首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   12726篇
  免费   366篇
  国内免费   806篇
系统科学   416篇
丛书文集   727篇
教育与普及   211篇
理论与方法论   36篇
现状及发展   56篇
综合类   12452篇
  2024年   70篇
  2023年   245篇
  2022年   268篇
  2021年   337篇
  2020年   237篇
  2019年   200篇
  2018年   128篇
  2017年   198篇
  2016年   235篇
  2015年   372篇
  2014年   668篇
  2013年   584篇
  2012年   684篇
  2011年   761篇
  2010年   720篇
  2009年   822篇
  2008年   858篇
  2007年   760篇
  2006年   613篇
  2005年   516篇
  2004年   439篇
  2003年   459篇
  2002年   447篇
  2001年   414篇
  2000年   388篇
  1999年   281篇
  1998年   262篇
  1997年   265篇
  1996年   257篇
  1995年   244篇
  1994年   196篇
  1993年   205篇
  1992年   160篇
  1991年   166篇
  1990年   136篇
  1989年   110篇
  1988年   102篇
  1987年   43篇
  1986年   24篇
  1985年   4篇
  1984年   1篇
  1983年   3篇
  1982年   2篇
  1981年   3篇
  1980年   4篇
  1978年   2篇
  1963年   1篇
  1958年   2篇
  1957年   1篇
  1943年   1篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 234 毫秒
61.
62.
散货船分轮装卸最佳方案的确定   总被引:1,自引:1,他引:0  
为保证散货船的船舶强度在装卸过程中不受过度疲劳的损伤,提出一种确定分轮装卸最佳方案的方法,它是通过对船舶强度在装卸过程中变化的“单调性”、“平稳性”、“均匀性”的依次综合判断来实现的.实例计算的结果表明方法中选用的参数能真实地反映强度变化的特点,此方法可行,为解决散货船装卸过程中船体结构的疲劳损伤问题提供了新的依据.  相似文献   
63.
254SMo是Avesta公司研制的一种新型高含金纯奥氏体不锈钢,因其在酸性有腐蚀的介质和含Cl离子中具有优良的耐晶间腐蚀性能,同时具有优良的抗点蚀;缝隙腐蚀和应力腐蚀开裂的性能。在生产可发性聚苯乙烯工厂中,应用于脱盐水的生成(含Cl离子)及膨胀罐、空压罐等压力容器中。  相似文献   
64.
本文讨论了生长曲线模型中多组数据对回归分析的联合影响问题,给出了度量准则及其化简式与统计解释,推广了已有文献中的有关结果.  相似文献   
65.
根据塑料挤出的特点,在编程实现对型材截面轮廓凸凹性自动判断的基础上,采用射线法与比例间隔法相结合的方法,确定流道入口圆周上型值点的位置.以三次多项式作为流道模腔型曲线的数学模型,依据流线型要求给出的初始、边界条件,得出型曲线的数学方程.构建了挤出模流道的三维参数化曲面模型.有限元分析结果显示,该方法创建的流线型流道模型,其流动稳定性和平顺性都优于直线型流道.  相似文献   
66.
关于复函数积分中值公式   总被引:1,自引:1,他引:0  
给出了复函数积分中值公式的“中值点”的渐近性,相信在复函数中有着很重要的作用。  相似文献   
67.
利用耦合不动点的方法得到了混合单调型算子的序补问题解的存在性.同时利用序补问题与隐变分不等式的关系给出了隐变分不等式解的存在性的新条件.  相似文献   
68.
ICP方法匹配深度图像的实现   总被引:3,自引:0,他引:3  
针对ICP(迭代最近点 )方法中寻找深度像之间点对应关系这一难点问题 ,首先介绍对ICP方法匹配深度图像的原理并给出单位四元数和旋转角度间的关系 ,然后提出一种验证两个深度图像中对应点对有效性的方法 ,给出了判断待匹配深度图像之间的点对应条件的准则 ,同时给出了实现这种准则的数据结构以及程序设计思想 .最后 ,用真实深度图像证明此方法的有效性 ,并用“主次缝合线”法合成匹配后的深度图像  相似文献   
69.
70.
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号