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111.
在使用综合参数测试仪测试半导体量子阱激光器的过程中,通过测试的功率曲线和伏安特性,断定激光器受到损伤,由扫描电镜(SEM:Scaning Electron Microscopy)观察到激光器的腔面出现了熔化,证实激光器性能的改变是由于产生了暗线缺陷(DLD:Dark Line Difect)和灾变性光损伤(COD:Catastrophic Optical Damage),通过分析,了解到激光器的退化主要是由器件本身的材料、结构以及后期的工艺过程所决定的,在测试器件过程中电浪涌会加速或产生突然灾变性退化,最后给出了用隔离及无吸收窗口来减少损伤的方法.  相似文献   
112.
简述了在等离子体加载高功率微波器件中的离子通道的研究背景及物理机制,利用电磁场理论导出了离子通道的聚束条件和通道半径的表达式,并对各区域的相对介电常数作了分析。  相似文献   
113.
应用激光—线阵CCD成像技术,提出了一种高速、高精度热轧机辊形检测方法,阐述了激光—线阵CCD工作原理及CCD视频信号图像处理技术,介绍了激光—线阵CCD热轧机辊形检测系统。采用新的自适应快速边缘聚焦法。有效地降低了噪音对成像质量的影响,提高了处理数据的速度,使图像得到有效增强,成功地解决了除噪、边缘检测和特征信息提取等关键技术,并通过实验进行了验证。  相似文献   
114.
Altera公司近期推出新一代CPLD器件-ACEX 1K,这种芯片具有易失性,需要配置器件来保存CPLD器件的配置数据。对此,介绍了ACEX 1K系列器件的配置方法,对各种配置方法进行了分析对比,并着重论述了应用配置器件配置ACEX 1K系列器件的优点。  相似文献   
115.
采用不同合成路线 ,合成了一类多功能偶氮化合物。用溶剂变色法测算得这类化合物的二阶极化率与化合物基态偶极矩的复合量 ( βCTμg)数量为 10 - 2 8esu·D ,其 βCTμg 值与化合物“推—拉”电子发色团取代基的“推—拉”电子强度密切相关 ,其中含杂环的化合物有很高的 βCTμg 值。掺杂 2_甲基_4′_咔唑己基_4_硝基偶氮苯(CHNA)的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜有良好的光致变色性能。  相似文献   
116.
1,8-萘啶类化合物及其配合物是当前国内外研究的热点,具有特殊的抗菌活性、催化及光学特性,极具应用潜力。本文综述了该类化合物及其配合物结构、性质以反应用等方面的研究进展。  相似文献   
117.
氧化铟锡薄膜在光学太阳反射镜上的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了光学太阳反射镜抗静电放电用氧化铟锡薄膜的设计原则.理论分析和实验结果表明,在将氧化铟锡(ITO)薄膜应用于光学太阳反射镜(OSR)表面防静电放电时,ITO薄膜的表面方阻R□不能小于5 kΩ@□-1,否则会导致OSR的太阳光谱吸收率增加.建议取R□=5~106kΩ@□-1,薄膜厚度d=(150~200)×10-10 m.同时必须保证ITO薄膜接地效果良好,否则会使OSR表面充放电现象更加严重.  相似文献   
118.
本文推导出目标函数的导数公式,改进了利用“多约束非线性方程组”计算真空紫外光学常数的方法,我们自编了VUV-ROCP微机软件,可由真空紫外反射率求出真空紫外薄膜光学常数和入射光的偏振度。运用该软件对不同工艺的Au、Pt、Al样品的反射率进行解析,得到了它们的真空紫外薄膜光学常数,并与国外报道的结果进行了比较。  相似文献   
119.
龙德良  施舒  梅毓华  忻新泉 《科学通报》1997,42(11):1174-1178
在无机氧化物及含氧酸盐、半导体材料、有机化合物、聚合物和金属有机化合物等领域近年来关于非线性光学材料的研究引起人们的广泛兴趣。原子簇化合物由于其特有的结构与性能特点,它们实际上是一类具有广泛应用前景的非线性光学材料。我们的实验发现,Mo(W)-Cu(Ag)-S簇合物呈现出很强的三阶非线性光学效应,特别是一些含银的簇合物的光限制能力超出C~(60)的2~3倍。我们已对蝶状、离子型类立方烷、鸟巢状和双鸟巢状,六棱柱状及二十核超笼状簇合物等Mo(W)-Cu(Ag)-S簇合物的非线性光学性研究作了报道。在这些报道中有关铜的簇合物较多,而银的相对较少。本文报道直链状簇合  相似文献   
120.
介绍了一种简便易行的光度分析方法在双氰胺工业品的含量测定中的应用.该方法根据双乙酰反应(biacetylreaction)的原理,即:当α-萘酚存在时,含胍基的化合物与双乙酰反应,在强碱性介质中,生成一红色化合物的过程,对双氰胺工业品进行含量测定研究.结果表明,该红色化合物在530~560nm处有显著吸收,其摩尔吸光系数ε=1.66×104Lmol-1cm-1,适合于用光度法比色测定.该方法在0~14mgL-1的浓度范围内呈线性关系,符合比耳定律.其测定回收率为98%~101%,相对标准偏差为±0.59%.此外,该方法还适用于双氰胺残留物的痕量分析和监测.  相似文献   
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