CVD金刚石薄膜表面的卤素修饰

金刚石是一种集多种优良性能于一体的功能材料,但是,金刚石薄膜sp^3碳构造的高稳定性导致其表面活性不足,无法满足各种功能性表面的需要．本文从化学修饰角度,研究了卤素在金刚石薄膜表面导入的方法和修饰后的应用,并对修饰后的金刚石表面进行了XPS表征．结果表明,卤素已成功的修饰到了金刚石薄膜表面．     

F2+2HCl=2HF+Cl2反应机理的密度泛函理论（DFT）研究

用密度泛函理论(DFT)B3LYP 方法,在6-311G 基组下,计算研究了反应 F_2 2HCl=2HF Cl_2的机理。求得各可能反应途径的系列过渡态,并通过振动分析和内禀反应坐标(IRC)分析加以证实。比较反应能垒(理论计算活化能)发现,题称反应若以分子与分子作用机理进行,则需克服的最大能垒为150.63kJ/mol;若以 F2分子先裂解为 F 原子再反应的机理进行,则需越过能垒154.82 kJ/mol。求得反应 F HCl→HF Cl 的线形和三角形两种过渡态,以三角形较稳定;求得反应 HCl Cl→H Cl_2的两种过渡态,以线形较稳定。