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81.
对一般Monoid分次环R(未必有1),给出了其分次素根NG(R)和分次Brown-McCoy根的元素特征刻划。  相似文献   
82.
该文采用亚硫酸氢钠加成法从紫苏油中单离出紫苏醛,并以此为原料,通过肟化反应合成了超级甜味剂1,8对艹孟二烯7肟.文中对合成工艺的最佳技术条件进行了报导.  相似文献   
83.
给出了一般形式下二体相互作用玻色系统对角化的一般方法,讨论了能对角化的条件,得到了制约耦合系数的两个关系式。  相似文献   
84.
本文将文[1]给出的拟紧概念推广到α-拓扑空间,证明了它是L-好的推广并且它对于正则闭子集是可遗传的.在LF-半正则空间中讨论了强拟紧集与强F紧集的等价性。  相似文献   
85.
通过3 丁酰基吡咯单体与4 醛基4’ 二甲氨基偶氮苯的缩聚反应合成了一种侧链含偶氮基团的新型聚吡咯甲烯衍生物———聚[(3 丁酰基吡咯 2,5 二)对二甲氨基偶氮苯甲烯](PBPDMAABE).与无取代基的聚[(吡咯 2,5 二)对二甲氨基偶氮苯甲烯]相比,该聚合物的溶解及成膜性能得到了很大的改善.PBPD MAABE的分子结构通过氢核磁共振谱和红外光谱得到了确认.由聚合物紫外 可见吸收光谱测得其光学禁带宽度为1 82 eV.采用后向简并四波混频(DFWM)技术测试了聚合物溶液与薄膜的三阶非线性光学性能,其浓度为3 65×10-5 mol/L的氯仿溶液和薄膜的三阶非线性极化率分别为 2 12×10-8 esu和 3 91×10-8esu.通过理论计算可得 PBPDMAABE 的二阶超分子极化率和非线性折射率分别为 2 68×10-25 esu 和5 47×10-7 esu.实验结果表明,PBPDMAABE具有优良的非线性光学性能.  相似文献   
86.
针对目前微电子机械系统(MEMS)制造中存在的三维加工能力不足的问题,将压印光刻技术和分层制造原理相结合,研究了三维MEMS制造的新工艺.采用视频图像原理构建了多层压印的对正系统,对正精度达到2μm.通过降低黏度和固化收缩率,兼顾弹性和固化速度,开发了适用于微压印工艺的高分辨率抗蚀剂材料,并进行了匀胶、压印和脱模工艺的优化实验.通过原子力显微镜对压印结果进行了分析,分析结果表明,图形从模具到抗蚀剂的转移误差小于8%,具有制作复杂微结构的能力,同时也为MEMS的制作提供了一种高效低成本的新方法.  相似文献   
87.
邻、对甲酚与对二甲苯固液平衡   总被引:1,自引:0,他引:1  
为结晶提纯邻甲酚和对甲酚,采用差示扫描量热法测定了邻甲酚和对甲酚分别与对二甲苯二元固液平衡数据,同时绘制出相应的简单低共熔型二元相图.低共熔组成和温度为:邻甲酚 (x) 对二甲苯 (1 -x),x=0.420 5,T=271.82K;对甲酚(x) 对二甲苯(1-x),x=0.459 8,T=272.52K.采用Ott方程对固液平衡数据进行关联,温度标准偏差不大于 0. 8K;根据固液平衡热力学基本关系,应用UNIFAC基团贡献法计算溶液活度系数,所得固液平衡计算值和实验值比较接近,说明UNIFAC法对以上体系是适用的.  相似文献   
88.
考虑一类半导体方程组的混合初边值问题。利用正则化算子和逼近过程,通过一系列先验估计,在迁移率既不为常数,又不满足速度饱和的条件下,证明了其整体弱解的存在性.  相似文献   
89.
正则*断面是研究半群结构的一个重要手段,强正则*断面是正则*断面的加强.现通过研究矩形群的强正则*断面.利用已知强正则*断面的结构定理,给出了矩形群的强正则*断面的结构刻画和同构定理.  相似文献   
90.
摘要:合成了一种新的有机染料,反式-4-[4′-(N,N-二丁基氨基)苯乙烯基]-N-甲基吡啶对甲基苯磺酸盐,并通过元素分析、电喷雾质谱、热重分析以及红外等现代化分析手段进行表征,并对其紫外-可见电子光谱、荧光光谱等线性光学性质进行初步研究.  相似文献   
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