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苏州瑞红电子化学品有限公司：集成电路用正性光刻胶 由苏州电子材料厂与日本瑞翁和日本丸红公司合资成立的苏州瑞红电子化学品有限公司,成功研发出集成电路用正性光刻胶产品,并迅速形成产业.瑞红公司生产的集成电路用正性光刻胶,具有超高感度、高粘附性以及工艺宽容度大等显著特点,不仅填补了国内空白,还抑制了国外进口材料价格上升的趋势.目前,瑞红公司已成为我国微电子化学材料最大规模的专业生产企业,也是国内惟一能同时生产集成电路用光刻胶、液晶显示用光刻胶两种重点产品的企业,并占据了这两种产品50%以上的市场份额.     

带有垂直传染具有年龄结构的接种流行病模型研究

研究了一个带有垂直传染、具有年龄结构的接种SIS流行病模型，得到了正平衡解存在性的充分条件。     

多档次概率罐子模型估计的渐近性质

对多个处理且试验结果为多档次的临床试验,构建了其概率罐子模型。研究了模型中每个处理试验结果发生的概率。利用极大似然估计方法得到其估计量,并获得此估计量具有渐近正态性。     

一维周期和非周期体系的电子带谱及态密度

本文发展了一种重正化群方法,精确而系统地研究包含周期和非周期格子的一维体系的物理性质.该一体系的构造序列是选A、B两块并按膨胀规则{A、B}→{A~(m11)B~(m12),A~(m12)B~(m22)}排列成的.作为特例,计算了(M_(11),M_(12),M_(21),M_(22))=(1,1,1,0)(1,1,1,1)(1,2,1,1)和(2,1,1,1)几种一维格子的电子带谱和态密度,结果表明,较之其他方法,该方法具有系统性,而且分析结果与其他类似。     

1,3—二(正辛基亚磺酰)丙烷的合成及其反相纸层析的R_f图谱

本文合成了1,3—二(正辛基亚磺酰)丙烷(DOSP),完成了1,3—二(正辛基亚磺酰)丙烷的四氢萘饱和溶液的反相纸层析的R_f图谱。     

一类时滞泛函微分方程三个正周期解的存在性

该文利用Leggett-Williams不动点定理讨论了一类时滞泛函微分方程三个正周期解的存在性.     

渐近周期Lotka-Volterra互惠系统的持久性

讨论了一类系数是渐近周期的连续函数的两种群Lotak-Volterra互惠系统的全局渐近性。     

非线性生育率阶段结构的收获模型

建立并分析了一类非线性生育率阶段结构的单种群的收获模型，得到了正平衡点全局稳定的条件，给出了最优收获策略．     

线性驱动下一级相变的重正化群理论

把重正化群理论应用于一受外场驱动而发生一级相变的系统中，结果表明，与有序化过程一样，该系统也由零温不动点所决定，并得到磁化强度及结构函数的新的动力学标度关系．由此可获得滞后回约面积与变场速率的标度关系．     

分隔区域模型正周期解的存在性与唯一性

运用非线性泛函中的锥压缩不动点原理，证明了在一定条件下，一类描述分隔区域模型非线性积分方程正周期解的存在性与唯一性。