非放射性红色荧光粉的合成和发光

本文采用特殊的灼烧工艺，在还原气氛准封闭体系中合成了SrS:Eu,Er非放射性红色荧光粉，用365nm紫餐光激发，测试了样品的发光特性，其实验结果表明，SrS,Eu,Er荧光粉的发射光谱主峰位在620nm,色坐标x＝0.620,y＝0.375，余辉时间为3h，采用半导体平面工艺技术进行SiO2包膜，改善了荧光粉的稳定性。     

Blue emission from hydrogen-containing a-Si：H／SiO2 multilayers and the investigation of its mechanism

A series of hydrogen-containing a-Si:H/SiO2 multilayers with different a-Si:H sublayer thickness were fabricated by layer-by-layer deposition and in situ plasma oxidation in a plasma-enhanced chemical vapor deposition system (PECVD). Optical induced blue emission from the samples was observed by the naked eye at room temperature, which has never been reported in the luminescence study of Si/SiO2 multilayers up to now. Both the photoluminescence (PL) peak and the absorption edge show a blue shift as the a-Si:H sublayer thickness decreases. The origin of the blue emission and the effect of hydrogen are discussed.     

Reverse Programmed SONOS Memory Technique for 0.18 μm Embedded Utilization

A 4 Mb embedded silicon-oxide-nitride-oxide-silicon (SONOS) memory was developed with a 0.18 μm CMOS logic compatible technology. A reverse programming array architecture was proposed to reduce the chip area, enhance the operating window, and increase the read speed. The charge distribution was analyzed to optimize the programming and erase conditions considering both the operating speed and the endurance performance. The final test chip has a good endurance of 105 cycles and a data retention time of at least 10 years.     

酸性条件下合成介孔氧化硅的孔结构及其调湿性能

以十六烷基三甲基溴化铵作模板剂,采用酸性常温法制备介孔氧化硅材料SH,通过添加TMB扩孔剂对其进行改性得到SH TMB,分别测试其吸湿、放湿性能,并采用小角度XRD、TEM、B.E.T.等测试手段研究其孔结构、比表面积和孔径分布等,分析微观形貌与其调湿性能之间的关系。结果表明:酸性条件下合成的介孔氧化硅SH有着很好的吸湿放湿性能,并且添加TMB后其湿度调节能力增大。     

一氧化硅制备的研究

ＳｉＯ是一种宽带隙半导体光学材料，广泛用于真空镀膜：Ｄ－Ｔ核反应绝对测量囚禁放射性氘的气体靶窗［１］；激光增透膜和反射膜；无线电元件、玻璃、塑料和纸类等基体的保护膜、绝缘膜，及装饰膜的原料．由于ＳｉＯ的生产条件苛刻，而多限于实验室制备［２，３］，不能满足市场需要，因此我们在由实验室条件过渡到规模生产过程中，对制备较高纯度（９９．９％）的ＳｉＯ条件进行了研究和改进．以下简述制备ＳｉＯ过程中的化学反应及其压力、温度和反应时间对产品质量的影响．１制备方法１．１制备流程原料－纯化－配料－预制反应物成形－…     

纳米粒子在真丝防皱整理中反应浓度与时间的效应

以马来酸酐为防皱整理剂，以纳米氧化硅作催化剂，在配方中加入适量的渗透剂和乳化剂，在取不同的纳米氧化硅浓度和烘焙时间的条件下对真丝织物进行防皱整理。测定处理后织物的折皱回复角和断裂强度，对结果进行分析讨论，优选得出最佳防皱效果的最佳工艺条件。     

PETEOS发射光谱分析

现场采集ＰＥＴＥＯＳ发射光谱，分析和研究用等离子体正硅酸乙酯淀积氧化硅反应的机理和产物，并初步探究如何达到工艺控制，应用于生产的问题。     

氧化硅纳米多孔材料表面的水蒸气吸附动力学研究

采用称重法对氧化硅纳米多孔材料在温湿环境中的水蒸气吸附规律进行了实验研究.在25℃分别测定了不同孔隙率的材料在水蒸气相对蒸汽压为0.3～0.9范围内的吸附动力学曲线.分别采用不同的多层吸附等温式对材料的吸附等温线进行拟合,提出了一种双指数衰减动力学吸附模型方程,并和准一/二级动力学吸附模型一起对实验结果进行了拟合.结果表明:Redlich-Peterson、Fritz-Schlünder吸附等温式和BET多层吸附模型的拟合相关系数较大;BET多层吸附模型的拟合参数可给出单层饱和吸附量和吸附层数,吸附等温线由单层到多层存在临界点,具有明显的物理意义;氧化硅纳米多孔材料对湿空气中水蒸气的动态吸附过程可由双指数衰减模型来描述,与实验数据的相关系数在0.99以上,在整个吸附过程中均与实验数据拟合良好.     

中空介孔ZnO@SiO2微球的制备及其光催化性能

通过三嵌段共聚物P123和PAA两种超分子在乙醇中形成协同模板体系,以溶胶凝胶法成功制备了中空介孔SiO_2微球.通过溶液吸附和高温煅烧的方法将纳米ZnO负载在SiO_2中空球结构中获得ZnO@SiO_2纳米粉体.用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、静态氮气吸附仪和紫外-可见漫反射(DRS)对产物的物相组成、微观形貌、比表面积、带隙宽度等进行表征.结果表明:通过负载的方式,样品的比表面积从208 m~2/g提高到253 m~2/g,孔径分布更加均匀,纳米ZnO高度分散在SiO_2载体中,提高了样品的紫外光催化活性.通过在不同乙酸锌浓度下制备的样品对比表明,在40 mmol/L物质量浓度的乙酸锌溶液中所制得的紫外光催化活性最高,在100 min内可以有效降解亚甲基蓝溶液.     

介孔固体新材料氧化硅气凝胶的研究

氧化硅气凝胶是一种低密度、高孔隙率的纳米非晶固态材料,也是一种极具应用前景的介孔固体材料．采用溶胶－凝胶法和超临界干燥技术,制备出品质优良的二氧化硅气凝胶,采用ＸＲＤ、ＴＥＭ、ＢＥＴ等手段对样品的比表面积、孔隙率及力学性质等进行了初步研究．