全文获取类型
收费全文 | 3488篇 |
免费 | 81篇 |
国内免费 | 113篇 |
专业分类
系统科学 | 71篇 |
丛书文集 | 141篇 |
教育与普及 | 108篇 |
理论与方法论 | 38篇 |
现状及发展 | 16篇 |
研究方法 | 1篇 |
综合类 | 3307篇 |
出版年
2024年 | 23篇 |
2023年 | 54篇 |
2022年 | 67篇 |
2021年 | 79篇 |
2020年 | 63篇 |
2019年 | 79篇 |
2018年 | 39篇 |
2017年 | 46篇 |
2016年 | 64篇 |
2015年 | 101篇 |
2014年 | 226篇 |
2013年 | 155篇 |
2012年 | 172篇 |
2011年 | 168篇 |
2010年 | 196篇 |
2009年 | 187篇 |
2008年 | 229篇 |
2007年 | 233篇 |
2006年 | 200篇 |
2005年 | 152篇 |
2004年 | 133篇 |
2003年 | 122篇 |
2002年 | 108篇 |
2001年 | 106篇 |
2000年 | 94篇 |
1999年 | 79篇 |
1998年 | 88篇 |
1997年 | 43篇 |
1996年 | 44篇 |
1995年 | 47篇 |
1994年 | 28篇 |
1993年 | 47篇 |
1992年 | 52篇 |
1991年 | 37篇 |
1990年 | 39篇 |
1989年 | 34篇 |
1988年 | 18篇 |
1987年 | 13篇 |
1986年 | 4篇 |
1985年 | 4篇 |
1983年 | 3篇 |
1982年 | 1篇 |
1962年 | 1篇 |
1957年 | 1篇 |
1947年 | 1篇 |
1940年 | 1篇 |
1927年 | 1篇 |
排序方式: 共有3682条查询结果,搜索用时 15 毫秒
361.
362.
纳米压印光刻(Nano Imprint Lithography,NIL)是面向45nm以下半导体制造工艺下一代光刻技术的主流之一。基于紫外纳米压印光刻是一种在常温和常压下使用的光刻技术,是非常有希望成为未来光刻技术的主流工业技术。多层纳米压印套印对准技术是基于常温紫外纳米压印设备的核心关键技术,该技术是制约紫外纳米压印光刻技术,广泛应用于半导体制造并促其成为主流光刻技术的瓶颈。将并联机构引入纳米压印装备的研制之中,进一步提升纳米压印设备中掩模台和工件台之间的对准精度和定位精度。 相似文献
363.
在不同的pH值条件下,分别合成了双棱配合物K4[YⅢ2(Httha)2]·14H2O和单核配合物(NH4)3[YⅢ(ttha)]·5H2O其中单拔配合物(NH4)3[YⅢ(ttha)]·5H2O中含有一个未参与配位的可用于修饰的自由藏酸基团,可为进一步开发出定向抗肿瘤药物打下坚实基础。 相似文献
364.
结合湖南宜章某桥(主桥为简支系杆拱桥、引桥为预应力空心板),通过参数变异改变该主桥支撑体系(即主桥端横梁)刚度,分析研究了主桥端横梁的刚度变化对引桥预应力空心板桥的受力行为,为合理设置主桥端横梁刚度防止引桥预应力空心板开裂提出科学建议. 相似文献
365.
366.
无露排水泵站DCS系统设计 总被引:1,自引:0,他引:1
针对平庄矿务局元宝山露天矿(以下简称元露)的实际情况,利用IBM-PC机及MCS-96系列单片机构成了排水泵站DCS系统,该系统由调度端(监测总站)和总端站(监测分站)组成;终端站负责监测以及多回路控制,各终端站采用无线通信方式将登记处传递至调度端,调度端进行数据库管理,并且协助对整个工作过程进行人为干预,以达到控制要求,同时调度端可接入全矿MIS系统,实现全矿的计算机集成制造系统(CIMS)。 相似文献
367.
368.
郭洪臣 《中国新技术新产品精选》2009,(20):1-4
(上接19期)3.磁体因杠杆与凸轮压缩作用在旋转中对轴能形成变动力矩。在杠杆阻力臂和动力臂作用下,把原来磁体产生的力分为两个力,即阻力和动力。杠杆阻力端(支点)前和动力端(支点)后分别作用在两个托架上,阻力端有磁体是力源,动力端因阻力端的力会在杠杆支点连动作用下而产生与阻力端相反的作用力。 相似文献
369.
370.
近几年来,大学英语四、六级考试已经成为社会各界关注的热点话题,特别是大部分高校把能否通过四六级考试作为学生是否取得学位的一个必备条件,同时四六级证书能否真正代表大学生的实际英语水平也是大家普遍讨论的话题。通过自己近几年的观察和对学生的调查了解,从三个方面对现行大学英语四、六级考试做简要评析。 相似文献