涂渗剂空心阴极放电离子渗金属

本文利用空心阴极放电现象对在表面涂覆有渗剂的试样进行离子渗金属的试验研究。初步结果表明,该方法是一种工艺简单、渗速快、无污染的渗金属新工艺,并有广阔的工业应用前景。     

分级钨粉提高钡钨阴极发射性能的研究

提出采用流态化技术分级的新方法分级制备钡钨阴极用原料钨粉。该法能减少或避免粉末的假颗粒化和分级设备的壁效应现象,有效地制备在粒度组成上符合钡钨阴极特殊要求的钨粉。试验结果表明,用分级钨粉制备的钡钨阴极发射性能有了明显的提高和改善,从而显示出这种方法的巨大潜力。     

Nafion修饰电极阴极溶出伏安法测定Fe~(3+)的研究

本文以玻碳电极为基体,制备了Nafion修饰电极,研究了Fe~(3+)在该电极上的阴极溶出伏安特性,并1用于痕量Fe~(3+)的测定。本方法在10～100ng/ml范围内Fe~(3+)的浓度与峰高呈良好的线性关系,平行七次测定的相对标准偏差为3.8％,回收率为95.1～101.9％。     

铬电沉积过程及H2SO4的作用

在铬镀液(CrO_3/H_2SO_4=250/2.5Wt.)中,电流扫描实验结果表明,铬在玻璃碳电极上沉积需要成核过电位;而在铜电极上不需要成核过电位,其晶核由电极表面氧化膜(CuO CrOH)还原生成的金属Cr提供。铬电沉积前后,CrO_3还原机理不同,H_2SO_4 的作用也不同,沉积前,H_2SO_4的作用主要是活化电极表面,促使CrO_3还原,同时还使表面氧化膜溶解。沉积后,H_2SO_4 则起着保持电极表面附近阴极膜相对稳定的作用,还可能与 Cr(Ⅳ)形成易还原的配合物。