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891.
雷雪芹 《湘潭大学自然科学学报》2002,24(3):24-26
提出一类非负不可约周期三对角矩阵的逆谱问题,讨论了问题的可解性,并给出了问题有解的充要条件及算例。 相似文献
892.
提出了一个用频变负阻作为有源元件实现的无源梯形低通网络结构,而频变负阻只需要两个第二代电流传送器和三个无源元件.该有源RC低通网络具有无源低通原型的低灵敏度特性. 相似文献
893.
894.
895.
β-烷基对卟吩异构化的取代基效应 总被引:5,自引:3,他引:5
用AM1 MO方法和过渡状态理论研究了β-甲基和β-乙基对卟吩异构化反应的影响.具体计算了卟吩和这2个β-烷基卟啉异构化的反应势能剖面, 以及卟吩反应与它们的反应速率常数的比值.结果表明, β-烷基取代后, 活化焓因素对异构化反应是不利的,而活化熵是一个影响权重更大的因素.活化熵变化的本质是由β-烷基引起的相对构型无序造成的. 相似文献
896.
以^99mTc-BAT类和^99mTc-DADT类异构体脑显像剂为研究对象,采用计算机模拟技术,对^99mTc-配合物的静电水化能进行研究分析。结果表明:不仅^99mTc-脑放射性药物异构体脑吸收值与静电水化能有很大的相关性,而且^99mTc-配合物的syn和anti异构体脑吸收值比值对数与其静电水化能的差值亦呈线性关系。此外,从分子水平上探讨了影响^99mTc-放射性药物脑吸收值的重要因素以及不同^99mTc-配合特异构体间生物分布差异的原因,为^99mTc-脑显像剂的合理药物设计提供了参考。 相似文献
897.
898.
磁性多层膜中SiO2/Ta界面反应及其对缓冲层的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
磁性多层膜常以金属Ta作为缓冲层,利用磁控溅射方法在表面有300nm厚SiO2氧化膜的单晶硅(100)基片上沉积了Ta/NiFe/Ta薄膜,采用X射线光电子能谱(XPS)对该薄膜进行了深度剖析,并且对获得的Ta4f和Si2p的高分辨XPS谱进行计算机谱图拟合分析,结果表明在SiO2/Ta界面处发生了化学反应;15SiO2 37Ta=6Ta2O5 5Ta5Si3,该反应使得界面有“互混层”存在,从而导致诱发NiFe膜(111)织构所需的Ta缓冲层实际厚度的增加。 相似文献
899.
纳米晶体材料的有效弹性模量与界面效应 总被引:1,自引:0,他引:1
纳米晶体材料的很多性质与界面效应有关,从材料的微观结构特点出发,研究界面对材料的有效弹性性质的影响,首先,将纳米晶体材料看作一种两相复合材料,基体是具有不规则原子结构的界面相,夹杂是具有理想晶格的晶粒相,用Mori-Tanaka方法给出了有效模量的表达式,进而用应变梯度弹性理论,通过对纳米晶体材料的代表性胞元的分析,考察了应变梯度对材料变形行为的影响,分析了界面效应影响材料性质的两种微观物理机制,其一是界面相不规则原子结构的软化效应,其二是界面附近边界层存在引起的硬化效应。 相似文献
900.
纳米Fe-In2O3颗粒膜的磁性和巨磁电阻效应 总被引:3,自引:0,他引:3
采用射频溅射法制备了纳米“铁磁金属-半导体基体”Fe-In2O3颗粒膜,研究了Fex(In2O3)1-x颗粒膜样品的磁性和巨磁电阻效应,实验结果表明;当Fe体积百分比为35%时,颗粒膜样品的室温磁电阻变化率△ρ/ρ0数值达到4.5%,Fe0.35(In2O3)0.65颗粒膜样品的磁电阻变化率△ρ/ρ随温度(T=1.5-300K)的变化关系表达;当温度低于10K时,△ρ/ρ0数值随温度的下降而迅速增大,在温度T=2K时△ρ/ρ0达到85%,通过研究颗粒膜低场磁化率X(T)温度关系和不同温度下的磁滞回线,证实当温度降低到临界温度Tp=10K时,颗粒膜中结构变化导致磁化状态发生“铁磁态-类自旋玻璃态”转变,Fe0.35(In2O3)0.65颗粒膜样品的磁电阻变化率△ρ/ρ0在温度低于10K时的迅速增大,可能是由于纳米“铁磁金属-半导体基体”Fe0.35(In2O3)0.65颗粒膜样品处于“类自旋玻璃态”时存在特殊的导电机制所造成的。 相似文献