6-羟基水杨酸-EDTA体系导数荧光法测定铽、镝

开发了6-羟基水杨酸-EDTA导数荧光法测定铽、镝的新体系,铽、镝的检测限分别达到1和50ng/ml。应用本法测定了稀土矿物等试样中的铽、镝含量,回收率96～108％,相对标准偏差小于4.2％。     

AlF3—PbF2—SiO2系红外玻璃的研究

以（ＮＨ４）３ＡｌＦ６、ＰｂＦ２及ＳｉＯ２为原料,制取了一种新型红外玻璃体系,并对该玻璃的成玻区域、Ｘ－射线、红外光谱、热稳定性和稳定性性进行了研究报道。     

乳化剂OP存在下二安替比林甲烷推动镝（Ⅲ）在油／水界面的转移

本文用循环伏安法研究了中性载体二安替比林甲烷络合推动Ｄｙ（Ⅲ）在水／硝基苯界面的转移及其中性表面活性剂乳化剂ＯＰ对其电迁移过程的影响。     

半导体使用气三氟化砷的研制

以砷单质和氟气为原料,采用气固法制备三氟化砷,研究了反应温度和反应物氟气压力对反应的影响。结果表明,制备AsF3的最佳条件：反应过程温度控制在300℃左右,氟气压力控制在0.1MPa。此条件下,得到纯度99%以上的三氟化砷产品。     

X52管线钢仿生超疏水表面的制备

采用喷砂毛化处理、化学刻蚀和氟化处理复合法在X52管线钢表面成功地制备了超疏水表面.十七氟癸基三乙氧基硅烷(HFTTMS)对其表面进行低能化修饰.研究了化学刻蚀液浓度、化学刻蚀时间对管线钢表面形貌及表面与水的润湿行为的影响.结果表明,在一定的盐酸浓度下,随着化学刻蚀时间的延长,管线钢表面与水的接触角增大;然而当化学刻蚀时间过长,管线钢表面与盐酸反应过久,表面微结构的复杂程度减小,接触角将减小.随盐酸浓度的升高,管线钢表面与盐酸反应变得剧烈,表面微观形貌变得复杂,分形维数增大.当盐酸浓度过高时,表面微细凸起结构又被腐蚀掉,导致表面复杂程度降低,分形维数下降,与水的接触角随之减小.试样在7 mol/L的盐酸中刻蚀1.5 h后,喷砂毛化管线钢表面能获得最佳的表面复合结构,经氟化处理后,与水接触角为156.4°,获得良好的超疏水性.     

二(顺丁烯二酸异丙酯酰氧基)-异丙氧基镝与甲基丙烯酸甲酯共聚物的研究

二(顺丁烯二酸异丙酯酰氧基)-异丙氧基镝(DID)与甲基丙烯酸甲酯(MMA)共聚制得含镝共聚物.用FT-IR、GPC、XPS对其结构进行表征,并研究了其热性能、透光性能和荧光性质.实验结果表明,含镝共聚物是一种具有优异热稳定性和高透光率,以及发射Dy(Ⅲ)离子特征荧光的高分子材料.     

共沉淀法合成La2O2S∶Tb3+荧光粉

采用共沉淀法合成了La2O2S∶Tb3+绿色荧光粉并进行了相关表征.结果表明,合成样品的晶体结构与La2O2S相同,属于六方晶系.颗粒的形貌多为长方形或矩形,结晶性能良好,晶粒大小2～10 μm.发射光谱由波长为490 nm、544 nm、587 nm、621 nm的一系列锐发射峰组成.最佳掺杂浓度x(Tb3+)为0.05 ～0.06.低浓度的Dy3+离子对La2O2S∶Tb3+荧光粉的绿色发光有敏化作用,Dy3+的适宜掺杂浓度x(Dy3+)为0.001 ～ 0.008.     

氟化锶纳米板的高压相变行为研究

利用原位高压同步辐射X-ray衍射方法对合成的氟化锶纳米板进行高压结构相变研究,发现纳米板在6. 3 GPa和27. 7 GPa发生由立方相到正交相再到六角相的两次结构相变,卸至常压后相变是可逆的.拟合后得到立方相和正交相结构体弹模量分别为85(3) GPa和77(3) GPa.氟化锶纳米板在高压下表现出与体材料相同的相变行为和压缩特性其原因是制备的纳米板存在较多的缺陷,其缺陷的影响与氟化锶体材料中缺陷的影响相同,压力下缺陷处应力较大,导致相变发生.     

氟化度及单轴应力对氟化石墨烯结构稳定性和能带的影响

采用基于密度泛函数理论的第一性原理,通过计算研究了四种(Chair、Zigzag、Boat、Armchair)双面全氟化石墨烯(N_C∶N_F=1∶1)构型,发现Chair型氟化后的石墨烯构型最稳定。在此基础上,系统研究了以Chair形式氟化时不同氟化度和单轴应力对氟化石墨烯结构稳定性与能带的影响.计算结果表明:氟化度越高氟化石墨烯结构越稳定,且双面氟化石墨烯较单面氟化更稳定。对构造的全氟化石墨烯体系沿X方向施加压(拉)应变时,石墨烯体系的起伏高度随单轴应变的增加而减小,导带底和价带顶均发生微小移动、带隙逐渐减小,带隙在轴向压应力作用下减小得更快.     

二（顺丁烯二酸异丙酯酰氧基）—异丙氧基镝与甲基丙烯酸甲酯？…

二（顺丁烯二酸异丙酯酰氧基）－异丙氧基镝（ＤＩＤ）与甲基丙烯酸甲酯（ＭＭＡ０共聚制得含镝共聚物。用ＦＴ－ＩＲ、ＧＰＣ、ＸＰＳ对其结构进行表征，并研究了其热性能、透光性能和荧光性质。实验结果表明，含镝共聚物是一种具有优异热稳定性和高透光率，以及发射Ｄｙ（Ⅲ）离子特征荧光的高分子材料。