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11.
旋转构件动态参数的在线检测技术   总被引:2,自引:0,他引:2  
基于电磁检测原理,研究了一种用磁晶格法动态检测旋转构件的角速度、剪应变、剪应力、扭矩及轴功率等动态物理参数的新的检测技术与方法。阐明该检测方法的原理及检测信号的处理与转换技术,推导出时间域的检测量与旋转构件动参数之间的数学关系式;并用单片机实现了旋转构件动态物理参数的实时在线定量检测。  相似文献   
12.
计算了包含不同自旋取向的单畴粒子具有短程交换相互作用能,各向异性能及长程偶极相互作用能的磁性超晶格的静磁能,利用能面图和局域能量极小模型得到了磁相图和磁滞回线,研究了有限尺寸和温度效应,计算结果较好解释了在超薄磁性薄膜中观察到的两种磁相(磁化强度平行和垂直于薄膜平面)的转变行为。  相似文献   
13.
采用英国著名学者Stinchcombe提出的理论方法——参数变换,研究了一族钻石分形晶格上Ising模型的相变和临界性质,结果表明:与实空间部分格点消约(decimation)RG变换的结果完全一致.这似乎暗示着用该方法精确求解其他等级晶格上的离散自旋模型是有效的.  相似文献   
14.
利用紧束缚近似方法,在数学软件 MATLAB中绘制简立方晶格 S态电子在第一布里渊区的等能面.随着能量取值的增大,等能面的形状随之发生变化,越靠近布里渊区边界,变化越剧烈.由理论推知,晶格中的周期势场是影响等能面形状变化的主要因素.  相似文献   
15.
BaTi O3(BTO)与LaAlO3(LAO)组成的BTO/LAO超晶格的介电性能呈现新的变化特点.作者模拟计算了不同弛豫时间对不同层状周期结构的BTO/LAO超晶格介电性能的变化规律;模拟计算表明,BTO/LAO超晶格在厚度为0.8nm/0.8nm~1.6nm/1.6nm时介电常数出现极大值.认为超晶格的界面电荷的累积对于弛豫时间的作用直接影响了BTO/LAO超晶格的介电性能;BTO/LAO超晶格的介电损耗主要来源于BTO/LAO超晶格的电导率.  相似文献   
16.
Fe/Cr(001)超晶格层间耦合和自旋极化的第一性原理计算   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用基于密度泛函理论的平面波赝势法对Fe/Cr(001)起晶格的层间耦合和自旋极化进行了系统地研究.结果表明:理想Fe/Cr超晶格的层间耦合随反铁磁Cr层层数的增加呈短周期性振荡;在较稳定的结构中,整个Cr层都以较大的磁矩被极化,且极化程度受铁磁层原子数的影响较大.  相似文献   
17.
研究了用固相反应法制备亚锰酸盐La0.7CaxSr0.3xMnO3系列多晶样品(量分数x=0.05,0.10,0.15,0.20,0.25,0.30),并在零磁场和0.3T磁场下研究了电阻和磁电阻与温度(77—380K)的关系,结果发现随x的增加,样品的巨磁电阻效应的峰值温度向高温移动,磁电阻峰值基本保持不变.  相似文献   
18.
基于数字预畸变的UMTS功率放大器线性化技术   总被引:1,自引:0,他引:1  
提出了适用于UMTS系统上行线路的基于查阅表数字预畸变的功放线性化技术 .通过仿真和测量可以看出 ,数字预畸变可以将邻道功率比性能改善 10dB .尽管这一性能的改善并不是UMTS标准所必需的 ,但它能减少功率放大器的工作点回退 ,或者降低对功放线性特性的要求 ,从而增加功放的效率 .  相似文献   
19.
D类音频功率放大器控制方式综述   总被引:4,自引:0,他引:4  
D类放大器虽然具有很高的效率,但由于功率晶体管的开关工作方式,D类放大器引入的失真通常大于线性放大器,这也是目前D类放大器在音频放大领域并未得到广泛应用的主要原因。D类放大器的控制方式是影响其性能的关键因素之一,研究适合的控制方法以改善D类放大器的保真度,是近年来电力电子技术和音频功放放大领域研究的热点。文中对几种比较新颖的D类音频功放放大器控制方式进行了分析比较。  相似文献   
20.
采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/非磁金属隔离层/FeMn多层膜, 研究了交换耦合场Hex相对于非磁金属隔离层厚度的变化关系. 实验结果表明: 随非磁金属隔离层厚度的增加, 以Bi和Ag为隔离层的Hex薄膜急剧下降, 以Cu为隔离层的薄膜的Hex下降较缓慢. 对Cu而言, 它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同且晶格常数相近, Cu层以及FeMn层都可以相继外延生长, FeMn层的(111)织构不会受到破坏, 因此, Hex随Cu沉积厚度增加缓慢下降. 对Ag而言, 虽然它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同, 但晶格常数相差较大, Ag层以及FeMn层都不可能外延生长, FeMn层的织构将会受到破坏, Hex随Ag沉积厚度增加迅速下降. 对Bi而言, 不仅它的晶体结构与NiFe层的不同, 而且晶格常数相差也较大, 同样, Bi层以及FeMn层也不可能外延生长, FeMn层的织构也会受到破坏, 因此, Hex也随Bi沉积厚度增加迅速下降. 但是, X射线光电子能谱研究表明: 极少量的表面活化原子Bi沉积在NiFe/FeMn界面时, 会上浮到FeMn层表面, 因而Hex下降很少.  相似文献   
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