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11.
用热丝法研究了WC-6%Co硬质合金刀片金刚石薄膜涂层附着力。结果表明:采用温度为80℃,(HCl:HNO3:H2O)(体积比)为1∶1∶1溶液对硬质合金刀片表面去Co15min后,经40um金刚石粉及1.5um金刚石加20umTaC混合粉进行超声预处理,结果表明,沉积的金刚石薄膜与硬质合金刀片基底具有良好的附着力,而经40um金刚石粉处理的薄膜涂层组织与附着力要好一些。  相似文献   
12.
用透射电子显微镜(TEM)检测了高温高压下铁基触媒合成金刚石外的金属薄膜,发现存在大量的合金相γ-(FeNi)与高碳相Fe3C,但未发现石墨与金刚石结构.γ-(FeNi)(111)晶面与Fe3C(004)晶面上的原子有对应匹配关系.应用余氏理论(EET)计算了γ-(FeNi)/Fe3C界面的共价电子分布,发现一级近似下两晶面的平均共价电子密度(简称电子密度)连续,符合程氏理论(TFDC)提出的"相邻晶面电子密度连续"的原子边界条件.分析认为,γ-(FeNi)与FeaC分别是金属薄膜中形成金刚石的催化相和过渡相.  相似文献   
13.
阐明了磁透镜原理,依照磁透镜理论和几何光学理论,给出一种确定磁透镜位置的方法。并将磁透镜技术应用到直流等离子射流化学沉积金刚石薄膜/类金刚石薄膜装置中,很好地消除了边界效应,实现高速大面积沉积高纯度金刚石薄膜/类金刚石薄膜的目标。  相似文献   
14.
等离子体离子注入类金刚石多层膜机械特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用非平衡磁控溅射及等离子体离子混合注入方法在奥氏体不锈钢 1 Cr1 8Ni9Ti基体上制备 N/ Ti N/ Ti(N,C) / DLC梯度膜 .研究了类金刚石 (DLC)梯度膜的结构特征和力学性能 .试验结果表明 ,N/ Ti N/ Ti(N,C) / DLC梯度膜最外层为典型的 DLC层 .梯度膜的硬度、弹性模量、断裂韧性以及界面结合强度值分别为 1 9.84GPa、1 90 .0 3GPa、3.75MPa· m1/ 2和 5.68MPa·m1/ 2 .试验所制备的 DLC多层膜比 DLC单层膜具有更好的综合机械性能 .  相似文献   
15.
应用于微波电磁场FDTD数值模拟的吸收边界条件   总被引:1,自引:0,他引:1  
在应用FDTD方法模拟复杂空间中微波电磁场分布时,不仅要考虑入射电磁波的贡献,还要考虑反射电磁波的影响。对于后者,一般常采用吸收边界条件的方法予以处理。针对TEM电磁波的传播特点,推导出了一种新的吸收边界条件的表达式,并利用其对微波法金刚石膜沉积系统沉积室中电磁场的分布进行了数值模拟。  相似文献   
16.
MPCVD金刚石膜的拉曼光谱学   总被引:2,自引:0,他引:2  
阎研  屈田  张树霖  赵新生  韩毅松  侯立 《科学通报》2003,48(19):2029-2030
研究了MPCVD生长的金刚石膜的拉曼光谱. 除给出它们的全部一级谱外, 还根据纳米结构特有的共振尺寸选择效应, 认为MPCVD金刚石膜中不含有纳米晶成分, 并认为1145 cm−1峰不能作为生成纳米晶金刚石的判断标准, 虽然这个标准已被人们广泛地应用了许多年.  相似文献   
17.
新型滚轮法测量头的结构设计   总被引:2,自引:0,他引:2  
文章在分析滚轮法大直径测量中滚轮打滑和滚轮变形对测量结果影响的基础上,介绍了一种新的滚轮法测量头结构。该测量头通过独特的防滑结构设计减小了测量时打滑现象的发生,并通过测力装置实时获得滚轮受压变形大小,以方便修正滚轮变形带来的测量误差,大大提高了滚轮法的测量精度。  相似文献   
18.
激光诱发巴基管向金刚石的相转变   总被引:1,自引:0,他引:1  
金刚石由于其超高的硬度,已逐渐成为切削、抗磨等方面的首选材料.C_(60)发现后,已有利用冲击法将其转变成金刚石的报道,巴基管与C_(60)结构上类似,但它相对于C_(60)来讲,成本低、容易大量生产,因此更有可能进入工程应用.目前,利用巴基管作为衬底,通过化学气相沉积的方法已生长出良好的金刚石薄膜,并使金刚石的成核和生长速率大为提高.同时,巴基管在高温高压下合成金刚石的研究工作也取得了可喜的进展 本文以球墨铸铁为基体,以巴基管为涂层,通过激光熔凝和后续热处理的方法,在铁-碳合金体系中获得了微米尺寸的金刚石晶粒.  相似文献   
19.
在分析金刚石锯片刀头运动轨迹的基础上,根据金刚石锯片的切削运动方程,得出了金刚石磨粒最大切削厚度的计算公式,提出了切削过程中两个新的观点:(1)单颗粒金刚石锯切掉的岩石其水平距离是不变的;(2)切削厚度是按正弦规律变化的,这给锯片设计和正确使用提供了可靠的依据  相似文献   
20.
用热激发电流法研究金刚石薄膜中的陷阱   总被引:1,自引:0,他引:1  
对微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)的硅衬底金刚石薄膜,做了在液氮温区注入载流子,升温测其电流-温度关系的实验,观察到as-grown样品有明显的热激发电流峰,重复实验时,峰基本消失,经氢等离子体在 ̄900℃处理2.5h后,再重复实验,该峰又出现,推断热激发电流峰是由硅衬底金刚石薄膜内氢致陷阱中的载流子撤空引起的,这些能级在金刚石禁带中的陷阱是可以通过热处理消除的。  相似文献   
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