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101.
计算机技术和计算机通信正迅速发展,并已深入各个领域,以它计算准确,数据处理速度快,计算量大以及高度的智能化逐步取代以人为主体的一些工作。传统的变配电所监控系统模式已不能满足需要,而需要采用先进的变配电所综合自动化系统模式。 相似文献
102.
由大连光洋科技工程有限公司启动的“全数字总线开放式高档数控系统”和“基于力矩电机的单/双轴转台。双摆铣头”两项重大科技攻关项目,将满足我国装备制造业对高档数控系统的需求及国防、航空、航天等重大工程的需求,对形成我国高档数控设备的综合配套能力和国产化率具有非常积极的意义。 相似文献
103.
随着移动计算技术的高速发展,HIP因其在移动主机支持及安全等方面的优越特性而备受关注.可尽管HIP在保护通信两端方面具有卓越的安全特性,但作为HIP通信节点的中间系统(如NAT/FW系统)却不能得到有效保护,尤其是在不对称路由环境下的HIP中间系统,很容易遭受攻击.本文在分析HIP通信及其中间系统的基础上,结合HIP注册扩展协议,提出一种在不对称路由情况下的安全的基于HTN(HIP through NATs)的HIP中间系统模型.该系统不仅让HIP通信主机可以感知链路上的NAT等中间系统,HIP中间系统也可以通过注册协议,来学习连接状态信息,并验证通信发起主机是否真正感兴趣于成功建立HIP连接,并为后续更新报文的验证提供可信依据,从而有效避免遭受DoS及MitM攻击. 相似文献
104.
105.
106.
孟崎 《上海师范大学学报(自然科学版)》2008,37(6):F0002-F0002
2008年11月4~8日在上海新国际博览中心举行的2008中国国际工业博览会是工博会创办以来的第10年,在各主办中央部委和上海市委、市府的共同着力培育下,工博会已成为全国乃至全世界关注的高科技创新成果和现代工业装备的大型展会,也是高校展示高新科技成果并寻找转化和产业化机会的重要平台.上海师范大学有5项应用型项目或产品参加展出,分别是FSR—VI智能型心肺复苏模拟人、中小型燃气发电机、高性价比摆线针轮行星减速器、 相似文献
107.
109.
110.
纳米压印光刻(Nano Imprint Lithography,NIL)是面向45nm以下半导体制造工艺下一代光刻技术的主流之一。基于紫外纳米压印光刻是一种在常温和常压下使用的光刻技术,是非常有希望成为未来光刻技术的主流工业技术。多层纳米压印套印对准技术是基于常温紫外纳米压印设备的核心关键技术,该技术是制约紫外纳米压印光刻技术,广泛应用于半导体制造并促其成为主流光刻技术的瓶颈。将并联机构引入纳米压印装备的研制之中,进一步提升纳米压印设备中掩模台和工件台之间的对准精度和定位精度。 相似文献