首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   404篇
  免费   5篇
  国内免费   9篇
系统科学   2篇
丛书文集   17篇
教育与普及   3篇
现状及发展   3篇
综合类   393篇
  2024年   2篇
  2023年   3篇
  2022年   6篇
  2021年   1篇
  2020年   1篇
  2019年   3篇
  2018年   4篇
  2017年   7篇
  2016年   6篇
  2015年   8篇
  2014年   18篇
  2013年   10篇
  2012年   19篇
  2011年   18篇
  2010年   13篇
  2009年   20篇
  2008年   25篇
  2007年   31篇
  2006年   16篇
  2005年   16篇
  2004年   14篇
  2003年   25篇
  2002年   17篇
  2001年   18篇
  2000年   19篇
  1999年   8篇
  1998年   13篇
  1997年   10篇
  1996年   19篇
  1995年   10篇
  1994年   6篇
  1993年   8篇
  1992年   4篇
  1991年   4篇
  1990年   10篇
  1989年   2篇
  1988年   2篇
  1986年   1篇
  1948年   1篇
排序方式: 共有418条查询结果,搜索用时 250 毫秒
11.
本文从光的叠加原理出发,详细地计算了两束不等光强的相干光经圆孔夫朗和费衍射后两爱里斑斑心联线上的光强分布,以及衍射屏面上的衍射图样。并将它与非相干情况下的衍射作比较,严格的数字计算表明:两者的光强分布和衍射图样都存在着很大的差别。在此基础上给出了发射不等光强相干光的两物点恰能分辨的距离。  相似文献   
12.
现行的光学教材在介绍单缝夫琅和费衍射时,均在特殊情况下导出单缝夫琅和费衍射的光强分布。本文给出一种在一般情况下导出单缝夫琅和费衍射光强表达式的方法。  相似文献   
13.
运用本征展开法对由白乘法噪声驱动的单模激光损失模型进行了研究.得到该模型的振幅关联、光强关联及它们的功率谱的精确解析表达式.并在一定条件下,对以上各量进行讨论,得到一些有意义的结论.  相似文献   
14.
夫琅和费型单缝衍射光强公式的修正   总被引:1,自引:0,他引:1  
依据通常的夫琅和费型单缝衍射光强公式计算结果与实验结果有较为明显的岐异,其原因是在公式推导过程中忽略了衍射角和入射角变化所带来的影响。考虑到这些倾斜因素,对夫琅和费型单缝衍射光强公式做了理论上的修正,得出了更普遍更准确的光强公式。  相似文献   
15.
本文利用菲涅耳公式讨论了光在两种透明介质界面上反射和折射时,反射光和折射光与入射光振幅及强度的关系,纠正了一些教科书中对“分振幅”概念的错误理解.  相似文献   
16.
利用解析的办法对透射光栅夫琅禾费衍射图样中的光强度分布进行了进一步分析和讨论,这无论是从技巧上还是从思维方式上都可以引起人们对此现象有更深入、更细致的掌握和理解,以从更广阔的角度去审视诸如此类的问题。  相似文献   
17.
孙慕渊 《咸宁学院学报》2004,24(6):69-70,78
讨论了夫琅和费双狭缝衍射的振幅、光强分布、衍射图样.从单缝衍射效应和缝间干涉效应出发,来分析不等宽夫琅和费双缝衍射的基本方法.  相似文献   
18.
增透膜是光学中常用的器件,但常用的λ/4薄膜,并没有使透射光的光强达到最大.研究了通过多层镀膜来改善增透效果,同时也增加了透射光的频宽.  相似文献   
19.
光电效应的发现和正确解释是物理学史上具有里程碑意义的重大事件。因此,正确理解光电效应的基本规律尤为重要。文章针对教学过程中一些学生甚至教师对光电效应基本规律存在的误解及造成误解的可能因素进行了分析修正。  相似文献   
20.
文章利用库仑修正的量子轨迹方法(Coulomb-corrected quantum-trajectories, CCQT)研究了氩(Ar)原子在少周期激光脉冲中的再碰撞激发电离(recollision excitation with subsequent ionization,RESI)过程。研究发现,随着光强的增大,Ar原子的动量关联分布逐渐由第二四象限向第一三象限转变,与实验结果吻合。分析表明,电子关联的转变主要是由于第一个电子返回时所携带的能量随光强变化造成的。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号