电磁相互作用体系关联函数的一种新解法

本文从BBGKY理论出发,借助于试探粒子的概念,提出了电磁相互作用体系关联函数的一种新解法,本工作是Rostoker和Rosenbluth工作的推广,并由此导出了计及电磁效应的Balescu-Lenard方程.     

微机控制离子质量数监控与锁定装置的研制

本文在离子注入机设备领域中,提出一种新的检测控制装置.用于解决VISI和LSI 芯片生产的离子注入机设备中确保掺杂的纯度;提高低剂量注入下重复精度及操作的自动化等问题.在离子注入机的头部高压包内,使用微机进行实时控制.即检测当前质量数,用闭环调节激磁电流的方法调整B,使被分选的离子质量数自动锁定在给定值.锁定精度与高质量数的范围,优于±0.3a.m.u.本文阐述了质量数锁定的理论,实施方法和数据采集、闭环控制、系统接口防护等主要技术关键问题.     

等离子体方法实现金属管件内表面改性研究进展

综述了近年来国内外利用等离子体方法实现金属管件内表面强化的研究进展. 介绍了几种管件内表面等离子体源离子注入和沉积技术，并对其优缺点分别加以分析. 详细介绍了中国科学院物理研究所等离子体物理实验室先后提出的几种等离子体源离子注入方法用于金属管件内表面改性的原理、技术特点及最新研究进展. 力图展望管件内壁离子注入技术研究的发展前景.     

微波低温等离子体裂解天然气制乙炔装置与工艺研究

随着石油资源的日渐减少和供需矛盾的日益增加,利用天然气合成化学品以减少经济发展过度依赖石油资源的局面成为各国普遍关心的课题。乙炔化工是我国化学工业的一个重要组成部分,它既是平衡我国庞大的氯碱工业生产的需要,又是以乙炔为原料进行聚氯乙烯(PVC)、醋酸乙烯、丙烯酸、1,4-丁二醇等大宗化学品合成的工业生产体系。仅以PVC为例,目前我国PVC产能为400万吨/年,需求量为600万吨/年,其中70%以上是采用乙炔为原料生产的。长期以来,国内基本上都是采用电石法生产乙炔。但电石法生产乙炔存在能耗高、环境污染严重的问题,难以继续发展。…     

聚焦离子束无掩膜注入单晶硅离子浓度深度分布的研究

随着聚焦离子束(focusedion beam,FIB)无掩膜微细加工能力的迅速发展,结合精确定位能力,FIB已成为新型且出色的纳米制造工具.对FIB无掩膜注入单晶硅衬底的注入效果与离子束流、注入剂量的关系进行研究发现,以固定能量注入的离子,当注入剂量恒定,离子浓度随深度的分布与离子束流大小无关;当离子束流恒定,注入离子的表面浓度随注入剂量的增加而增加,但是由于FIB注入的同时会刻蚀材料表面,注入剂量达到饱和值后,会造成材料一定程度的减薄.     

氩等离子体喷枪处理苎麻脱胶菌诱变的初步研究与实验中苎麻脱胶液的初步分析

作者在研究中发现常压等离子体喷枪产生的低温等离子体能够在常温和常压下诱变活体微生物。野生脱胶菌被这种喷枪产生的等离子体处理后用于脱胶在几天内能够产生很好的脱胶效果。在提取脱胶液的菌种时，作者在普通培养基上发现了一种金黄色微生物和一种灰白色微生物，这些菌种至少在形态学上不同于原始出发菌。经初步研究，作者发现这种灰白色菌种比出发菌和金黄色菌种更具脱胶能力。     

溅射效应对离子注入聚合物表面形貌的影响

采用MEVVA离子注入机引出的离子进行了聚酯薄膜改性研究,考虑到注入离子对表面溅射的强弱与离子的质量密切相关,所以选用质量大小不等的3种离子Cu,Si和C为注入离子,注入后的聚酯膜表面结构发生了很大的变化,用原子力显微镜观察了注入样品表面形貌的变化,表面粗糙度与注入离子质量密切相关.实验结果表明,注入前聚酯薄膜表面粗糙,表面突起密集地分布在表面,其高度可达20～25 nm,C和Si注入后表面突起高度下降到5 nm,随注入离子质量的增加,在注入层粗糙度增加,Cu注入后在表面形成了弥散分布Cu原子的析出纳米颗粒.Cu颗粒起伏高度可达到50 nm.这些变化对聚酯薄膜表面物理化学特性有着重要的影响.     

离子注入聚醚砜的射程分布和能量淀积

计算了15 keV N+和Ar+注入聚醚砜薄膜的射程分布和能量淀积分布,利用计算的结果说明了离子注入聚醚砜膜后,薄膜表面电导率增加(增加5个数量级)和光吸收率增加(最大吸收率从44%增加到82.5%)现象.     

非平衡等离子体化学研究现状与进展

现在人们研究的非平衡等离子体大多是在低气压（1.33 Pa～1.33 kPa）、低质量流量条件下,由射频（13.5 MHz）、微波（2450 MHz）以及交、直流高电压激发的辉光放电产生的,作为一种直接向反应体系施加能量的方法,已在等离子体化学合成与分解、溅射制膜、气相淀积、聚合与引发聚合、材料表面改性、沉积刻蚀和低温灰化等方面应用,取得了引人瞩目的应用效果.Maezono等人[1]在压力为0.08 kPa,Ar作     

DBD等离子体及其应用技术的发展

采用介质阻挡放电方法可以在高气压条件下获得低温非平衡等离子体 .它可以应用于等离子体化学、紫外光源、环境工程、高功率CO2 气体激光器等许多领域 .本文将对DBD等离子体的历史发展概况、基本特性、应用领域及现状、存在问题与发展趋势进行简要的介绍