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101.
本文建立了高效有机吸附膜吸附数学模型,并与实验数据进行了比较,发现模型的数值计算结果与实验值基本相符,本模型具有较高的实用价值。 相似文献
102.
陈艳华 《辽宁师专学报(自然科学版)》2005,7(2):103-106
实验用氨水作沉淀剂,与氯氧化锆在常温条件下进行液相沉淀反应,制备纳米二氧化锆.实验优化出制备纳米二氧化锆的最佳工艺条件:反应物氨水和氯氧化锆的摩尔比为2:1;分散剂浓度为2g/L;焙烧温度为750℃;氨水浓度0.2mol/L;氯氧化锆浓度0.1mol/L,在此条件下可获得较为分散均匀的纳米二氧化锆. 相似文献
103.
104.
通过高分辨电子显微术(HRTEM)研究了Ti-21.7%(原子分数)H合金中γ氢化物与α-Ti基体之间的界面结构.取向关系为<2 0>α//<110>γ,{0 1 0}α//{1 0}γ的α/γ界面从[0001]α,[2 0]α和[2 3]α.三个方向进行观察.结果表明:(0 1 0)α/(1 0)。界面保持共格关系,并且发现γ氢化物的长大是通过α/γ界面上的台阶的形成和侧向扩展而进行的. 相似文献
105.
采用高速相机对水滴撞击水膜的飞溅过程进行了详细测量,分析了水滴撞击水膜的飞溅临界值、二次液滴的直径分布和二次液滴的速率等飞溅特性。结果表明,在实验参数范围内,当韦伯数增大时发生飞溅现象。此外,可以使用量纲为一参数K 来描述飞溅临界值,K=We·Oh-0.4。当K值大于2 100时发生飞溅现象,二次液滴的量纲为一直径和二次液滴的量纲为一速率随着K值的增大而增大。水膜量纲为一厚度对二次液滴直径分布的影响不明显,但由冠状水花产生的二次液滴的平均量纲为一速率随水膜量纲为一厚度的增加而减小。 相似文献
106.
文章采用可逆加成-断裂链转移聚合(reversible addition-fragmentation chain transfer polymerization, RAFT)方法,聚合得到以疏水性共聚物链段作为内核,亲水性共聚物链段作为支链的两亲性聚合物纳米颗粒,与氯化钆(Ⅲ)六水合物进行螯合反应后合成了一种新型的支化结构聚合物磁共振成像(magnetic resonance imaging, MRI)纳米造影剂P(DO3A-Gd3+)。安全性试验结果表明,P(DO3A-Gd3+)具有良好的生物安全性。体外MRI测试结果表明:P(DO3A-Gd3+)的弛豫率为5.30 (mmol/L)-1·s-1,高于临床造影剂Magnevist(2.94 (mmol/L)-1·s-1); P(DO3A-Gd3+)具有显著的MRI造影增强效果。研究结果表明P(DO3A-Gd3+)是一种优异的MRI造影剂,具... 相似文献
107.
红背桂树叶提取物绿色合成铁纳米颗粒(Fe NPs)在水环境修复领域具有很高的应用潜力。但由于Fe NPs存在团聚、易氧化等不稳定因素,在去除污染物时抑制了反应活性。为了解决这一问题,使用一步法制备了高岭土负载Fe NPs (K-Fe NPs),并系统地检测了其对孔雀石绿和Pb2+混合污染物的去除反应活性。采用X射线衍射(XRD)和傅里叶红外光谱(FTIR)对Fe NPs、高岭土和K-Fe NPs进行表征和分析。3种材料对比实验结果表明,K-Fe NPs对单独的孔雀石绿和Pb2+的去除效率(99.10%和93.41%)优于Fe NPs(93.67%和85.33%)和高岭土(32.54%和12.50%)。此外,K-Fe NPs经过4次重复循环对孔雀石绿和Pb2+的去除率仍分别为74.02%和55.48%。结果表明,K-Fe NPs在染料和重金属离子复合污染修复领域具有一定应用前景。 相似文献
108.
采用雪崩热电子注入技术和高频C-V准静态C-V特性测试,研究了新型快速热氮化的SiOxNy介质膜界面陷阱的特征,侧重于研究界面陷阱的特性与分布。结果表明:这种SiOxNy薄膜禁带中央界面陷阱密度随氮化时间的分布变化呈现”回转效应“,且存在着不同类型、密度悬殊很大的电子陷阱、指出雪崩热电子注入过程中在Si/SiOxNy界面上产生两种性质不同的快界面态陷阱;给出了这两种界面态陷阱密度在禁带中能量的分布 相似文献
109.
为了考察常压射流等离子体(APPJ)处理对PET膜表面诱导自由基及其引发接枝共聚反应的效能,采用电子自旋共振技术(ESR)对APPJ处理前后PET膜表面生成的自由基及其衰变行为进行测试分析,并与接枝率测试结果进行对比。结果表明:纯He气体的APPJ处理更易引发PET膜表面生成自由基,处理时间越长,膜表面自由基浓度越高,自由基产物的稳定性受存储条件影响显著,自由基浓度越高的样品对应的接枝率也越高。 相似文献
110.
用加热分解α-G2S3的方法在GaAs(100)表面上气相沉积了准单晶的GaS钝化膜。俄歇电子能谱深度分布测量表明,长成的膜与衬底间界面清晰。用紫外光电子能谱和低能电子能量损失谱结合的方法得到了完整的GaS/GaAs异质结能带结构图,即价带偏移1.5eV,导带偏移0.3eV,界面附近存在0.4eV的能带弯曲。气相淀积方法简单实用,有希望发展成为GaAs器件制作的有用工艺。 相似文献