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111.
阐述稳态变形及稳态强度的基本概念,提出用稳态强度进行震后砂土液化及边坡稳定性分析的思路和方法,即首先根据现场试验资料确定砂土的孔隙比或相对密实度,然后基于室内稳态强度线确定现场稳态强度曲线,最后根据震后驱动剪应力与对应的现场稳态强度的大小对比情况判别震后液化及稳定。另外,基于前人的研究成果给出了详细的计算流程图。  相似文献   
112.
库万军 《科学通报》1997,42(11):1216-1219
自从在CoFeSiB非晶丝(带)及FeCuNbSiB的纳米晶丝(薄膜)材料中发现巨磁致阻抗效应以来,GMI效应在实际运用中有广阔的前景,而且在理论上探讨GMI的起因也是非常有意义的,所以受到普遍的关注。非晶(纳米晶)软磁合金具有高的磁导率,在一定频率的交流驱动电流作用下,外加直流磁场阻碍了交流电流所感生的磁通量的变化,从而降低磁导率,提高趋肤深度,降低了交流阻抗,引起效应。及非晶薄带在不同的温度下热处理可以形成纳米级软磁合金,降低各向异性常数和磁致伸缩系数,提高磁导率,有利于GMI效应的出现。本文对以上三类材料进行不同温度下的热处理,研究GMI效应随外加磁场及驱动电流频率(f)的变化关系,并探讨GMI的来源。定义。  相似文献   
113.
陈国龙 《科学通报》1997,42(23):2497-2500
一阶模型论中,关于可数模型的讨论是一个重要课题。在这方面,对于可数饱和模型的研究已得到了一些意义重要的经典结果。在文献[1]中,Benda定义了比饱和模型的条件要弱一些的几乎饱和模型和满模型的概念,探讨了它们的一些相关性质,证明了如果一个可数语言上  相似文献   
114.
低饱和场巨磁电阻金属多层膜Ni80Fe20/Cu的结构与磁电阻   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用磁控溅射方法,获得了具有低饱和场巨磁电阻的Ni80Fe20/Cu金属多层膜,在室温下,其磁电阻和层间耦合状态随Cu层厚度的增加呈振荡变化,在Cu层厚度tCu=1.0nm,2.2nm时磁电阻出现2个峰值分别为19.4%和11.7%,饱和场约为6.4×10^4A/m和8×10^3A/m低温下(77K)磁电阻为33.2%和27.6%,系统地研究了NiFe层厚度和周期数对多层膜磁电阻的影响,用真空退火  相似文献   
115.
爆炸波在饱和土中与障碍物相互作用的解析法   总被引:1,自引:0,他引:1  
对爆炸波作用下饱和水土介质中的状态方程进行了适当的简化,解析得到了突如衰减三角形冲击荷载作用下,爆炸波遇刚性障碍的反射系数及障碍物的运动规律。  相似文献   
116.
磁性物体探测的线性求解方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用磁偶极子磁场的逆变公式,推导出通过物体磁场及其人梯度表示的用于解决磁性探测等问题中的线性方程组,解决了以往在求解该问题过程中缺乏清晰的理论模型及计算误差较大问题。在计算机上所作的模拟计算表明该方法是成功的。  相似文献   
117.
用两亚点阵MFT分析了R2Fe17-xMx合金的饱和磁化强度与温度的关系。得到了分子场系数nRR、nRF和nFF,计算出了居里温度,给出了分子场HR(T)、HFe(T)与温度的关系曲线。计算结果表明,在R2Fe17中用Al、Ga替代部分Fe离子后,分子场系数nFF明显增大,除Pr2Fe17的HR(T)外,分子场强度在很大温度范围内显著增加  相似文献   
118.
实验研究了铜对Ni-Mn系奥氏体无磁铸铁组织和电磁性能的影响,测定了不同加铜量时铸铁的磁化强度,当Ni、Mn量不足时,组织中出现马氏体,磁化强度较高,加入一定量的铜,马氏体消失,磁化强度降低,为用冲天炉生产无磁铸铁大型铸件提供了炉前质量控制的可靠方法。  相似文献   
119.
二维稀磁Ising亚铁磁体基态性质   总被引:5,自引:1,他引:5  
用有效场理论研究了二维稀磁Ising系统的基态磁性质和基态能量,计算了基态时相变补偿点随磁原子浓度的变化情况,得到了基态相图,给出了基态时磁化强度曲线,得到和相图自洽的结果,同时还给出系统基态能量曲线。  相似文献   
120.
高饱和磁化强度Fe16N2单晶薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
姜恩永   《科学通报》1996,41(4):370-373
尽管Fe_(16)N_2的结构早已为人们所知“‘,但对其研究的巨大兴趣则始于发现其奇异的高饱和 磁化强度(Bs一258 T严之后.制备高含量比川。的研究在块体和薄膜材料方面都很活跃l’ 4]. 然而,由于它是亚稳相,迄今只有日本Sllgita’领导的小组在半导体基片上制备出了Fe_(16)N_2单 晶薄膜,并验证了室温下其饱和磁化强度高达 29又大大超过 Slaterwaaling曲线.关于 卜;刀。是否具有如此高的饱和磁化强度值成为当个磁学理论界争论的一个热点风刁.作者曾详 细研究了溅射条件对氮化铁各相形成的影响闷,本文用溅射法制备出a‘’xe入单晶薄膜,井清 晰地观察到了沿[l叫和[110方向的电子衍射花样.磁性测量结果表明其饱和磁化强度值高 达 264~ 289 Wbha’.  相似文献   
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