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采用RCA方法与Piranha溶液处理相结合,对单晶硅表面超声腐蚀处理,接触角、原了力显微镜(AFM)表征结果显示获得了平整高羟基密度的氧化物表面,采用水相烷化,将3-氨基丙基-三甲氧基硅烷(APS)组 装在湿化学法处理的单晶硅表面上,AFM和X-射线光电子能谱(XPS)研究表明得到了平整均匀的氨基自组装膜。 相似文献
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BCN薄膜的结构及其内应力研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。X射线衍射和傅立叶红外吸收光谱量发现样品的组成原子之间实现了原子级化合,样品与Si衬底之间存在较大的应力。样品剥落后,应力的消除使红外吸收峰位向低波数移动。实际还发现,衬底材料对样品中的压应力影响很大,压应力的释放与衬底密切相关:在硅衬底上呈枫叶状隆起,在石英衬底上样品呈周期性的拆线状隆起。 相似文献