一种玻壳研磨设备预防性维护周期的决策方法

针对传统的基于固定时间周期的玻壳研磨设备的预防性维护策略难以有效满足设备玻壳生产线优化的特点。本文研究了一种基于神经网络模型的玻壳研磨设备预防性维护周期动态决策方法。基于本企业运行数据验证表明，该方法对玻壳研磨设备的预防性维护周期进行动态决策是可行的，对降低玻壳研磨设备的预防性维护成本，提高研磨设备的利用率等具有重要作用。     

断层面上的研磨材料与断失翼的关系

断层两翼相对位移，在断层面上会留下两种研磨材料。一种是粗磨材料，它的“尾巴”形状的“尾”端指示对盘滑移方向；一种是细磨料－断层泥，断层泥的灰分增加方向，为鉴定盘位移方向。     

灵武煤制水煤浆级配技术研究

在提出间隙级配模型的基础上,用QQ4A／B轻型球磨机和PSI-200拍击式标准振筛机,分析了煤料粒度为0．1～1．0,0．3～1．25mm,m（钢珠）：m（煤）=8：1～12：1,研磨罐转速为90～110r／min,研磨时间为15-60min条件下,钢珠添加种类对研磨效率的影响;并用DV-1＋PR0黏度计测试了浆体黏度．结果表明,用直径间隙法可以获得较高浓度的水煤浆,其中钢珠添加种类为R1：R2：R3=1：0．414：0．291模式下水煤浆浓度较大．     

基于浮动平台的机器人恒力控制研磨方法

为了保证机器人研磨的控制精度,提高研磨工件的加工质量,研制了一种基于浮动平台的机器人研磨系统,提出线性自抗扰控制的恒力研磨策略.所研制的机器人浮动平台研磨系统主要包含机器人、力反馈传感器、研磨系统、浮动平台机构,以研磨系统为研究对象,建立机器人末端工件与磨盘接触的磨削力模型.基于此非线性机器人磨削模型设计扩张状态观测器,分析线性自抗扰控制算法的闭环稳定性,提出线性自抗扰恒力研磨控制律,并为验证所提出的方法进行了实验分析.研究结果表明:线性自抗扰控制研磨算法能实现有效的恒力研磨控制;与比例积分微分(PID)控制相比,线性自抗扰控制能显著地减少机器人稳定磨削过程中的力波动,大大降低了研磨工件的表面粗糙度.     

篮式砂磨机在陶瓷制浆中的研磨分析

针对中国工业陶瓷企业大多采用经过了粗选、粉磨等加工处理后的陶瓷原料,陶瓷制浆工艺由原来的粉磨为主的工艺转到了以分散为主的工艺的特征,提出了以篮式砂磨机为主体设备的陶瓷制浆方案.本文用SMA-0.75型实验室用篮式砂磨机进行了大量的α-Al2O3粉末的研磨工艺实验,用激光粒度分析仪、环境扫描电子显微镜表征了所研磨物料的粒度分布、形貌特征,从理论上分析了篮式砂磨机制备陶瓷浆料(α-Al2O3浆)过程中原料粒度分布与研磨时间、研磨体尺寸、研磨速度间的关系,获得了用篮式砂磨机研磨陶瓷原料的理想工艺条件,当采用直径为2.2 mmZrO2研磨珠,研磨转速为2 500±10 rpm,α-Al2O3粉末颗粒粒径下降效率最明显,物料研磨1 h后,D50粒径达到1μm.     

米糠素食丸子研制关键技术

米糠具有丰富且均衡的营养价值,其中蛋白、氨基酸、脂肪以及膳食纤维含量均高于稻米,与此同时,它还有一定药用价值,米糠相关产品的研发能够满足消费者对食品保健和营养的需求,有着很高的经济价值。为提高米糠及其相关资源的综合利用率,实验以全脂米糠作为原料,采用双螺杆挤压技术和胶体磨湿法研磨技术联用对米糠进行处理制取稳定化米糠粉,并着力研发一种营养丰富、可食用性强的米糠素食丸子。结果表明,各组分添加量对米糠素食丸子弹性及感官评定得分影响的显著性为:米糠与大豆组织蛋白添加比例淀粉大豆分离蛋白卡拉胶,优化得到的最佳配方为米糠与大豆组织蛋白添加比例为4:5、淀粉添加量为30%、大豆分离蛋白添加量为6%、卡拉胶添加量为1%。     

利用单滴法对研磨和电场联合破乳机理的研究

本文通过观察电场存在时Ｗ／Ｏ单滴在研磨剂材质片上的破裂情况，对电场和研磨联合破乳给予理论上的解释，说明其在液膜分离技术特别是原油脱水过程中是可行的     

磁性研磨的加工特性

磁性研磨是一种利用磁场中的磁性磨料对具有相对运动的工件表面进行光整加工的新技术，具有表面质量好、适应性能广泛的优点。     

高岭土细粉碎过程中的机械化学效应

研究了高岭土的细粉碎过程与机械化学效应。实验结果表明,粉碎过程能使物料发生粒径变小、比表面积增大,并且产生晶体结构畸变、热效应温度降低等一系列机械化学变化。以KB(a)-192 h试样为例,代表性粒径从3.2 μm降至0.95μm,比表面积从1.27 m~2/g增至3.38 m~2/g,脱去结构水的温度降低28℃。液相介质和助磨剂对粉体的机械化学变化都有很大影响。就热效应温度而言,粉碎处理192h后,KE系列试样降低12℃,KB系列试样降低17℃,可见丙酮比乙醇更有利于机械化学变化。KB(a)试样降低28℃,比KB系列试样降得更低,说明引入三乙醇胺作助磨剂,能促进机械化学反应。