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341.
采用线性调制技术和多载波配置的通信系统对射频功率放大器的线性提出了很高的要求,前馈技术是一
种很有前途的用于提高功率放大器线性的技术。对前馈功放的工作原理进行了介绍,分析了环路中幅度、相位及
延迟等环路参数对抵消性能及带宽的影响。基于这些分析的结果,设计了一个10W 的WCDMA前馈功放,三阶
互调性能改善了20dB以上。 相似文献
342.
343.
根据空基相控阵雷达的工作环境,对4H—SiC材料及SiC功率器件(SiC MESFET)的特点进行了分析。与GaAs器件相比,这种新型器件在空基相控阵雷达领域有广泛的应用前景。同时建立了用于器件CAD技术的SiC MESFET改进型非线性大信号模型,这种基于实验测量的模型通过SPICE模拟器对器件的功率特性进行了分析,与实验结果符合较好。 相似文献
344.
小腿节段性毁损断肢再植6例报告 总被引:1,自引:0,他引:1
张衡敏 《暨南大学学报(自然科学与医学版)》1998,19(2):53-54,63
小腿节段性毁损断肢再植6例报告张衡敏1)李志忠2)(1)珠海市香州区人民医院骨科,519070,珠海;2)暨南大学医学院第一附属医院骨科,510630,广州)关键词:节段性毁损性断肢;肢体节段修复;断肢再植中图分类号:R681对于节段性毁损性断肢,行... 相似文献
345.
采用射频磁控技术,用Ge、SiO_2的复合靶制备锗纳米晶镶嵌在二氧化硅中的复合薄膜.作为量子点的Ge纳米晶粒的尺寸是决定这类材料物性的关键,因而研究对镶嵌在SiO_2中的Ge晶粒尺寸调制的工艺十分重要.本文研究了制备过程中各种工艺参数与薄膜中Ge晶粒尺寸的关系.结果表明通过溅射时控制基片温度能有效地对锗晶粒尺寸进行调制. 相似文献
346.
埋入SiO2薄膜中纳米Si的Raman散射和室温可见光致发光 总被引:3,自引:1,他引:3
1990年英国人Canham报道的多孔硅室温可见光致发光,显示了Si材料在光电子技术方面的潜力,这为全Si光电子电路的实现带来了曙光,使人们受到了极大鼓舞.近几年人们对多孔Si的研究已经非常深入,尽管目前还没有统一的模型能解释全部实验结果,但是可以肯定的是,从扫描隧道电镜观察到多孔Si是具有2~5nm尺寸的纳米微粒,这种低维的纳米微粒是获得可见光发射的主要原因.目前多孔Si多用湿法制备,性能不稳定,电接触方面存在困难,严重限制了它的应用.因此,探索制备有纳米结构的Si及Si基合金以获得强的可见光发射,具有极重要的意义. 相似文献
347.
射频阱中离子云运动的非线性特征的实验观察 总被引:2,自引:0,他引:2
在理想构型的离子阱中,单个离子在严格的四极势作用下作谐振运动,其运动频率可由窄线宽的共振检测信号测量,由此已精确测定离子质量和其它基本物理常数.但在通常情况下,由于各种机械的、离子云本身的和检测引起的问题,将导致谐振信号的移动和增宽,以及与离子非线性运动相关的许多现象.如起源于质量的相对论效应的Penning阱中单电子回旋运动信号的迟滞效应,由阱缺陷引起的非谐性力作用下penning阱中单电子轴向运动信号的迟滞现象,因存在另一种离子而产生的射频阱中离子云信号的增宽与畸变,射频阱中离 相似文献
348.
铁电(Pb_(0.925)La_(0.075))(Zr_(0.65)Ti_(0.35))_(0.981)O_3薄膜的疲劳特性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
铁电薄膜(BaLiO_3,PbLiO_3,(Pb_(1-x)La_x)(Zr_yLi_(1-y))_(1-x/4)O_3(PLZL_x/y/(1-y)),LiNbO_3,Bi_4Li_3O_12等)在近20年来由于其在电、光学上的大量应用而被广泛地研究,尤其是铁电薄膜存储器综合了半导体存储器与磁存储器的优点,具有高速度、高密度、非挥发性和极好的抗辐射性等特点,并能与半导体工艺相兼容,是国际上研究的热门领域.这些应用都需要高质量的铁电薄膜,许多薄膜制备技术,如纪光闪蒸、溅射、外延沉积、化学蒸发沉积和sol-gel方法等,已被用于在各种衬底上制备铁电薄膜. 相似文献
349.
张亦明 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》1990,(3):40-46
为了进行移动通信系统间的电磁兼容性(EMC)分析,本文设定了同波道干扰、邻道干扰、发射机互调和接收机互调干扰的数学模型,这些模型适用于机助频谱管理和陆上移动通信工程。 相似文献
350.
ZnO薄膜的射频磁控溅射法制备及特性 总被引:2,自引:0,他引:2
利用射频磁控溅射镀膜工艺,在石英玻璃衬底上成功制备了ZnO薄膜.采用原子力显微镜、X射线衍射、拉曼光谱、荧光分光光度计及椭偏等检测手段对其特性进行了测试、分析.研究结果表明:该薄膜具有良好的C轴取向结晶度;最佳激发波长为265.00nnl,光致发光峰分别位于362.00、421.06和486.06nm;437cm^-1是ZnO晶体的特征拉曼峰,该峰的出现与最强的X射线衍射(002)峰相对应;薄膜折射率为2.01. 相似文献