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71.
对高密度光存储技术中光瞳环带相位调制方法进行了分析,并将其与光学切趾术进行了比较.研究发现,这种减小像面上光斑大小的方法是以大幅度增加旁瓣与主瓣的相对大小为代价的,它提高光存储密度的效果基本与光学切趾术相当.但是,对于高阈值的光探测器.光瞳相位调制方法要优于光学切趾术.  相似文献   
72.
应用现场椭圆偏振光谱技术并结合循环伏安法。研究了镍电极表面Ni(OH)2与NiOOH的相互转化,以均匀膜模型拟合实验数据获得表面膜厚度的变化规律,采用以光学参量变化速率(Vop)为参数的椭圆偏振光谱方法能直接反映出体系的特征.Vop参量与表面膜厚度的变化率间存在密切关系,Vop反映了电极表面表面膜厚度的变化率.  相似文献   
73.
嘧啶环二炔氮桥C60衍生物的合成及非线性光学性质   总被引:1,自引:1,他引:1  
合成了嘧啶环二炔氮桥C60衍生物C60NPD ,研究了在532nm、脉宽 8ns条件下的非线性光学特性。通过Z-扫描实验发现C60NPD有很强的非线性吸收和非线性折射,并获得了三阶非线性光学系数χ(3) 。同时也研究了光限幅特性,实验结果表明C60NPD有较低的光限幅箝位值。  相似文献   
74.
波动光学应用于成像光学系统装配公差的确定   总被引:2,自引:0,他引:2  
给出一种利用波动光学原理计算成像光学系统,特别是非旋转对称系统的装配公差计算方法.采用光波波面描述物面上一个点发出的光在存在装配误差的系统中的传播过程.用菲涅耳衍射公式计算自由传播部分;用薄透镜的透射比计算通过透镜时的波面变化,由此得到射向像面的成像波面;通过对成像波面分布的分析推断成像情况;依据容许的成像质量确定装配误差.以一个含两个柱面透镜的成像系统为例,导出了确定这两个柱面透镜母线不正交性公差的公式.由此说明该方法可以解决不易用几何光学方法获得解析结果的问题.  相似文献   
75.
在使用综合参数测试仪测试半导体量子阱激光器的过程中,通过测试的功率曲线和伏安特性,断定激光器受到损伤,由扫描电镜(SEM:Scaning Electron Microscopy)观察到激光器的腔面出现了熔化,证实激光器性能的改变是由于产生了暗线缺陷(DLD:Dark Line Difect)和灾变性光损伤(COD:Catastrophic Optical Damage),通过分析,了解到激光器的退化主要是由器件本身的材料、结构以及后期的工艺过程所决定的,在测试器件过程中电浪涌会加速或产生突然灾变性退化,最后给出了用隔离及无吸收窗口来减少损伤的方法.  相似文献   
76.
采用不同合成路线 ,合成了一类多功能偶氮化合物。用溶剂变色法测算得这类化合物的二阶极化率与化合物基态偶极矩的复合量 ( βCTμg)数量为 10 - 2 8esu·D ,其 βCTμg 值与化合物“推—拉”电子发色团取代基的“推—拉”电子强度密切相关 ,其中含杂环的化合物有很高的 βCTμg 值。掺杂 2_甲基_4′_咔唑己基_4_硝基偶氮苯(CHNA)的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜有良好的光致变色性能。  相似文献   
77.
1,8-萘啶类化合物及其配合物是当前国内外研究的热点,具有特殊的抗菌活性、催化及光学特性,极具应用潜力。本文综述了该类化合物及其配合物结构、性质以反应用等方面的研究进展。  相似文献   
78.
氧化铟锡薄膜在光学太阳反射镜上的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了光学太阳反射镜抗静电放电用氧化铟锡薄膜的设计原则.理论分析和实验结果表明,在将氧化铟锡(ITO)薄膜应用于光学太阳反射镜(OSR)表面防静电放电时,ITO薄膜的表面方阻R□不能小于5 kΩ@□-1,否则会导致OSR的太阳光谱吸收率增加.建议取R□=5~106kΩ@□-1,薄膜厚度d=(150~200)×10-10 m.同时必须保证ITO薄膜接地效果良好,否则会使OSR表面充放电现象更加严重.  相似文献   
79.
在常规核磁共振谱仪上自行设计和研制了一套磁共振微成象系统,改装谱仪的选择激发单元,制作梯度场放大器、梯度场线圈,改造探头。由基于IBMPC的主控计算机负责脉冲序列波形产生、软脉冲波形产生、数据处理、图像重建以及成象实验的协调和控制,配合谱仪进行了自旋回波脉冲序列的成象实验,获得了较高质量的质子密度图像,该成象系统制作成本低、实验参数改变方便,适合于在未带成象功能的磁共振谱仪上进行成象技术研究。  相似文献   
80.
本文推导出目标函数的导数公式,改进了利用“多约束非线性方程组”计算真空紫外光学常数的方法,我们自编了VUV-ROCP微机软件,可由真空紫外反射率求出真空紫外薄膜光学常数和入射光的偏振度。运用该软件对不同工艺的Au、Pt、Al样品的反射率进行解析,得到了它们的真空紫外薄膜光学常数,并与国外报道的结果进行了比较。  相似文献   
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