关于半连续格范畴

构造了一类新的保持半连续格结构的映射，进而得到了意义更广泛的连续格格范畴。     

可解完备Lie代数Ⅱ

推广文献[1]中定理3.3可得 定理1 设且是Lie代数L的Cartan子代数,且满足下列条件: 1)H是Abel的。 2)L关于H的分解如下: L=H+sum from α∈Δ(L_α), 其中。 3)在Δ中有H~*的生成元组α_1,α_2,…,α_n使dimL_(α_j)=1,     

Hopf余模余代数的Morita理论

自1958年建立Morita理论以来,Morita context被广泛应用于代数结构的研究。1986年,Cohen和Fischman对Hopf模代数建立了Morita理论,并把它用于研究Smash积。之后,Cohen,Fishchman和Montgomery等又作了发展。为了对余模建立相应的理论,Takeuchi于1977年定义了所谓的pre-equivalence date,即Morita context的对偶概念。本文的目的是对Hopf余模余代数建立Morita理论,并把它用来研究Hopf cogalois。 本文的所有讨论都在固定的域k上进行。有关Hopf代数的基本事实见文献[4,5],采用Sweedler的记法,但省略和号∑。 设C为左H-余模余代数,β:C→H(?)C,β(c)=C~(1)(?)C~(2)(已省略∑,下同)为结构映射,即(?)c∈C有     

关于Lindelof空间的一些推广

本文证明了ａｌｍｏｓｔ　空间（Ｓｔａｒ　空间，Ｗ１　空间，ｗｅａｋｌｙｗ１　空间）是连续映射下的不变量，并在一定条件下讨论了它们的逆不变量．     

外平面图的完备染色

设Ｖ（Ｇ）、Ｅ（Ｇ）和Ｆ（Ｇ）分别为平面图Ｇ的点集、边集和面集。Ｇ的完备色数Ｘｃ（Ｇ）是使得Ｖ（Ｇ）∪Ｅ（Ｇ）∪Ｆ（Ｇ）中相邻或相关联的元素间均染不同色的最少颜色数。本文证明了：对无割点的外平面图Ｇ，有Ｘｃ（Ｇ）≤ｍａｘ｛７，△（Ｇ）＋１｝，其中△（Ｇ）为Ｇ的最大度数。     

正则纯整群带的同余格

利用正则半纯整群带上同余的同余组刻划，分别用图以及生成集和生成关系这两种方法，确定了正则纯整数带的两个重要的同余子格。     

Hopf代数的交叉余积

本文给出左（右）交叉余积的定义，并讨论其性质．     

拟离散模的消去性

对拟离散的消去性作了讨论，得到如下主要结果：（１）模Ｍ有提升性当且仅当Ｍ的每一个余闭子模是Ｍ的直和项；（２）拟离散模的子模的任何两个余闭包是超视的，因而是同构的；（３）拟离散模有消去性当且仅当其每一个为直和项的空子模有消去性；（４）在有消去性的拟离散模中，若其两个子模的商模同构，则这两个子模的余闭包同构．     

半群上的L-模糊同余

本文给出了一个Ｌ模糊关系生成Ｌ－模糊同余及包含在这Ｌ－模糊关系中最大的Ｌ－模糊同余的刻画。进一步证明了一个半群的Ｌ－模糊同余格是一个完备格且给出两个Ｌ－模糊同余并的刻画，特别地，我们得出群的Ｌ－模糊同余格为模格     

Δ—半群上的若干同余

首先定义了Δ－半群，然后在纯正群上引入了关系Ｆ，Ｃ，Ｆ°和Ｃ°。由此，给出并证明了Δ－半群上最大幂等元纯同余，最大幂等元分离同余及最小群同余等同余的等价刻划。