浅议几何光学成像规律的教学

光学系统的成像规律是几何先学的核心内容。本文介绍几何光学成像规律的两种教学方法，其一是从几何光学的基本定律出发，得出在一定近似条件下的面镜、透镜以及共轴光具组的成像规律；其二是从成像规律的内在联系入手，将成像规律分成三组来记忆。最后，提出了一种既能沿用现行教材体系，又有利于培养学生自主学习能力、提高学生理解能力和学习能力的方法。     

移动通信中多重建筑物的遮挡损耗

用Uniform Geometrical Theory of Diffraction（UTD)分析了等高度等间距的建筑物对移动通信中移动台接收信号的影响，给出了易于计算的UTD拟合表达式，计算表明，此时Hata模型、COST231模型的计算结果和UTD的计算结果是较为接近的，但要精确地比较各场点的传播损耗只能用UTD按照实际的不等高度，不等间距的建筑物分布来计算，结果表明，当移动台前一幢建筑物的直接路径被阻挡时，UTD方法能较确定的反映此时的传播损耗。     

1,8-萘啶类化合物及其配合物的研究进展

1，8-萘啶类化合物及其配合物是当前国内外研究的热点，具有特殊的抗菌活性、催化及光学特性，极具应用潜力。本文综述了该类化合物及其配合物结构、性质以反应用等方面的研究进展。     

氧化铟锡薄膜在光学太阳反射镜上的应用

研究了光学太阳反射镜抗静电放电用氧化铟锡薄膜的设计原则.理论分析和实验结果表明,在将氧化铟锡(ITO)薄膜应用于光学太阳反射镜(OSR)表面防静电放电时,ITO薄膜的表面方阻R□不能小于5 kΩ@□-1,否则会导致OSR的太阳光谱吸收率增加.建议取R□=5～106kΩ@□-1,薄膜厚度d=(150～200)×10-10 m.同时必须保证ITO薄膜接地效果良好,否则会使OSR表面充放电现象更加严重.     

煤矿开采沉陷预测的数值模拟

运用求解非线性大变形问题有限差分法（FLAC），对开采引起的岩体移动和地表沉陷进行了研究，总结出了岩体移动的基本特征和地表沉陷和相关参数，所得结果对现场开采具有一定的指导作用，对开采所致的地表沉陷的治理提供了科学依据。     

真空紫外薄膜光学常数的多约束非线性方程组计算

本文推导出目标函数的导数公式，改进了利用“多约束非线性方程组”计算真空紫外光学常数的方法，我们自编了ＶＵＶ－ＲＯＣＰ微机软件，可由真空紫外反射率求出真空紫外薄膜光学常数和入射光的偏振度。运用该软件对不同工艺的Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ样品的反射率进行解析，得到了它们的真空紫外薄膜光学常数，并与国外报道的结果进行了比较。     

MoS4Ag2(PPh3)3和MoS4Cu2Ag(PPh3)3Br的固相合成及非线性光学性能

在无机氧化物及含氧酸盐、半导体材料、有机化合物、聚合物和金属有机化合物等领域近年来关于非线性光学材料的研究引起人们的广泛兴趣。原子簇化合物由于其特有的结构与性能特点,它们实际上是一类具有广泛应用前景的非线性光学材料。我们的实验发现,Mo(W)-Cu(Ag)-S簇合物呈现出很强的三阶非线性光学效应,特别是一些含银的簇合物的光限制能力超出C~(60)的2～3倍。我们已对蝶状、离子型类立方烷、鸟巢状和双鸟巢状,六棱柱状及二十核超笼状簇合物等Mo(W)-Cu(Ag)-S簇合物的非线性光学性研究作了报道。在这些报道中有关铜的簇合物较多,而银的相对较少。本文报道直链状簇合     

四唑及其衍生物的理论研究——Ⅰ.氯代四唑的从头算

用从头算方法,取6-311G基组分别在HF和MP2水平上,计算研究了1H和2H四唑的4种一氯取代物的全优化几何构型和电子结构。4个化合物均取平面构型;环骨架键长趋于平均化,均具芳香性(Ⅱ_5~6)。与1—Cl和2—Cl四唑相比,5—Cl四唑将具较强的酸性,分子总能量也较低,其中5-Cl-2H-四唑分子总能量最低、最稳定。     

描述孔隙介质孔隙空间分布的数学方法

孔隙介质中孔隙的空间结构具有复杂性和高度无序性的特点，定量地描述这些孔隙的空间结构对于研究孔隙介质中的渗流问题具有十分重要的意义。本文总结了描述孔隙介质孔隙空间分布的数学方法，这些方法包括经典的统计学方法、拓扑学方法、分形几何方法、重正化群方法、谱密度分析方法等。     

Biacetyl反应在双氰胺光度法测定中的应用

介绍了一种简便易行的光度分析方法在双氰胺工业品的含量测定中的应用．该方法根据双乙酰反应（ｂｉａｃｅｔｙｌｒｅａｃｔｉｏｎ）的原理，即：当α－萘酚存在时，含胍基的化合物与双乙酰反应，在强碱性介质中，生成一红色化合物的过程，对双氰胺工业品进行含量测定研究．结果表明，该红色化合物在５３０～５６０ｎｍ处有显著吸收，其摩尔吸光系数ε＝１．６６×１０４Ｌｍｏｌ－１ｃｍ－１，适合于用光度法比色测定．该方法在０～１４ｍｇＬ－１的浓度范围内呈线性关系，符合比耳定律．其测定回收率为９８％～１０１％，相对标准偏差为±０．５９％．此外，该方法还适用于双氰胺残留物的痕量分析和监测．