三碱阴极量子产额谱的研究

本文讨论了Na_2KSb(Cs)光电阴极的量子产额。引进阴极结构参数P和单晶吸收系数α_p(hv),推导了半透明多碱阴极量子产额表达式。通过选择合适参数,求得的S_(20),S_(20R),S_(25),V_(aro),New S_(25)和LEP~*(＊法国电子学和应用物理实验室制备的三碱阴极)光电阴极的量子产额谱与实验完全一致。文中还计算了理想三碱阴极的量子产额。结果表明三碱阴极仍是很有发展潜力的实用光电阴极。     

“混用体系”中型砌块墙片有限元弹塑性分析

本文采用有限元法对伪静力试验所做的中型砌块墙片进行弹塑性分析计算，砌体中的灰缝单元采用了接触面单元。对“混用体系”中型砌块墙片中芯柱的作用进行了探讨和研究，并提出了一些设计建议。     

氟硼酸盐溶液中铅锡的阴极还原

在氟硼酸盐溶液中，以蛋白胨为添加剂，在铅锡合金电极上用恒电流法和电位扫描法研究铅锡的阴极过程，测定了合金的极化曲线和各金属的分极化曲线。结果表明金属的沉积过程受到电荷传递步骤的控制。测得ａ＝０．１４。证实氟硼酸本身不直接参加电极反应，但反应速度常数Ｋｆ与酸浓度成正比。     

真空弧镀过程中阴极耗损率的研究

在真空弧镀过程中，阴极耗损率随阴极材料特性、真空室的温度、压力、气体成分、阴极和阳极的结构等因素而变化。笔者测量了铜、铝、铁、镍、钼、不锈钢、软铁和黄铜等工程上常用镀层材料的阴极耗损率，并分析了弧电流强度、真空室内气体成分和压力等因素对阴极耗损率的影响。     

先张法预应力空心板施工过程控制

本文简单介绍了先张法预应力空心板施工工艺流程,施工过程程序分类;重点介绍了空心板施工过程控制。     

Na(THF)2(μ2-η5-Cp)(η5,η5,η1-Cp3Yb)(THF)]n: The synthesis and X-ray structure of an anionic organolanthanidepolymer formed via self-assembly

Cp2Yb·2THF reacts with CpNa in 1：1 molar ratio in THF at 40℃ for 2 h, and the in situ generated anionic divalent complex NaYbCp3（THF）n reacts further with an excess of CpH at 40℃ for 48h, after work-up, affording the trivalent anionic ytterbium complex[Na（THF）2（μ2-η^5-Cp） （η^5, η^5,η^1-Cp3Yb）（THF）]n：（1） by oxidation reaction of Cp2Yb with CpH. Crystal structure determination reveals that complex 1 has one-dimension polymeric chains of distinct Na（THF）2（μ2-η^5-Cp） （η^5, η^5,η^1-Cp3Yb）（THF） units, which were formed by the coordination of the bridging Cp ligand with Cp3Yb＇THF and Na（THF）2 in η^5,η^5 mode via self-assembly.     

Application of microfluidic chip to realize controllable pH gradient

A kind of PH gradient microfluidic chips through soft-lithography microfabrication for isoelectric focusing (IEF) and high performance liquid chromatography (HPLC) is introduced here. These pH gradient chips have the advantages such as easy fabrication, controllable pH range and precision, isoelectric focusing and separation at the same time, low voltage for isoelectric focusing, and time stable pH gradient. This method has potential application to sample preparation, separation and analysis of microfluidic chips.     

高电荷态离子40Arq+与Au表面作用产生的X射线谱

利用光谱技术研究了高电荷态离子⁴⁰Ar^q+(q= 16, 17, 18)离子入射金属Au表面产生的X射线谱. 分析结果表明, Ar的Kα-X射线是离子在与固体表面相互作用过程中在固体表面之下形成的空心原子发射的. 当电子组态为1s²的高电荷态Ar¹⁶⁺离子在金属表面中性化过程中, 存在着多电子激发过程使Ar¹⁶⁺的K壳层电子激发产生空穴, 进而级联退激发射 Ar 的 Kα特征 X 射线. 入射离子的Kα-X射线产额与其最初的电子组态有关, 靶原子的X射线产额与入射离子的动能有关.     

阴极微弧电沉积钇稳定氧化锆涂层

提出了一种新颖的阴极微弧电沉积技术（CMED）。利用该技术在FeCrAl 合金上制备出厚的钇稳定氧化锆（YSZ）涂层。研究结果表明,在试样上预先沉积YSZ薄膜，施加高压电脉冲时可以导致微弧放电；在微弧的作用下可以获得厚度达300μm具有晶态结构的YSZ涂层；高压电脉冲的电压值和频率决定了沉积涂层的厚度；电解液中添加硝酸钇时，发生ZrO2和Y2O3的共沉积，可使涂层中的t-ZrO2,t‘-ZrO2和c-ZrO2稳定到室温；提高电解液中Y（NO3）3的含量可以降低涂层中m-ZrO2的相对含量，研究了阴极微孤电沉积YSZ涂层的微观结构，分析了阴极微弧电沉积的基本过程及机理。     

以非晶态Ni-B合金阴极电解还原葡萄糖

实验采用化学镀镍法制备非晶态Ni-B合金电极，以此电极为阴极材料电解还原葡萄糖。结果表明非晶态Ni-B合金的电催化性能较晶态Ni优越，在温度为25℃，电流0．4A，电解90min，葡萄糖转化率达88．1％，电流效率保持87．5％。