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61.
基于第一原理赝势能带计算。采用电中性能级和平均键能方法计算了7种不同半导体的Schottky接触势垒高度,结果表明2种方法都可用于计算金属-本征半导体的接触势垒高度。文中用于确定接触势垒高度的“本征半导体基态费米能级EF^S,i”不同于半导体物理中所指的“本征费米能级Ei”.n型半导体接触势垒、p型半导体接触势垒和本征半导体势垒,三者在接触界面附近的费米能级都是“钉扎”于本征半导体基态费米能级EF^S,i,是此三者的接触势垒高度大致相同的原因。 相似文献
62.
在物质世界的微观和宏观两个领域内,人类在小步地前进着;而在介于它们之间的1—100纳米的世界里,20年前科学家们发现了深藏其中的一些物理和化学上的奇异现象,比如物体的强度、韧性、比热、导电率、扩散率、磁化率等完全不同于我们现有的常识。由这些全新的发现可能导致的全新理论的问世将会给人类带来怎样的影响,会成为一场持续多久的革命呢?请看中国科学院纳米科技项目首席科学家白春礼院士的报告。 相似文献
63.
研究了乌鸡妇康糖浆中黄芪甲苷的定量方法。采用CS-9000在λs=510nm,λR=610nm扫描,V(氯仿):V(甲醇):V(水)=13:7:2混合液的下层溶液为展开剂。结果表明黄芪甲苷在1-5μg之间线性关系良好,相关系数γ=0.9993,平均回收率为99.20%,相对标准差为3.50%。本法灵敏、简便、准确,可用于乌鸡妇康糖浆中有效成分黄芪甲苷的测定和制剂的质量控制。 相似文献
64.
利用VB6.0和Access7.0开发了过渡金属表面反应能量学的计算系统.该软件基于UBI-QEP的理论方法.采用模块化设计.其功能模块有3个:(1)数据库模块.利用该模块可以实现气相解离能以及小吸附基团在各种过渡金属表面吸附热的查询、添加与修改;(2)化学吸附热计算模块,利用该模块可以调用数据库中的数据对吸附基团在不同吸附方式的吸附热进行计算;(3)基元反应的活化能垒计算模块.利用该模块可以对基元反应的活化内能进行计算,进而分析其反应的难易与历程.该系统实现了UBI-QEP的理论方法计算的程序化,可用于多相催化反应的催化剂优选和机理探讨. 相似文献
65.
180℃热液条件下锆石表面溶解行为研究 总被引:4,自引:0,他引:4
报道了锆石颗粒在180℃,HCl或NaCl溶液中经过240~712 h反应后表面特征的变化.扫描探针显微镜(SPM)对比观测表明,反应前后锆石表面微形貌发生了显著变化,反应后锆石表面平台和台阶普遍存在溶蚀现象,而在NaCl(1 mol/L)溶液中反应712 h的锆石表面出现了nm级、串珠状定向排列、可能是ZrO2的沉淀物.X射线光电子能谱(XPS)测定发现,锆石溶解过程中元素Si比元素Zr有更快的溶出速率,因而反应后锆石表面可以形成富锆的薄层.锆石表面溶解现象还得到了反应溶液ICP-MS分析结果的进一步支持,测定反应后溶液成分的变化发现,随着反应时间的增加,Zr,Hf,U等元素的溶出量也随之增加,HCl溶液中锆石各元素的溶出量最高,均比NaCl中性溶液中的溶出量要高. 相似文献
66.
采用传统熔体冷却方法,研究以TiO2为成核剂、以Li2O Al2O3 SiO2为基础组成的玻璃的制备工艺;根据差热分析(DTA)的结果确定玻璃的核化与晶化温度,然后针对基础玻璃组成,采用二步热处理方法获得透明的微晶玻璃;用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对晶化试样的物相和显微结构进行研究;用热膨胀仪测定玻璃在热处理前、后的热膨胀系数;用绝缘电阻测试仪测试该微晶玻璃的电阻率.研究结果表明:微晶玻璃的主晶相为Al2O3·TiO2微晶体,次晶相为ZnSiO3;微晶玻璃与硅片有相近的热膨胀系数,约为32.5×10-7/℃;微晶玻璃晶化后的电阻率较低,为6.8×1010Ω·cm. 相似文献
67.
三维振镜激光扫描系统的控制算法及其应用 总被引:1,自引:0,他引:1
研究开发了一套低成本的国产三维动态聚焦振镜扫描系统,井成功应用到快速成型设备中.给出了三维动态聚焦振镜扫描系统的控制算法,及其在快速成型设备SLS(设备型号为ERPS—Ⅱ)中的应用. 相似文献
68.
采用样品扫描方式,通过对传统光学显微镜的改造,开发了一套反射式共焦扫描显微镜(Confocal Scanning Optical Microscope,CSOM),并对多种样品成功地进行了扫描成像. 相似文献
69.
纳米结构陶瓷(n-WC/12Co)涂层材料精密磨削的试验研究 总被引:1,自引:1,他引:1
对纳米结构陶瓷(n—WC/12Co)涂层材料在金刚石砂轮精密磨削过程中的磨削力进行了较详细的试验研究,对常规结构陶瓷(c—WC/12Co)和n—WC/12Co涂层材料的磨削力作了对比磨削试验。分析了磨削工艺参数如砂轮磨削深度、工件进给速度、金刚石砂轮粘结剂类型和磨粒尺寸以及被磨试件材料特性等对磨削力的影响。结合被磨试件表面的扫描电镜(SEM)的观察,分析了n—WC/12Co涂层材料磨削的材料去除机理。 相似文献
70.