化爆材料切削温度脉冲捕捉及其试验研究

针对化爆材料切削特点,研制出一种新型快速响应半人工热电偶.测试系统中引入相位超前校正网络,使整个测试系统的时间常数在2ms以内,能捕捉到很短的切削温度脉冲.用此测试系统做了切削温度脉冲捕捉模拟试验,并对影响切削温度的3个主要因素:切削速度、进给量、切削深度分别取4个水平做正交试验,结果表明影响切削温度的主要因素是切削深度,其次是切削速度,而进给量对切削温度的影响不显著.保持切削用量中2个因素不变,测量出切削温度随另一个因素而变化的特性曲线,得到了与正交试验完全相同的结果.     

基于GSM的温度采集与报警系统的设计

设计的基于GSM的温度采集与报警系统主要是基于LM3S811单片机,利用DS18B20温度传感器实时地采集当前的温度值,通过红外遥控和LCD12864构成一个简易菜单.当DS18B20所采集的温度值大于所设定的温度上限值或小于所设定的温度下限值的时候,系统会通过LCD12864显示出报警信息,并且向所设定的号码发送当前温度值信息,同时声光报警.通过系统测试,通过硬件系统测试,结果表明系统工作稳定可靠.     

基于乙醇填充的光子晶体光纤温度传感器

提出一种具有独立探头的反射式高双折射光子晶体光纤环镜结构,此结构利用乙醇的热光效应对光子晶体光纤双折射线性调制,双折射的改变引起Sagnac干涉系统光程差的变化,并导致光谱强度在某一温度区间随温度线性变化,实现了温度的高灵敏度测量.此结构克服了传统的环内结构易受外界扰动的缺点,并且使其在实际应用中搭建分布式传感系统成为可能.实验验证了乙醇的折射率随温度的线性变化规律,灵敏度为4.45e-4/℃;验证了填充乙醇后光子晶体光纤双折射与温度的变化规律,灵敏度为0.015 625/℃;验证了在20~40℃之间,输出光强随温度的变化规律,灵敏度为0.003 1 m W/℃.利用琼斯矩阵理论论证了干涉光谱的形成机理,得到干涉谱方程.     

基于STC89C52的自动水温控制系统设计与实现

文中以单片机STC89C52为控制核心,单线数字温度传感器DS18B20构成前置信号采集电路,固体继电器SSR构成后向控制电路,根据分段控制的思想简化复杂的增量型数字PID算法,对加热系统的水温进行控制。目标温度可在30℃~80℃范围内任意设定,静态误差小于1℃。经过实验测试,系统运行稳定,控制效果良好。     

耐高温补偿导线的选用

我公司浮法玻璃项目退火窑为洛建机承造,自试生产开始一直存在着种种问题。为此工厂及公司会同洛建机多次召开攻关会,商讨解决问题的办法;一直没有得到很好的解决。面对这种情况,我们积极组织人员排查和解决处理问题。后来经多次摸索和持续跟踪,确认温度控制系统存在问题。为此我们作了很多工作,查找资料学习并多方寻找设备在现场进行试验,确认上位机显示的部分温度不真实,对生产造成了误导。现场K型热电偶及耐高温补偿导线的连接存在问题,导致送到DCS系统的信号有误差。     

石墨烯对热电偶应用过程中提高计量性能的研究

石墨烯是科学家目前发现厚度最薄、机械强度最大、电子传输和传导热量性能最优异的一种新型二维纳米材料。其最新发现是人们在防腐蚀方面最有效的方法。热电偶在工业上作为常用的温度计,具有结构简单、使用方便、测温范围广等特点,但是除了使用方法和条件外,热电偶本身的测量灵敏度也会对其产生很大的影响,这会使得量结果存在较大误差。为消除材料本身带来的误差,本文从应用实际方面探讨石墨烯对热电偶在应用过程中提高计量性能。     

洁定4656型清洗机故障维修四例

本文介绍洁定4656型清洗机常见错误代码的解释、故障可能性分析及排查的思路。     

烟草用真空回潮机温度检测缓冲装置的设计

<正>新郑卷烟厂两台WZ1004A型烟草用喷射式真空回潮机在使用过程中经常出现温度检测不准确(偏高),真空回潮机内部的实际真空度已经达到了设计要求,设备抽真空系统却不能停下来,影响了下一步工作的进行和正常生产。经过检查发现,在真空回潮机内部的真空度很低的情况下,为温度传感器提供传热的温度检测缓冲装置中的传导水基本已蒸发完,只剩下很少一部分水浸泡着温度传感器的端部,致使真空回潮机内部的温度不能被准确检测出来。因此对温度检测缓冲装置进行了改造,以使温度传感器能够检测真空回潮机内部的真实温度。     

热敏电阻特性研究中数显装置的设计

将数字显示技术应用于热敏电阻的阻－温特性研究实验中，达到快速直观、灵敏度高、测量误差小的目的；同时，实验装置还可与计算机连接，实现数据的存储与处理．     

铜膜电阻温度传感器研制中的几个关键技术分析

本文分析讨论研制钢膜电阻温度传感器的几个关键技术和工艺,并说明光刻版的设计要与实验室的工艺条件相适应;蒸发源的纯度、镀膜室的真空度和基片的温度对镀膜的质量有重要影响;镀膜厚度对器件互换性有重大影响,光刻时要防止到蚀过量和刻蚀不足等.文中还公开了作者在这些方面的做法和体会.