南图尔盖盆地SA区块河道砂体演化及定量刻画

针对河道砂体横向变化快而难以有效刻画评价的问题,综合应用分频检测、相位调整、地层切片及地质体雕刻等技术对南图尔盖盆地SA区块上侏罗统阿克萨布拉克组河道发育特征及期次进行了研究。首先,利用分频方法检测出目的层段可能存在的两期调谐厚度不同的河道沉积体;然后,采用波阻抗分析和90°相位转换,揭示目的层段地震负振幅与河道砂岩具有较好的对应关系;最后,在高频层序地层格架内制作等时地层切片的基础上,通过河道沉积特征及典型地层切片振幅的单井标定分析,识别并分期刻画出两期不同类型的河道砂体。结合河道弯度、宽厚比及储集体积等参数综合分析认为,早期河道具有低弯度曲流河特征,晚期河道为具有平直河特征的三角洲平原分流河道,且早期河道储集体积明显高于晚期河道。     

假塑性流体液滴撞击壁面上的铺展的格子Boltzmann模拟

流体液滴在壁面上的铺展与沉积在工业应用中存在广泛应用,研究非牛顿流体特性对液滴铺展的影响具有重要的实际意义。基于相场法建立了非牛顿幂律流体与牛顿流体的两相流格子Boltzmann模型,引入包括接触角影响的边界条件,模拟了假塑性流体在幂律指数（n）0.5~1.0以及韦伯数（We）5~45时液滴撞击壁面的铺展过程。结果表明：相对于牛顿流体,幂律流体的非牛顿特性会抑制液滴的铺展,且n越小,越有利于液滴沉积。此外,韦伯数越大,液滴越快地达到稳定。     

盆地沉积土的动参数试验分析

在重大工程进行抗震设计的过程中，土的动剪切模量与阻尼比是最为基础性的数据。该文以昆明滇池湖盆地区的重大工程为例，对该地区的多种新近沉积土进行了动剪切模量和阻尼比试验，为该地区经济在经济快速发展的过程中新建重大工程提供抗震设计数据。     

国外期刊亮点

正科学家制成新型小巧高阻电阻器伦敦纳米技术中心的研究人员为量子电路制作出一种新型小巧的高阻电阻器,可使用于量子相位滑移电路(QPS)中。研究成果发布在12月14日的Journal of Applied Physics上。研究人员使用雾化喷射沉积技术制作氧化铬薄层电阻。他们发现通过控制薄层中氧原子的成分浓度,能够调节氧化铬薄层的电阻,氧原子的成分越多,电阻阻值就越高;从而使用氧化铬的复合物制作出具有高     

金刚石膜的六十项性状指标和百项相关成膜因素

为了表征金刚石膜性能的稳定性,本文给出了六十项性状指标和百项相关成膜因素、因果值A、制膜效果作为比较平台。发现沉积腔中气流有喘息、电弧转速有进动。磨耗比E值随测量过程而变。影响膜质的温度有22种。该平台为比较金刚石膜的稳定性找到了依据,不仅方便了技术交流、推动了膜品相的提高和制备技术的进步、还为标准的建立提供了方便和技术储备。     

滚子轴承内圈滚道凸度磨削砂轮的修整

分析轴承失效的原因与轴承滚道凸度的作用,分别介绍数控轴承磨床砂轮三位修整器的调试方法,砂轮凹度修整的工作原理,轴承套圈外圆表面磨削砂轮的修整,砂轮厚度的修整。     

苏丹Muglad盆地Moga地区Abu Gabra组二段层序及沉积微相

为了探究Muglad盆地Fula凹陷Moga地区岩性-地层圈闭的勘探潜力,利用11口钻井资料,参考地震资料,运用层序地层学、沉积学理论和方法,将Abu Gabra组二段自下而上划分为ag2-3、ag2-2、ag2-1四级层序,每个层序均以最大湖泛面为界划分为湖泊扩张体系域(ESTa2-3、ESTa2-2、ESTa2-1)和湖泊萎缩体系域(SSTa2-3、SSTa2-2、SSTa2-1)。Abu Gabra组二段发育的沉积相类型为辫状河三角洲、湖泊相和湖底扇;各四级层序体系域地层厚度分布特征均反映了东北高西南低的总体古地貌特征;古地貌控制了沉积相带的分布:ESTa2-3体系域,东部和北部发育辫状河三角洲,向西、南相变为较深湖,Moga-8井附近还发育湖底扇;SSTa2-3和ESTa2-2体系域,东北部发育辫状河三角洲,西南部发育滨浅湖砂质滩坝;SSTa2-2、ESTa2-1、SSTa2-1体系域,东北部和东南部均有辫状河三角洲发育,SSTa2-2、ESTa2-1体系域Moga-8井附近发育湖底扇,SSTa2-1体系域Moga-8井附近发育砂质滩坝。     

低压热丝化学气相沉积法快速合成1-2层石墨烯薄膜

利用镍衬底独特的渗碳-析碳机制,分别引入混合气体氢气和乙炔,使用低压热丝化学气相沉积法(LPHFCVD),在镍衬底上生长石墨烯(Graphene)薄膜。通气时长分别为5s,60s,300s,极大地节省了时间和成本。制备的样品分别通过拉曼光谱(Raman),X光电子能谱(XPS),扫描电镜(SEM)等分析表征手段对其结构、形貌、缺陷等进行表征。拉曼光谱表明石墨烯薄膜的D,G,2D峰在不同温度、不同反应时间条件下不同的层数、缺陷密度和结晶质量,其中以950℃,5s的条件制备得到的石墨烯薄膜为1-2层,且缺陷极少,结晶质量很高。XPS的结果进一步确认了按照以上条件制备的石墨烯薄膜具有很高的结晶质量和很低的缺陷密度。SEM则显示了在镍衬底上制备石墨烯薄膜的形貌。     

铜箔预处理对石墨烯质量的影响研究进展

石墨烯因其独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点。铜箔作为一种在化学气相沉积(CVD)法制备石墨烯中广泛采用的衬底材料,表面形貌直接影响石墨烯的质量。基于近几年CVD法制备石墨烯的研究进展,综述了铜箔的主要预处理方法及其对石墨烯质量的影响。介绍了商用超光滑锂电铜箔在石墨烯制备中的应用,并对其应用前景进行了展望。     

微接触压印法制备ZnO纳米线二维光子晶体

采用基于微接触压印的一种新工艺制备了ZnO纳米线二维光子晶体,工艺包括两个步骤:第一,利用Zn(AOc)_2溶胶作为墨水和PDMS作为印章,通过微接触压印技术在ITO衬底上制备图形化的ZnO种子层;第二,采用80℃的低温水热法在图形化的ZnO种子层上选择性的生长ZnO纳米线,获得ZnO纳米线二维光子晶体。测试结果表明:通过优化后的工艺,实现了微结构完整的图形化ZnO种子层;通过短时间的水浴生长实现ZnO纳米线二维光子晶体。由于光子晶体的多重散射效应,透过ZnO纳米线光子晶体的光波呈周期性震动的光谱曲线与带状色散条纹。