电化学沉积Cu-In-Se薄膜

采用电化学沉积方法在钼箔上制备Cu-Se、In-Se和Cu-In-Se薄膜,对电沉积的工艺参数进行了测试,发现Cu-In-Se是一种诱导共沉积,虽然沉积膜不具备化学计量比,但具有一定的光电性能.     

沉积盆地多次拉张模拟中拉张系数的计算

沉积盆地模拟中拉张系数是反映其构造热演化的重要参数.拉张系数β=初始地壳厚度/拉张后地壳厚度.对于只经历一次拉张的盆地而言,拉张后的地壳厚度即现今地壳厚度,很容易求得β.而沉积盆地往往经历不只一次而是多次非均匀拉张,那么各次拉张系数的计算就很难用简单的公式来计算.另外,沉积盆地由于拉张,引起岩石圈减薄和初始沉降,同时引起温度场的变化.随着时间的推移,温度场的变化又引起热沉降.构造沉降和温度场是     

论砂金矿物的表面生长结构和砂金矿床成因

经对采自砂金矿床，金矿床氧化带和块金（狗头金）样品的观察研究，特别是采用电子显微镜进行精细矿物学研究后发现，所研究的样品无一例外地均具有代表性，它是表生电流动溶液中生成的表面生长结构图象，证明它们均是在天然水系和开放式物化环境中白含金溶液不断的淀积作用生成的。因而砂金颗粒均属表生条件下形成的溶液沉积矿物，砂金矿床从成因上说应属表生化学沉积矿床。砂金颗粒是在原地生成的。金粒表面生长结构应作为标型特征。     

层流中粉尘的火焰传播速度

建立了筛落式粉尘火焰试验装置和火焰信的号光电测量系统。提出确定火焰前沿位置的“最大斜率切线法”和判定火焰传播稳定性的“相对入射能量法”。测定了硅钙粉和煤粉的火焰传播速度和火焰厚度。结果表明数据合理,测量装置和方法可用于速度范围很宽的粉尘火焰传播研究,用修正的田中达夫模型计算的硅钙粉层流火焰传播速度与实验值接近。     

镁合金表面热喷涂WC-10Co-4Cr粒子沉积及分布特性

为了探究高速空气燃料热喷涂（AC-HVAF）过程中喷涂粒子撞击基材后的沉积特性。采用AC-HVAF热喷涂技术在AZ80镁合金基体上沉积WC-10Co-4Cr硬质涂层。通过离散沉积实验获得薄层沉积粒子,探讨各种沉积形貌的种类、形成原因、结合机制及射流中粒子的径向和轴向分布。结果表明：在AC-HVAF粒子沉积过程中,嵌入型沉积为主要的沉积形貌,同时包含少量的破碎型与空腔型沉积粒子。在涂层的形成过程中,嵌入型沉积对涂层/基体结合性能起重要作用;空腔型沉积的小颗粒及破碎型沉积的大颗粒是造成沉积效率下降的主要原因。喷涂粒子主要集中在射流中心,越靠近射流边缘,空腔型沉积粒子越多,最终导致AC-HVAF粒子射流呈现出空间分布特征。     

电化学原子层外延及Te,CD元素欠电势沉积研究

阐述了一种处延沉积化合物半导体的新方法－电化学原子层外延（ＥＣＡＬＥ）并对其基础欠电势沉积（ＵＰＤ）进行了讨论,着重研究了Ⅱ,Ⅳ族元素Ｃｄ,Ｔｅ的电化学欠电势沉积,根据电化学循环伏安曲线,研究了Ｔｅ和Ｃｄ在Ｓｉ－Ａｕ（１１１）基片上以及交替生长过程中ＵＰＤ沉积电位及相应覆盖度值,由此确定了在Ｓｉ－Ａｕ（１１１）衬底上交替沉积Ｔｅ,Ｃｄ原子层的方法,在此基础上,初步进行了多次交替沉积,并用ＡＦＭ与Ａ     

用边界层理论计算平底闸孔出流的流量

应用边界层理论,对闸孔出流的水力计算方法进行了分析,得出了用边界层厚度表示的流量计算的表达式。该计算式物理意义明确、计算简单,经验证与试验结果一致。     

新一代存储媒体DVD

DVD光碟大小和厚度与CD一样,但是其存储容量可达4．7GB至17GB,远远超过CD的680MB。CD数据轨道间距是1．6um,轨道的凹坑长度0．834um,而与之相对应的DVD则分别缩到了0．725um和0．6um。此外,DVD还采用了更为有效的EFMPLUS信号调制方式和RS-PC误差校正方法,     

冷带轧机液压厚控系统动态数学模型分析与测试

分析了液压厚度控制系统动态数学模型．并与频率特性测试仪所测结果做了比较．得出了实用的被控对象结构图．为厚度控制系统的设计提供了理论依据．     

水平管内环状流下两相强制对流蒸发的理论研究

分析了液膜内动力和换热特性,提出了一种环状流下的两相强制对流蒸发的６层速度分布模型,并利用比拟理论进行了分析和计算,预测其换热系数,通过与数据对比,结果表明预测值与实验数据有较好的一致性。