Warren-Averbach 傅氏分析与 Wilkens 位错分布的异同

近十几年来Ｗｉｌｋｅｎｓ利用位错分布理论对于ＷａｒｅｎＡｖｅｒｂａｃｈ（ＷＡ）付氏分析法中弯勾现象、嵌块尺寸及微观应变等问题提出了自己的见解认为这些方面出现的误差是由于ＷＡ理论本身必然造成的本文没有从理论的根源去解释这些矛盾的出现，而是从ＷＡ付氏分析中数学归一出现的错误，提出了自己的修正简单地用一个参数ｍ来说明Ｗｉｌｋｅｎｓ用几个参数说明的问题，从而定性地说明两种理论模型表面上有所不同，实际上内含是相同的本文以〔１〕一文为基础依次论述如下     

Al-Li合金中δ′(Al_3Li)颗粒尺寸对位错运动的影响

测定了 Al- Li合金不同条件下δ′(Al3Li)相的颗粒半径和体积分数 ,研究了δ′颗粒尺寸及体积分数对位错运动方式的作用。结果表明 ,如果δ′颗粒的平均尺寸小于临界尺寸 ,δ′颗粒被位错切割 ,反之 ,则形成奥罗万 (Orowan)位错环 ;当相同柏氏矢量的成对位错切割δ′颗粒时 ,会消除先行位错形成的反相畴界 ,当不同柏氏矢量的成对位错切割δ′颗粒时 ,需要增大外力 ,这使得合金的强度得到进一步提高     

SiCP颗粒增强金属基6151Al复合材料中的增强颗粒尺寸效应

利用分离式Hopkinson压杆和MTS-810通用材料试验机研究了SiCP/6151Al 复合材料在不同应变率下的变形行为和增强颗粒尺寸对复合材料力学性能的影响.结果表明对于这类复合材料,存在着明显的增强颗粒尺寸效应,具体表现为颗粒越小,材料的强化效果越明显.基于位错增强理论并结合Gao H等人基于压痕实验提出的应变梯度概念,发展了颗粒增强金属基复合材料中应变梯度强化律,并对增强颗粒尺寸效应给予了合理的解释.     

钳工锉配基本功练习中存在的问题及解决方法

本文通过锯削和锉削加工中产生的问题,根据教学实践,提出了相应的解决办法,使学生能够根据所讲方法有目的进行基本功训练。     

集成电路的发展趋势及面临的问题

集成电路作为电子信息产业的核心,它能在短短的几十年内得到如此迅速的发展,并非偶然,它有着它自身的发展规律。在发展的同时也与其他行业一样面临着一些阻碍发展的严峻问题,像特征尺寸进一步减小及在深亚微米情况下互连线影响等问题。     

时间、字符发生器

阐述了时间、字符发生器的一般工作原理，屏幕显示字符集成电路μPD6450的技术性能、引脚信号和命令格式，以及利用μPD6450构成的时间、字符信号发生器的系统和系统原理图及如何实现对μPD6450的控制，给出了控制过程流程图和程序清单，并阐述了时间码的一般控制要求和改进设想。     

防止岩溶陷落柱突水的煤柱合理尺寸研究

根据岩溶陷落柱突水的力学机理 ,分析了防突煤柱合理尺寸计算的影响因素 ;利用岩石强度理论得到了防突煤柱保持稳定所要求的最小尺寸计算公式。     

球形电容器的最佳尺寸设计

提出了球形电容器在限定最大耐压值U和介质的击穿场强E条件下,球形电容器最佳尺寸的设计方法,给出了同心球形电容器的最佳尺寸.     

纳米LiNi0．5Mn0．5O2中锂离子扩散的尺寸效应研究

采用电势阶跃法分析了纳米LiNi0.5Mn0.5O2电极中锂离子的表观扩散系数随材料XRD粒度的变化规律,表观扩散系数随粒度的增大先增加后减小.校正尺寸几何因素后得到了LiNi0.5Mn0.5O2中锂离子的本征扩散系数随XRD粒度的变化规律,本征扩散系数随粒度的增大而增大.     

浅谈瓷质地砖尺寸误差的规定

浅谈瓷质地砖尺寸误差的规定焦作新美陶瓷工业有限公司杨茂祥近几年来我国瓷质地砖生产发展很快，而瓷质地砖尺寸误差仍没有一个统一标准，很多厂家使用欧标ＥＮ１７６－１９８４或国标ＧＢ１１９４７－８９彩釉砖标准作为瓷质砖厂标的依据。上述两标准都有和实际情况相违...