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121.
双四象限探测器位置自适应测量新模型   总被引:1,自引:0,他引:1  
为了得到最佳的动态跟踪性能,提出了最小二乘向量机与矩阵光学相结合的建模方法,建立了双四象限探测器在激光跟踪光路中的全新测量模型,该模型可实现对探测器参数的自适应测量.相对于以往的数学模型和测量方法,该模型具有清晰的物理含义,更符合研究对象的工作机理.使用该模型可获得更完整的测量样本,消除了测量中的“死点”和“坏点”,对位移量测量的不确定度为1μm,最大误差在原研究基础上减小了3μm,系统也省去了多维高精度的测量和机械调整系统.这一模型同时为三维小角度测量提供了一个快捷的技术途径.  相似文献   
122.
针对自行研发的基于窗口调制和比色测温技术的热喷涂粒子参数测量系统,从理论上分析了瞄准距离变化对脉冲信号半高宽的影响,提出了光学杠杆关系和信号特征变化两种共同起作用的影响机制,并指出两种机制在小于理想瞄准距离时对半高宽的影响相反,而在大于理想瞄准距离时的影响则因相同而叠加,使得脉冲信号半高宽随瞄准距离的变化呈现不对称U形变化规律.实测脉冲平均半高宽的变化趋势与上述规律吻合良好,根据文中提出的校正系数修正后,在非标准瞄准距离下测得的粒子平均速度的误差明显下降.  相似文献   
123.
热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响   总被引:2,自引:4,他引:2  
利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10min)的样品,样品在400℃的大气中进行1h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折射率、消光系数及厚度;用Van der Pauw方法测量薄膜电学性质,包括载流子浓度、载流子迁移率和电阻率.实验结果显示退火处理对ITO薄膜的光学、电学性质有重要影响,退火样品在可见光区域的透过率明显提高,且光学吸收边向长波方向移动;然而,退火前薄膜的电学性能更好.  相似文献   
124.
本文介绍了光纤生物传感器、椭偏光学生物传感器、纳米级PEBBLE传感器三种光学生物传感器的发展及在医学上的应用情况,并讨论了光学生物传感器的研究进展.  相似文献   
125.
根据高等师范院校的特点,结合教学工作实际,对光学课程的教学内容进行了一系列改革,提出了构建具有高师院校特点的光学教学内容的基本原则和实施方案.  相似文献   
126.
物理学史在提高学生素质的教育中的作用   总被引:1,自引:0,他引:1  
分析了学校教育目标的三个层次,讨论了把科学史教育引入学校教育的重要性和必要性,并进一步分析了物理学史在提高学生素质的教育中的地位与作用.  相似文献   
127.
信息安全性牵涉的范围很广,从国防到我们的实际生活各个方面。本书的内容可以应用于安全、验证、识别、跟踪、鉴定。涉及光学科学与工程、数字图像处理、成像技术、基于计算机的信息系统、传感器、检测器和生物测量中各种不同的专门知识,本书的作者是这个领域的国际上公认的杰出人士,书中汇集了该领域最近的关键性突破。  相似文献   
128.
张秉伦教授于1938年7月出生于安徽省泾县,1960年考入安徽大学生物系,1964年大学毕业后被选拔到中国科学院自然科学史研究室从事科技史研究工作.1983年调到中国科技大学从事科技史研究生的教学培养和研究工作.1985年晋升为副教授,1990年晋升为教授,1995年任博士生导师.他先后担任过中国科技大学自然科学史研究室党支部书记和主任、科技史与科技考古系学术委员会副主任等职务.主要学术兼职有安徽省科技史学会名誉理事长,中国科学技术史学会理事,中国科学院传统工艺与文物科技研究中心学术委员,安徽大学徽学中心学术委员等.  相似文献   
129.
徐裂 《今日科技》2006,(4):24-24
杭州照相机械研究所长期以来从事各种光学系统和非球面光学塑料透镜的研究开发,取得了一系列的成果。主要研究领域为成像光学系统(如各类投影镜头、数码相机镜头、监控摄像镜头)和光通讯光学系统(如激光大气通讯光学系统、准直透镜、传感透镜、扫描镜头等),特别在光学塑料透镜的研发上取得了很好的成效。目前该所已建立大批量生产光学塑料透镜的质量管理保证体系,年产各类光学塑料透镜2000余万片。  相似文献   
130.
水印图像的混沌置乱算法   总被引:4,自引:0,他引:4  
利用混合光学双稳混沌序列的伪随机性和初值敏感性,提出一种用于数字水印中的水印图像置乱算法.该算法针对水印图像,没有使用过多的额外技术,所以算法的复杂度较低;因为混合光学双稳混沌序列的伪随机特性,所以图像置乱的效果比较理想;混沌序列对初值具有敏感性,因此提高了置乱算法的安全性,使水印的安全依赖于密钥,且只需1个密钥,不同于logistic混沌序列需2个密钥.在数字水印技术中使用这种置乱技术,可以有效抵抗例如剪切等集中式攻击,使水印更具鲁棒性.  相似文献   
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