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61.
在对用XRD表征确证分属于TS-2分子筛和无定形TS氧化物(简称ATS)结构的一系列样品进行红外表征时,首次发现在分子筛骨架与无定形表面都存在Ti-O-SiO3健,但这两者在红外上是可区分的,前者作为骨架钛振动带出现在962.5~966.7cm-1处,而后者作为非骨架钛振动带则出现在945~956cm-1处,即后者明显发生了红移.分子筛骨架振动带(1226,556cm-1)强弱对其Ti-O-SiO3带的位置影响不大,比较而言骨架带弱的约有2.0cm-1的红移.苯酚羟基化结果表明在分子筛骨架上的Ti-O-SiO3活性位上苯酚羟基化生成邻苯二酚和对苯二酚;而处于无定形表面的非骨架Ti-O-SiO3活性位上只生成邻苯二酚  相似文献   
62.
在磷硅酸盐玻璃中八面体配位的硅:K边X射线吸收光谱研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
李迪恩  彭明生 《科学通报》1997,42(22):2405-2408
<正>众所周知,在高压条件下,硅酸盐矿物和玻璃中的硅可以形成八面体配位,但在通常的低压硅酸盐玻璃中,硅为四面体配位,因为玻璃中硅的八面体配位会迫使形成周期性结构,破坏玻璃的非晶态。目前几乎没有文献报道在低压硅酸盐玻璃中存在八面体配位的硅。很久以来,人们一直对于含磷的硅酸盐玻璃和熔体有很大兴趣,因为一方面含磷的硅酸盐玻璃是很有前景的光导纤维材料,另一方面,在地球化学上P_2O_5加入到岩浆体系中,会导致液相不混溶,降低岩浆的液相线温度和粘度,影响元素在固相-液相和液相-液相之间的分配,尽管有报道证明在钠的磷硅酸盐玻璃中存在八面体配位的硅,但此结果仍有一定的争议。本文采用同步辐射的硅K边X射线吸收光谱研究了硅在SiO2-P2O5和Na2O-SiO2-P2O5体系的磷硅酸盐玻璃中的结构与配位,以及硅的配位几何随玻璃中P2O5含量的变化。  相似文献   
63.
Si上Bi2Sr2Ca1Cu2O7-x超导膜分形现象的AFM观察   总被引:1,自引:0,他引:1  
刘融  钱文生  魏同立 《科学通报》1997,42(7):769-771
利用射频磁控溅射方法,在Si衬底上用YSZ(Y稳定的ZrO_2)作为缓冲层成功地淀积了Bi_2Sr_2Ca_1Cu_2O_(7-x)(BSCCO)超导膜,其零电阻温度T_c=82K.在利用原子力显微镜(AFM)和透射电子显微镜(TEM)作材料的表面形貌和微结构观察分析时,首次在BSCCO超导膜中观察到了分形晶化,并测得其分形维数d=1.795,本文报道了这一观察结果.  相似文献   
64.
研究了掺硅时间和掺硅量对铁黄形态及结构的影响规律,制得了分布均匀、无枝叉的超细铁黄,其平均长轴为0.2 ̄0.25μm,轴比〉9。发现反应开始时硅酸钠的添加量越大,铁黄粒子越小,分布也越均匀,最终铁黄的结构变化也越大。当反应初期合成体系中硅原子与铁原子的摩尔比大于0.015时,反应过程会生成Fe3O4。铁黄合成后期掺硅对铁黄大小和轴比影响不大,但可以有效防止铁黄粒子凝并。  相似文献   
65.
用纳米硅薄膜制成了共振隧穿量子点二极管,在77K温度下对其I-V特性进行了测量,得到了具有共振隧穿特征的实验结果。对实验结果分析表明,纳米尺寸晶粒构成的量子点具有库仑阻塞效应。  相似文献   
66.
67.
神经网络高炉铁水含硅量预报模型   总被引:4,自引:0,他引:4  
研究了基于神经网络的高炉铁水含硅量预报模型,运用高炉生产过程中工艺参数,实现了铁水含硅量的中短期预报,仿真结果表明,本模型具有良好的预报效果。  相似文献   
68.
用直流叠加方波脉冲电流阳极腐蚀法制得了多孔硅(PS),样品经XeCl准分子激光器的308nm激光的激发,获得了中心波长为462nm,半高宽为126nm的蓝色光致发光(PL)谱、PS断透射电(TEM)分析发现有nm量级的Si原子团组成的一维量子线(柱)阵列的三维量子海棉结构,由此带来的量子约束和表面效应恰好说明了PL谱的实验结果。  相似文献   
69.
应用阳极氧化技术在单晶硅片上生长一层多孔硅(PS)薄膜,用真空镀膜方法分别在其上下两面蒸发一层适当厚度的金属铝作为电极,设计了两种电极图形,制成二端结构的敏感元件.在不同湿度环境下,测出其电容值,得到了多孔硅RH-C湿敏特性曲线.通过不同材料、不同工艺条件的试验研究发现:多孔硅湿敏元件的湿敏特性、响应时间与其孔隙率、膜厚等参数有关.从而,确定了适合于敏感应用的材料导电类型、电导率、工艺条件和元件结构  相似文献   
70.
深过冷Ni—Si共晶合金中Ni3Si的生长形态   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用熔融玻璃净化和循环过热相结合的方法,使Ni-Si共晶合金获得了224K的大过冷度,对该合金深过冷快速凝固组织的形成机制和小平面相Ni3Si的生长形态的研究发现,在过冷条件下,共晶组织形成之前,往往会生成组成共晶的两相的初生相,随着过冷度的增大,Ni3Si初生相的生长形态由小平面形态向非小平面形态转变,其转变的临界过冷度约为60K。  相似文献   
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