平板显示器件的多种灰度显示方案

介绍了各种灰度实现的方案，分析其灰度级实现原理和各自的特点，并着重描述子场和PWM方法；同时介绍一款专用灰度调制芯片BHL2000及其在动态图像显示中的实际应用方案，该芯片已在目前国内最大的FED驱动电路中采用。较其它FPD灰度调制方面的文章，本文的分析更为全面，并举出应用实例。     

量子阱中束缚光学极化子

采用线性组合算符及幺正变换方法研究了量子阱中强、弱耦合束缚光学极化子的性质．导出了量子阱中束缚光学极化子的基态能量与库仑束缚势、电子-LO声子的耦合强度和阱宽的变化关系．通过数值计算结果表明：基态能量因电子-LO声子的耦合强度和库仑束缚势的不同而不同，它随电子-LO声子的耦合强度和库仑束缚势的增大而增大，当电子-LO声子的耦合强度和库仑束缚势取某一定值时随阱宽的增大而增大．     

闭路函子和同纬函子保持同伦正则性

证明了闭路函子和同纬函子保持同伦正则性 ,同时构造出了一系列同伦等价的空间     

Co2+: CaAl2S4吸收光谱的理论解释

MgAl2Sd，CaAl2S4，CO^2 MgAl2S4和Co^2 CaAl2S4晶体是典型的三重复合半导体材料，由化学输运反应的方法可以成功制备而得出，具有宽的能隙结构，因而在光电方面有着非常重要的应用而备受广泛的关注．采用Sugano-Tallabe强场近似理论，引入平均共价因子Ⅳ，利用经典晶场能量矩阵公式，在D2对称模型下计算出的结果较好符合了实验事实，从而纠正了S．K．Oh等人对Co^2 ：CaAl2S4吸收光谱的不合理解释。     

用光谱和EPR谱确定CsMgCl3:Ni2+和CsCdCl3:Ni2+的局域结构

采用半自洽场（semi-SCF）自由Ni^2＋的3d轨道波函数、点电荷-偶极子模型和Ni^2＋-6X-（X=F,Cl,Br,I）络合物的μ-κ-α模型,建立了结构参数与光谱、EPR谱之间的定量关系,利用完全对角化方法,由光谱和电子顺磁共振（EPR）谱,确定了CsMgCl3：Ni^2＋和CsCdCl3：Ni^2＋晶体在77K温度时的Ni^2＋占位和局域结构参数,统一解释了CsMgCl3：Ni^2＋和CsCdCl3：Ni^2＋晶体的结构、光谱和EPR谱.此外,还讨论了高阶微扰方法、参量拟合方法等问题.所得理论结果与实验值符合得很好.     

LiNbO3:Fe晶体中不同强度分布的片光导致的折射率变化

从Kukhtarev方程组和基于载流子光伏迁移机制的简化模型出发, 对不同强度分布的片光在LiNbO₃:Fe晶体中导致的折射率变化分布进行了理论分析. 数值模拟的结果与简化模型得出的解析表达式相吻合. 采用切片干涉法对矩形、Gauss和平方律分布的片光辐照LiNbO₃:Fe晶体导致的折射率变化进行了实验测量. 利用理论分析得到的解析表达式很好地拟合了测量数据点. 根据衍射的角谱理论和射线方程分别对写入光强度分布沿传播方向上的一致性以及晶体自散焦效应的影响进行了数值模拟, 结果表明实验测量的结果是可靠的. 因而在LiNbO₃:Fe晶体中可以通过改变写入光的强度分布得到不同的折射率变化分布, 利用数值模拟或由简化模型得出的解析表达式可以对给定强度分布的片光导致的折射率变化分布进行预测.     

一种新型双层PBG结构带阻滤波器

本文介绍了一种双层结构的基于村底打孔的PBG结构带阻滤波器，采用了周期结构与微带电路分离的设计。解决了传统的打孔结构的导带加工问题，并且有利于电路的加工和修改。最后给出了利用HFSS理论仿真和实际测量的结果，论证了这种结构的可行性     

WDM疏导网络中的子通路保护算法

研究了WDM疏导网络的生存性问题,提出一种基于共享风险链路组(SRLG)限制的共享子通路保护算法·该算法将业务连接的工作通路分为互不重叠的等长子通路,分别找出它们SRLG分离的保护通路,并且允许共享保护资源·仿真研究表明:该算法既保证了业务连接的可靠性要求,同时又提高了全网资源利用率·另外,它允许网络管理者根据不同优化指标调整子通路的长度,从而可以在恢复时间和资源利用率之间进行折中·     

二极管端面泵浦Nd:YAG 946 nm激光器理论分析及其相关量的数值模型

利用激光谐振腔处于稳态时的速率方程导出了准三能级Nd：YAG　946nm起振时透射损耗与最佳激光晶体长度的关系，我们直观地给出了其计算机模拟，在与1064nm透射损耗相比较的基础上，形象给出了一系列情况下的最低镀膜要求(对这个问题系统、细致的讨论在以往的文献中还没有见过)，并且计算机模拟了阈值、输出功率和它们各自相关量的关系，为设计室温下高效运转的946nm激光器提供了必要的理论数值参照．这种分析方法对此类低增益，准三能级或三能级系统有借鉴意义。     

格值Fuzzifying连续映射的若干性质

本文讨论了L—fuzzifying连续映射，L—fuzzifying基连续映射和L—fuzzifying子基连续映射的若干性质及等价刻划．