真空预压机理模拟装置及典型示范结果

为了解释广泛应用于软土地基加固的真空预压技术的加固机理中关于影响深度这一困惑工程界多年的疑难问题，研制了一套真空预压机理的演示模型装置，通过该装置可以直观演示真空预压过程中孔隙水与地基土骨架应力的相互转换和传递过程，可以解释和解决真空预压的影响深度问题，实验结果和相关分析可以有力地证明真空预压的有效加固深度大于10m．     

矿用组合磁力控制站通讯系统的研究

介绍了矿用组合磁力控制站中各CPU之间以及CPU与智能显示屏之间的通讯原理,设计了单片机和PLC、PLC和PLC、PLC和触摸屏之间通讯的总体方案,并给出了软、硬件实现方法。试验结果表明:通讯系统方案可行,数据传输实时性好、准确度高。     

一种新型晶粒长大抑制剂对YG10硬质合金烧结行为的影响

研究了一种新型晶粒长大抑制剂对机械合金化制备的纳米晶WC-10Co复合粉末真空烧结行为的影响,探讨了其影响机理.研究结果表明:新型晶粒长大抑制剂有利于烧结致密化;在传统的过渡族元素碳化物基础上添加新型晶粒长大抑制剂,能明显提高复合抑制剂抑制晶粒长大效果,使WC晶粒在烧结过程中明显发生定向生长,抑制盘状WC晶粒的形成;含0.1%新型晶粒长大抑制剂的WC-10Co-0.8VC/Cr3C2纳米晶复合粉末压坯在1375℃烧结30 min后密度为14.48 g/cm3,WC晶粒尺寸为160 nm,显微硬度为2.150 GPa.     

物理气相沉积技术在模具中的应用及发展

物理气相沉积(PVD)在表面处理技术中占有举足轻重的地位。本文通过对三类物理气相沉积技术原理的阐述．说明其应用现况及发展前景。     

热库对原子-场耦合系统中量子非局域性的影响

讨论了光场初态和热库性质对原子场耦合系统中量子非局域性的作用．结果显示，如果腔损耗很弱，热库的平均光子数很小．系统会周期性地展现出量子非局域性．非局域性的消失速度依赖于初始压缩真空态的振幅、热库的平均光子数和腔的衰退系数．场越强、平均光子数和衰退系数越大，非局域性减小得越快。     

孔隙率分布对陶瓷过滤元件过滤特性的影响

针对整体煤气化联合循环和增压流化床燃烧联合循环中陶瓷过滤元件之间的粉尘架桥现象，依据陶瓷过滤元件过滤流动的基本模型和理论，提出变孔隙率陶瓷过滤元件的新概念，推导出为消除或减小粉尘架桥现象的孔隙率沿轴向的分布函数．结果表明：为了避免或减小陶瓷过滤元件之间的粉尘架桥现象采用变孔隙率陶瓷过滤元件是可行的；所用陶瓷过滤元件的孔隙率沿轴向分布的函数表达式为幂指数形式，并且孔隙率沿轴向是逐渐增大的；当陶瓷过滤元件管内处于层流或紊流流态时，因管道摩擦系数不同孔隙分布函数的表达式也不同．     

场致发射硅尖阵列的研制

研究真空微电子器件场致发射硅尖阵列的制作工艺.利用HNA湿法腐蚀工艺制作场致发射硅尖阵列,比较带胶腐蚀与不带胶腐蚀的不同.采用氧化削尖技术对硅尖进行锐化处理.制作了50×60硅尖阵列,同时给出了硅尖阵列的I-V特性.利用HNA湿法腐蚀制备的硅尖结构与理论分析一致,锐化处理改善了硅尖阴极阵列的场致发射特性.     

真空条件下钢液去铜的试验

根据真空冶金原理,通过热力学分析,采用正交设计实验方法,研究了真空度、脱铜剂种类与用量、温度以及处理时间等对钢液去铜的影响·试验结果表明:真空条件下,加入脱铜剂尿素或氧化镁,钢液中的铜可以明显去除,能满足大部分钢种所要求的标准(w(Cu)<0 2%);比较两种不同的脱铜剂的脱铜效果发现,在相同条件下,尿素的脱铜效果明显好于氧化镁;随着脱铜剂用量增加、脱铜时间延长以及温度的提高,去铜率明显增加;当脱铜剂尿素用量为0 7%,脱铜处理时间40min,能够满足洁净钢质量的要求·在实验室研究的基础上,对工业化试验提出了初步的设想·     

真空断路器真空度声学检测方法研究

真空灭弧室内存在两种声发射现象，一种是断路器在开断或关合电路时产生的电弧声发射，另一种是真空度降低到一定程度后，电极对屏蔽罩放电激发的声发射波，探讨了利用这两种声发射波进行真空断路器真空度在线检测的可能性，分析及实验结果显示利用电极对屏蔽罩放电声发射原理在线检测真空度是一个可行的方法。     

PLC控制的真空加注机控制系统设计

介绍了一种由PLC控制的真空加注机控制系统的工作原理、硬件设计和软件流程，并对实际应用过程中软件设计时应注意的问题做出了分析。