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241.
采用RF磁控溅射技术制备含纳米硅的SiO2薄膜.通过对Si-SiO2复合靶的比分进行调节控制,并在不同的温度下进行高温退火得到不同粒径的纳米硅.利用XRD对样品进行分析得出纳米硅的平均粒径;对样品测量光致发光谱,其发光峰分别位于361 nm和430 nm,比较发现光致发光的峰位随比分的改变有微小的蓝移.文中对发光机理进行初步讨论.  相似文献   
242.
利用射频磁控溅射复合靶技术,通过调节复合靶的百分比制得富硅的氧化硅薄膜,并在不同的温度下退火,制得含纳米硅的氧化硅薄膜.通过Raman谱的测量,计算出800℃退火的薄膜中纳米硅晶粒的平均尺寸为5.6 nm,用X射线衍射测量同样的样品得出其粒径为6.0 nm.在室温下测量光致发光(PL)谱,探测样品的峰位为360 nm,并结合光致发光激发谱(PLE),研究相应的激发与发光中心.  相似文献   
243.
分析了表面活性剂、大分子以及表面活性剂-大分子复合体系在纳米粒子制备中的应用.研究表明,表面活性剂形成的胶束结构、大分子或表面活性剂和大分子形成的有序体均可以作为软模板,在制备纳米粒子中发挥模板作用和稳定保护作用.  相似文献   
244.
利用sol\|gel工艺, 在硅衬底上制备了纳米晶LaFeO3薄膜. 测试了在乙醇蒸气和NO2气氛下处理后的光电子能谱(XPS), 结果表明, 纳米晶LaFeO3 薄膜吸附乙醇后, 表面吸附氧含量明显降低, 铁含量略有下降; 吸附氧化性气体NO2后, 表面吸附氧和铁含量明显增高, 且存在三价铁离子向四价铁离子转化的趋势. 通过测试和分析表明, LaFeO3 的敏感机理不仅与表面吸附氧相关, 还与表面三价铁离子的变价有关.  相似文献   
245.
通过直流电沉积纳米晶铜实验,研究电解液pH值对电沉积速率和沉积层微观结构的影响。结果表明,电沉积速率随着电解液pH值的升高而下降。pH值为8.0时,沉积铜层具有明显的(111)方向织构,晶粒尺寸大于100 nm。随着pH值的升高,沉积铜层(200)晶面的择优取向程度不断上升,晶粒尺寸逐渐减小。pH值为9.0时,铜晶粒平均尺寸为44.2 nm。实验发现,电解液pH值的最佳范围为8.8~9.0。  相似文献   
246.
采用钛酸丁酯的溶胶-凝胶法及微波干燥制备了纳米TiO2光催化剂。通过XRD和BET进行了晶型、平均粒径和比表面积分析表征。以水杨酸为模拟污染物对其进行光催化降解活性实验研究表明,UV光照40min水杨酸降解率达到97%,催化剂重复使用4次水杨酸降解率仍能达到94%。  相似文献   
247.
SiO2掺杂对高温处理后纳米TiO2光催化性能的影响   总被引:3,自引:0,他引:3  
以钛酸丁酯为原料,用醇盐水解法制备纳米TiO2,用SiO2掺杂纳米TiO2.并对高温处理后的掺杂纳米TiO2光催化活性进行研究。XRD和TEM研究结果表明,SiO2掺杂能有效的提高晶相转变温度,阻止TiO2从锐钛矿型向金红石型的转变和晶粒的长大。实验结果表明,在1050℃高温处理后,SiO2掺杂后的TiO2仍为锐钛矿型纳米晶体。用掺杂纳米TiO2对甲基橙的降解率来表征其光降解性能,SiO2掺杂TiO2在高温处理后依然具有较好的光催化活性,850℃处理后其甲基橙降解率由未掺SiO2时的11%提高到96.48%,晶粒尺寸则由50nm减小到20 nm.  相似文献   
248.
用铝作为电极,用电凝聚对餐饮废水进行处理.在最佳运行条件下,电消耗量为0.232kw·h/m3,铝消耗量43mg/L,电解效率105%,CODCr平均去除率74%,NH3-N平均去除率53.8%,总磷的去除率85.1%,油的去除率86.1%.  相似文献   
249.
采用高度离子化脉冲工艺(H.I.P)在医用Ti6Al4V合金表面成功制备了AlTiN陶瓷涂层。采用电化学腐蚀方法用三电极系统对Ti6Al4V—AlTiN在模拟人体生理环境中进行抗侵蚀试验,并作出极化曲线与Ti6Al4V合金进行对比分析。分析表明:相同条件下,Ti6Al4V -AlTiN在模拟人体生理环境中的抗侵蚀性更加优异。  相似文献   
250.
GLASS TRANSITION TEMPERATURE (TG) HAS BEEN EXTEN- SIVELY STUDIED FOR MANY POLYMERS SINCE IT IS ONE OF THE MOST FUNDAMENTAL FEATURES RELATIVE DIRECTLY TO POLYMER PROPERTIES. IN GENERAL, INORGANIC NANOFILLERS DO NOT DI- RECTLY CONTRIBUTE TO THE TG OF THE MA…  相似文献   
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