连铸坯截面尺寸对流动、凝固及溶质分布的影响

采用方坯连铸过程三维紊流、凝固传热及溶质传输的耦合模型,在其他模拟条件相同的情况下,研究铸坯截面尺寸对连铸过程的影响·结果表明,截面尺寸大者,入流速度大,更深浸入铸坯内部,带动较多钢液随之流动,在结晶器上部的紊流程度较高·对于FeC二元合金,由温度和溶质浓度共同决定了凝固坯壳的分布·小截面尺寸铸坯,溶质在各截面上偏析更为严重·其凝固坯壳也较薄,为防止拉漏,应采用长结晶器     

论形状、位置公差与尺寸公差的相互关系

本文论证了尺寸公差值与形位公差值的一般定量关系，为设计时正确选取和配置形位公差值提供了理论依据和选择方法。     

纳米物理学的若干基本问题

本文介绍了纳米科技的历史、现状和发展趋势；综述了纳米物理学的若干基本问题；讨论了小尺寸情况下的量子效应和形变超晶格的光电特征。     

窄级别给料球磨机最佳介质尺寸判据研究

针对窄级别给料,本文对生产实践中一些选择球磨机最佳介质尺寸的方法进行了分析研究,认为应通过产物的整个粒度分布曲线来判断球磨机最佳介质尺寸,并根据批次实验结果提出了一种判断球磨机最佳介质尺寸的图形法.     

A mathematical model of symmetry based on mathematical definition

Tolerance is imperative for seamless integration of CAD/CAM(Computer Aided Disignd/Computer Aided Manufacture) which is just a text attribute and has no semantics in present CAD systems. There are many tolerance types, the relations between which are very complicated. In addition, the different principles of tolerance make study of tolerance difficult; and there may be various meanings or interpretation for the same type of tolerance beeanse of the literal definition. In this work, latest unambiguous mathematical definition was applied to study, explain and clarify: ( 1 ) the formation and representation of tolerance zone, and (2) the formation and representation of variational elements ; after which, the mathematical models of syrmmetry of different tolerance principles and different interpretations were derived. An example is given to illustrate the application of these models in tolerance analysis.     

氧化物结合碳化硅复合材料的研究

通过对氧化物结合碳化硅复合材料中添加的氧化物种类和数量，以及烧结温度、试样尺寸的分析发现：氧化钙的加入有利于试样抗弯强度的提高；氧化硅的质量分数为0.5%时试样抗弯强度最高，达42.3MPa；最高烧结温度为1530℃时试样无晶粒长大现象，抗弯强度较高；试样的强度有明显的尺寸效应，尺寸越大，既试样的有效体积越大，则试样的断裂概率越大，抗弯强度越低。     

玻璃中CdSSe量子点的制备及尺寸研究

用两步退火法在玻璃基体中制备了CdSSe半导体量子点 ,并测量了它的室温吸收光谱 .根据吸收谱的基态能与量子点尺寸的关系 ,用有效质量近似模型计算了量子点的平均尺寸 ,其结果与透射电镜观测值较好符合 .     

齿轮滚刀合理窜刀的研究

根据实际的切削过程，给出了齿轮滚刀的合理长度，对窜刀时间，窜刀方向及窜刀尺寸进行了论述。     

溶胶凝胶法制备(Ba,Pb)TiO3纳米晶粒

采用溶胶－凝胶工艺制备了不同晶粒大小的掺铅钛酸钡纳米晶,用ＸＲＤ,ＴＥＭ和Ｒａｍａｎ研究了ＢＰＴ样品的晶粒大小,结构及其相变特性,结果表明,ＢＰＴ纳米晶最低晶化温度为５５０℃,衙门广泛６５０℃,高于６５０℃热处理的纳米晶ＢＰＴ在常温下为四方相,随着晶粒尺寸的减小,由四方相向立方相过度。     

微波ECR等离子体溅射沉积T_t薄膜的结构研究

用电子回旋共振(ECR)等离子体溅射方法在室温基片上沉积出的T_i薄膜的结构是用X RD和TEM进行分析的。结果表明所沉积的T_i薄膜是平均粒径,晶粒尺寸分布很窄的稳定fcc结构。在实验过程中发现可以通过对工作参数的调整控制薄膜的晶粒尺寸。我们还讨论了ECR等离子体对薄膜结构和晶粒尺寸的影响。