扩链剂对UV固化聚氨酯性能的影响

以聚己二酸一缩二乙二醇酯-2000为软段,不同二元醇扩链剂和异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)为硬段,丙烯酸羟乙酯(HEA)封端,采用预聚体法合成UV固化聚氨酯.分析了不同二元醇扩链剂的相对动力学活性;通过红外光谱表征了光固化聚氨酯树脂的结构,研究了不同的二元醇扩链剂对光固化膜力学性能、耐热性能和使用性能的影响.结果表明,反应温度80℃,乙二醇(EG)与苯基异氰酸酯(PI)的反应速率最快,1,2-丙二醇(1,2-PEG)与PI的反应速率最慢;以1,4-环己烷二甲醇(CHDM)为扩链剂的聚氨酯膜力学性能和耐热性最好.     

牛小肠碱性磷酸酶部分性质研究

摘要：用正丁醇抽提、硫酸铵分级沉淀、EAE-32柱层析和Sephadex G-150 凝胶过滤,从牛小肠中分离纯化出牛小肠碱性磷酸酶（BIAP）.提纯倍数为50.69,比活力为48.87U/mg蛋白.酶液经SDS-PAGE呈现单一条带,且不含DNA核酸酶.该酶催化对硝基苯磷酸二钠（p-NPP）水解反应的最适pH值为9.7,pH小于6.5大于11.5均不稳定;最适温度为45℃,高于50℃不稳定.Km值为0.29mmol/L.45℃,pH9.7时最大反应速度（Vmax）为4.6μmol/(L•min).利用SDS-PAGE测定酶亚基的分子量为66KD. Mg2+、Mn2+和Ca2+对酶有不同程度的激活作用,Zn2+和EDTA对酶有抑制作用。随着Mg2+、Zn2+和EDTA浓度增加,270nm处紫外吸收值增加.     

EA/MMT纳米复合材料的制备及其光固化动力学研究

通过4 - 溴甲基二苯甲酮与二甲基正十八胺反应合成的季铵盐光引发剂苯甲酰苄基二甲氨基十八烷基溴化铵(BDOB),进行插层修饰蒙脱土(MMT),通过层间引发聚合法光固化制备环氧丙烯酸酯/蒙脱土(EA/MMT)纳米复合材料;利用红外光谱法对EA/MMT的光固化行为进行了研究.XRD和TEM分析结果表明,MMT在光固化复合材料中已得到插层和部分剥离;增加光引发剂浓度及提高环境温度均可提高其固化速率和双键最终转化率,氧气的存在使体系的诱导期延长,双键转化率降低;光固化反应总级数约为6～7,表观活化能为9.8 kJ/mol.     

环氧丙烯酸酯低聚物制备过程若干影响因素

在不同阻聚剂用量、投料比、投料方式等条件下合成环氧丙烯酸酯.对合成产物进行了红外光谱分析.制备了紫外光固化涂料,测定了固化膜的凝胶质量分数.结果表明,阻聚剂用量增加有利于提高酯化反应程度及固化膜凝胶质量分数,但当阻聚剂用量达到1.0%(质量分数)时酯化程度降低、固化膜凝胶质量分数降低.反应物中环氧树脂稍过量有利于提高酯化反应程度;当n(Er)∶n(AA)为1∶2.0时固化膜凝胶质量分数最高.将丙烯酸与催化剂、阻聚剂预先混合后再加入到环氧树脂中的投料方式有利于提高合成产物的酯化程度.     

紫外光固化抗静电涂料的研制

将紫外光固化涂料技术与抗静电技术相结合,研制了一种由光敏树脂、光敏交联剂、光引发剂、抗静电剂等组成的紫外光固化抗静电涂料,探讨了光引发剂的种类和用量与紫外光固化性能的关系,并对抗静电剂种类和添加量与涂膜抗静电性能的关系进行了研究。结果表明,所得紫外光固化抗静电涂料固化速度快,附着力强。涂膜抗静电性能优良,具有耐擦洗性。     

超声波—紫外光氧化处理有机废水技术综述

论述了超声波（US）降解有机污染物技术的原理和效果,以及国内外现状与发展趋势,指出超声波的“空化”作用是其主要的作用机制,超声波与其他作用如紫外光辐射、催化氧化等联合运用,可大大加速和提高有机污染物的矿化度,在处理难降解有机污染物和有毒有机污染物方面,特别是在净化环境、控制污染物方面有巨大的应用前景。     

紫外光固化水性聚酯丙烯酸酯的合成与感光性能

合成了一系列含有羧基的矛酯丙烯酸酯,并进上步制成水溶性紫外光固化树脂,研究了因体组分、中和剂、中和程度、树脂结构等对树脂水溶液性及感光性的影响。     

淀粉基可环境降解塑料研究Ⅱ--填充PE塑料的紫外光加速老化

研究了光敏剂诱发ＰＥ光降解机理以及改性淀粉、顺丁烯二酸酐等对填充ＰＥ塑料相态结构的影响;紫外光加速老化过程中试样拉伸强度、断裂伸长率随组成、光照时间的变化关系;认为合理地协调各填充组分的用量和关系,可实现填充ＰＥ塑料紫外光降解性能的可控制性。     

让刻瓷艺术再放光彩

人们对瓷器都很熟悉,包括实用瓷器和观赏瓷器.但要提起"刻瓷艺术"可能有些人就不太了解了.什么是刻瓷艺术呢? 刻瓷又叫瓷刻,顾名思义,就是在烧好的瓷器上直接雕刻,其内容包括书法、山水、人物、花鸟、动物、人物肖像等.可以说刻瓷艺术是从瓷艺术中派生出来的一门独立艺术,是绘画、书法艺术与瓷艺术相结合的产物,是用瓷作为载体,用刀錾等工具代笔作画的一种艺术形式,它既有书法、绘画艺术之美,又保留了瓷质自身之美.     

消像差光栅的波像差分析

波像差方法是M.Chrisp在研究超环面光栅的像差分析时提出的,采用像散面作为参考波阵面,发展了多元件系统波像差理论,是目前为止可以用来研究多元件系统像差分析的很好方法.在Chrisp波像差理论基础上,推导出二次曲面面型的变线距光栅的波像差表达式,讨论光栅面型和刻槽分布对成像特性的影响,最后介绍波像差方法在光学系统设计中的应用.