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1.
聚合物薄膜修饰电极及其新进展 总被引:1,自引:0,他引:1
简介了聚合物薄膜修饰电极的基本类型,讨论了电极修饰的聚合物材料、修饰层结构和在应用方面最近的进展。 相似文献
2.
研究了Zn-Ni合金镀液中的主盐氯化锌的浓度,电镀工艺参数对Zn-Ni合金镀层中Ni含量的影响.结果显示,电镀时峰值电流密度是影响Zn-Ni合金镀层中Ni含量的主要因素.通过控制峰值电流密度,制备出了不同组分的Zn-Ni合金多层膜. 相似文献
3.
利用射频磁控溅射技术在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜.分别采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪分析了调制比对TiB2/TiAlN纳米多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:大部分多层膜的纳米硬度和弹性模量值均高于两种个体材料混合相的值,在调制比为t ... 相似文献
4.
离子束辅助沉积法制备TiAlN/TiB2纳米多层膜的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
运用离子束辅助沉积法(IBAD)制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内应力和膜基结合力等力学性质的影响.结果表明:随着调制比例从8∶1变化到25∶1,多层膜的硬度在29~34 GPa之间变化,所有多层膜的硬度均高于TiAlN和TiB2两种各体层材料通过混合法则得的结果,结合XRD结果分析认为,TiAlN(111)择优取向是薄膜硬度升高的一个重要原因. 相似文献
5.
提出并讨论了采用 X射线色散谱 ( EDX)技术表征纳米多层膜调制结构的原理和方法 ,对Ti N/ Nb N纳米多层膜的调制结构特征进行了表征 ,并与横截面透射电子显微镜 ( TEM)表征方法进行比较 .结果表明 ,对于多层膜的调制比 ,EDX是一种更为精确和方便的方法 .采用 EDX结合 X射线衍射 ( XRD)技术可以准确、方便地表征纳米多层膜的调制结构 . 相似文献
6.
在Drude模型的基础上,计入金属薄膜表面对传导电子弛豫时间的影响,计算了金属的介电函数和光学常数,并利用结构特性矩阵方法计算了金属/电介质多层膜的反射率和吸收率,讨论了金属层厚度、层数对反射率和吸收率的影响 相似文献
7.
董声雄 《福州大学学报(自然科学版)》1993,(1):88-92
应用LB累积层膜技术把聚合物单分子层沉积在微孔基底膜上,制成复合膜并进行CO2和CH4的传质试验.结果表明,足够层数的聚合物单分子层能复盖住基底膜的全部微孔,排除Knudsen扩散的影响,改善分离系数,实验还发现,当温度升高时,该复合膜的CO2相对于CH4的透过选择性有明显提高. 相似文献
8.
采用射频磁控溅射方法在Si(100)基底上制备了一系列ZrC/ZrB2纳米多层膜和ZrC,ZrB2单层薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM),MS-T3000摩擦磨损仪及表面轮廓仪(XP-2)研究了薄膜的微结构和耐磨性.结果表明,多层膜的界面清晰,调制周期性好,周期为3.52 nm的多层膜摩擦系数最小,约为0.24;ZrC/ZrB2纳米多层膜的耐磨性优于ZrC和ZrB2单层薄膜;ZrC/ZrB2多层膜耐磨性提高的主要原因是,调制结构中大量界面的存在,提高了薄膜的韧性,从而增强了薄膜的耐磨性能. 相似文献
9.
用射频磁控溅射技术制备了[SiO2(t1)/Fe25Ni75(t2)]N多层膜系列(其中t1和t2分别代表SiO2层和Fe25Ni75层的厚度,N代表层数).研究发现,对[SiO2(3.3 nm)/Fe25Ni75(t2)]10系统,当Fe25Ni75层厚度小于2.4 nm时,Fe25Ni75层从连续变为不连续;当Fe25Ni75层不连续时,lnR基本上正比于T-1/2,表明导电机制为热激发的隧穿导电;在t2=2.1 nm时,隧道磁电阻(TMR)有极大值,为-0.64%.对[SiO2(1.8 nm)/Fe25Ni75(1.6 nm)]N系统,发现磁电阻先随着层数的增加而增加,然后趋于饱和. 相似文献
10.
Conclusion We have investigated the aging effect of Co/C soft X-ray multilayers prepared by dualfacing-target sputtering. It was found
that phase-separation phenomena exist in the Co/C multilayers, which causes the reflectivity at grazing incidence to increase
with time, and can be interpreted as positive enthalpy of Co-C mixing. It is evident that oxidation of the outermost layer
of Co/C multilayers with Co deposited last is a potential problem in applications where the highest possible reflectivity
is required. 相似文献