泛圈图的一个充分条件

在文[1]中给出定理,设G是一个n-阶2-连通图且δ（G）≥t,若对于G的任意两个不相邻的点u和v,均有｜N（u）∪N（v）｜≥n-t成立,则G是一个泛圈图或G≌Kn/2,n/2.本文的目的在于将此定理的条件减弱,只对图中距离为2的点进行讨论,得出了泛圈图的一个充分条件.文中主要用数学归纳法对定理进行证明,先在引理中给出了几种特殊情况的证明,接着在定理的证明中讨论了一般情形.     

冷冻处理硝酸纤维素稀溶液对其内部结构影响的热分析研究

硝酸纤维素（NC）的丙酮稀溶液经过循环冷冻-融化处理后,对其内部结构运用热分析方法进行了初步研究,并通过放热速率方程法对NC样品热分解过程的动力学机理进行了探索.从而认为低温处理会导致NC分子链发生内缔合.     

硫酸庆大霉素聚乳酸微球的制备及其体外缓释度的测定

以硫酸庆大霉素为囊心物质,采用复乳法制备了硫酸庆大霉素-聚乳酸微球（gentamycin sulfate-polylactic acid-microspheres,GTMS-PLA-MS）,比较了不同制备条件下所得微球的差异.扫描电镜（SEM）测试表明微球外观呈球形并且多孔,两种条件下制备的微球平均粒径分别为6.67 μm和11.70μm,药物包封率分别为37.52%和49.19%.用差热分析法（DTA）分析微球得知,硫酸庆大霉素与聚乳酸两种物质相互融为一体.以pH=7.4的磷酸盐缓冲溶液为释药介质,用紫外分光光度法（UV）对载药微球的体外释药过程进行了试验.结果表明,微球在最初20 min有突释效应,此后是缓慢释药,最终累积释药量达95%以上.     

4-二甲氨基吡啶合成工艺的改进

采用DM F法合成了4-二甲氨基吡啶,并对该合成工艺进行了优化.由吡啶与氯化亚砜合成中间体双吡啶盐酸盐的收率从文献报道的57%提高到65%;由中间体与DM F合成目标化合物的收率从文献报道的53%提高到73%.所用合成方法简化了操作步骤,降低了合成成本,减少了三废排放.     

蒙椴树皮提取物化学成分的气相色谱-质谱分析

用不同极性的有机溶剂对蒙椴树皮进行提取,对得到的油状成分利用气相色谱-质谱法分析了其化学组成,鉴定了其中的57种化学成分,并通过峰面积归一化法确定了它们的相对含量,鉴定成分占总组分的73.26%;主要成分为酯类化合物,同时鉴定出烷烃类、酸、醇、醛、酮类化合物.     

2,4-二氯苯基荧光酮分光光度法测定环境水样中微量铜

研究铜(Ⅱ)-2,4-二氯苯基荧光酮(DC IPF)-表面活性剂体系,提出以溴代十六烷基吡啶(CPB)增敏,在pH 5.82的HA c-N aA c缓冲介质中Cu(Ⅱ)与DC IPF反应生成1∶2的络合物,最大吸收波长为602 nm,线性范围为0~0.8 m g/L,检出限为0.04 m g/L摩尔吸光系数为8.98×104L/(m o l.cm).将该体系用于环境水样中微量铜的测定,方法准确可靠,抗干扰效果好且简便易行.     

镍(Ⅱ)和铜(Ⅱ)配合物的氧化还原与pH值相关性的研究

用循环伏安法研究了两个新的三元配合物[Ni(phendio)(TPA)](CIO_4)_2(1)和[Cu(phendio)(TPA)] (CIO_4)_2(2)(phendio=1,10-菲咯啉-5,6-二酮,TPA=三(2-吡啶甲基)胺)在pH 2～9的磷酸盐缓冲溶液中的电化学性质．实验结果表明,在-0．3～0．4 V(vs．SCE)电位扫描范围内这两个配合物都表现出与pH值相关的氧化还原活性,pH＜4时,是2e~-/3H~ 过程,pH＞4时为2e~-/2H~ 过程．     

Rashba效应影响下InAs/GaAs自组织量子点中极化子性质

考虑Rashab自旋-轨道相互作用对半导体量子点中极化子基态能量的影响．采用LLP中耦合的方法处理了电子-声子相互作用．结果表明由于Rashba效应的影响使得极化子的基态能量分列为上下两支而且Rashba自旋-轨道相互作用能与总的基态能及其它能量成分间的比例关系，随电子波矢K变化非常显著．Rashba自旋-轨道相互用作使得量子点中极化子基态能量在无任何外磁场的情况下发生分裂，所以完全不同于强磁场影响下的简单Zeeman效应，然而，自旋-轨道相互作用引起的分裂有时掺杂着Zeeman分裂。因此它引起的分裂属于复杂分裂．声子对总能量的贡献为负，由于声子的存在极化子争裂能较裸电子更为稳定．     

Lω-空间中的ω*Ti分离性

在Lω-空间中引进一组新的分离公理。即ω^＊Ti分离公理（i=0，1，2），给出了它们的特征性质，证明了ω^＊Ti分离性具有可遗传性、可乘性和ω-同胚不变性，以及在R．Lowen意义下“好的推广”等重要性质，并且它们之间有很好的协调一致性．     

分子印迹技术研究的新进展

分子印迹技术是制备对特定分子具有特异性识别能力的高分子聚合物的一种技术,本文就近些年来分子印迹技术在合成单体、合成方法以及应用领域等方面取得的新进展进行了综述.