复杂载荷下含体积性缺陷弯管的塑性极限载荷

通过非线性有限元分析给出了含体积性缺陷弯管在内压、面内弯矩、面外弯矩和扭矩作用下的塑性极限载荷。对与体积型缺陷（长轴、短轴和深度)和管线（外径、壁厚和弯曲半径）有关的几何变量进行了系统的分析,并考虑了内压和面内弯矩、面外弯矩和扭矩的组合。结果表明壁厚、缺陷深度和缺陷方向对极限载荷影响较大。     

浅谈混凝土灌注桩的质量缺陷及其控制

本文首先分析了混凝土灌注桩的质量缺陷,提出了质量控制要点,最后提出了相关建议和措施。作者提出的主要建议措施有以人为核心、坚持原则,严格质量标准与质量检测;关键控制沉淀层控制清孔过程;防止混凝土离析;防止断桩、夹泥、堵管;重视质量记录。     

自闭症面部知觉缺陷的脑机制

自闭症存在明显的面部知觉缺陷.通过对文献进行分析,文章对自闭症的面部知觉缺陷的脑机制进行了概括.结果显示:1)对个人面孔的识别是进行人际交往和成功在一个社会群体中发挥作用的一个重要成分,这与自闭症存在的社会发展缺陷有着密切联系.2)神经心理学研究表明,面部知觉控制是由梭状回(枕颞叶内侧回)中部内侧出现的一小块皮质区所控...     

基于机器视觉缺陷检测的实践教学平台研究

目的构建一个能够模拟工业现实环境的机器视觉缺陷检测软件平台,用于工业自动化和计算机图像学的教学工作,便于学生掌握工业机器视觉系统的基本原理及处理流程,掌握数字图像的各种算法及其应用场景。方法在对机器视觉缺陷检测系统需求进行分析的基础上,使用Python 2.75和Opencv 2.4构建系统的软件模块。结果与结论该平台能够实现相机配制、图像获取、图像标定、图像处理、分析统计等工业缺陷检测全过程,并将计算机图像的相关理论教学融于实践教学过程,对于提高学生课堂的互动性、激发学习兴趣、掌握各种图像处理算法有着重要意义。     

复折射率介质一维光子晶体的透射特性

设计一种缺陷层为复折射率介质的一维光子晶体,并利用量子传输矩阵计算光波的透射率.结果表明:缺陷层为复折射率介质结构的光子晶体,其缺陷模个数随缺陷层厚度的增加而增加,缺陷模位置随常规介质厚度的增加向波长较小的方向移动.     

吸附对外延石墨烯态密度和能隙的影响简

利用抛物型电子能谱模型,求出了半导体基底的态密度和半导体基底上形成的外延石墨烯的态密度,并与理想单层石墨烯的态密度相比较,分析外延石墨烯态密度特点和能隙产生的条件.以Si基底上形成的外延石墨烯为例,论述了外延石墨烯态密度按能量分布的特点和吸附对外延石墨烯态密度和能隙的影响.结果表明:(1)外延石墨烯的局域态密度曲线与理想单层石墨烯和基底的态密度曲线不同,它不具有对零能量的左右对称性;(2)吸附不仅使理想单层石墨烯和半导体基底的态密度曲线对零能量的左右对称性受到破坏,而且改变了石墨烯的能隙宽度;(3)外延石墨烯的能隙宽度随着半导体基底与石墨烯相互作用能的增大而增大,但变化较小.     

掺杂对ZnO半导体薄膜光学性能的影响

以掺杂氧化锌(ZnO)陶瓷靶为溅射源材料,采用射频磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备了掺杂ZnO系列半导体薄膜样品.利用紫外-可见分光光度计测量了薄膜的透射光谱,通过Swanepoel法确定了薄膜的折射率和消光系数,利用外推法获得了薄膜的光学带隙,研究了不同掺杂对ZnO薄膜光学性能的影响.结果表明,钛掺杂和镓镁合掺后,ZnO薄膜的透过率和光学带隙增加而折射率减小;所有薄膜的折射率均随波长增加而单调减小,呈现出正常的色散特性.     

基于属性差异的产品缺陷数据关联规则模糊分类

针对工业生产过程中所产生的产品缺陷数据经过数据挖掘后关联规则存在不能有效组织的问题,提出一种基于项目属性差异的产品缺陷数据关联规则模糊分类方法,在建立模糊分类树的基础上,计算出关联规则间距离,并采用自组织神经网络聚类的方法对挖掘结果进行聚类分析。将该方法应用于冷轧带钢表面缺陷数据挖掘后处理,结果表明,该方法不仅能够得出两种不同属性项目间的关联性,还可以求出缺陷关联规则间的距离,距离越近的关联规则被聚为一类,其相似性越大。     

Ⅱ—Ⅵ族宽禁带半导体应变层超晶格的折射率测量

ZnS、ZnSe、ZnTe等宽禁带半导体材料构成的超晶格和量子阱结构可望在可见光光电子器件领域发挥重要作用,特别是它们可制成600—700nm光电子器件,在高密度光学信息系统中的应用,前景非常诱人。因此人们正加紧努力研制基于这种材料的光波导、激光器及光学     

负载型复合半导体光助催化二氧化碳和甲醇直接合成碳酸二甲酯

合成和表征了一种铜掺杂(Ni,Mo,O)负载于TiO2/SiO2(TSO)载体上的复合半导体材料,并用于由甲醇和直接光催化合成碳酸二甲酯(DMC).紫外可见光漫反射及测试结果表明:p-n型复合半导体催化剂可以增强对紫外光的吸收及扩展光响应范围,进而提高光催化性能.其中.w=1%Cu-(Ni,Mo,O)/TSO催化体系具有显著的反应活性和DMC选择性.