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41.
为了提高铜基催化利在甘油氢解制1,2-丙二醇反应中的稳定性,制备Cu/ZnO和Pd/WO3/ZRO2混合催化剂采用H2程序升温还原(H2-TPR)、NH3程序升温脱附(NH3-TPD)和N2吸附技术对催化剂的还原性能、酸性进行表征。在连续流动固定床反应器中考察Cu/ZnO-Pd/WO3/ZrO2混合催化剂对甘油氢解反应的催化活性和稳定性。结果表明:添加Pd/WO3/ZrO2可降低Cu/ZnO催化剂的还原温度;混合催化剂催化甘油氢解制1,2-丙二醇的稳定性与WO3/ZrO2的酸密度有顺变关系,WO3/ZrO3的酸密度越高,所构成的混合催化剂稳定性越好;均匀混合的Cu/ZnO-Pd/WO3/ZrO2催化剂对甘油氢解反应催化活性和稳定性高。 相似文献
42.
四方形钯纳米片的控制合成 总被引:1,自引:0,他引:1
以PdCl2为前躯体,三缩四乙二醇(TEG)为溶剂和还原剂,聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为保护剂,在一定量KI存在下,于160℃油浴下反应3h,合成了形貌单一、大小均匀的四方形钯纳米片,产物用透射电子显微镜(TEM)、X-射线粉末衍射(XRD)、X-射线光电子能谱(XPS)等进行了表征. 相似文献
43.
提出一种“自下而上”的纳米结构的制备方法。在生长有碳纳米管的氧化硅表面沉积数纳米的钯金属膜后, 用氢氟酸刻蚀, 得到完全由碳纳米管引导的沟槽结构, 并且碳纳米管沿沟槽分布在其底部。通过导电原子力显微镜对沟槽内的碳纳米管的表征, 发现其仍然具有良好的导电性。在碳纳米管和钯金属膜之间增加一层磁控溅射沉积的氧化硅, 可以增加沟槽的深宽比。通过降低钯金属膜的致密程度, 沟槽的开口宽度可降至100 nm左右。该方法制备的结构可以进一步用来构建基于碳纳米管的纳电子器件。 相似文献
44.
有机硅聚合物负载硫、氮双齿钯(0)配合物的合成与催化性能 总被引:1,自引:0,他引:1
4 氧杂 6 ,7 环硫庚基三甲氧基硅烷依次与二乙胺、气相法二氧化硅及水、氯化钯反应 ,接着用水合肼还原 ,合成了聚 4 氧杂 6 巯基 7 二乙胺基庚基硅氧烷钯 (0 )配合物 .研究了其在Heck芳基化反应中的催化特性 . 相似文献
45.
以芳香醛、芳香胺和二氢呋喃或二氢吡喃为原料,在氯化钯和苄基三乙基氯化铵的复合催化作用下,在乙腈溶剂中进行多组分反应,高收率地合成了一系列的苯并呋喃类喹啉类衍生物和苯并吡喃类喹啉类衍生物,所有产物均通过熔点、IR、1H NMR、13C NMR、MS和单晶测试等手段进行结构鉴定与表征,其中包括12个新化合物.探讨了上述多组分反应的最佳反应温度、最佳催化剂及用量,并推测了可能的反应机理. 相似文献
46.
王琳 《杭州师范学院学报(社会科学版)》1991,(3)
用热分析实验证实了TiO_2在温和的条件下就存在部分还原现象;结合TiO_2上负载了Pd后对CO_2吸附能力显著减弱之结果,支持了Pd/TiO_2中存在着载体和金属间强相互作用的观点;借助热分析结果,认为催化剂中各组分间存在着相互作用是一个普遍现象。 相似文献
47.
48.
49.
分别运用X射线荧光测厚和SEM,研究了Pd浓度、NH3·H2O浓度、EDTA浓度、pH值及时间对印刷电路板置换镀钯的影响。实验结果表明,当CPd2+浓度在0.5~0.8g/L范围内,钯的沉积厚度随钯离子浓度的增加而增加;当CPd2+浓度大于0.8g/L时,钯的沉积厚度基本不变;Pd的沉积厚度随着所加入的NH3·H2O的量的增多而先增大后减小;EDTA能提高镀钯液的稳定性,Pd的沉积厚度随着EDTA浓度的增加而降低;当pH=(5.0±0.2)时,Pd的沉积厚度达到最大;镀钯速率随施镀时间的增加而下降。SEM的结果表明,在40℃时所得钯层致密、厚度均匀。 相似文献
50.
研究了市售荧光试剂N-1-萘基乙二胺(NPED)作为荧光探针测定钯的新方法.在pH 4.0的溶液中, N-1-萘基乙二胺与钯发生反应形成络合物,使NPED荧光猝灭,猝灭程度与钯的浓度在 5×10-7~6×10-6 mol/L范围内呈线性关系,检测限3.8×10-7 mol/L;由NPED在不同酸度溶液中的荧光光谱变化,测定了其共轭酸的酸离解常数pKa1和pKa2,探讨了猝灭机理;有常见金属离子及共存贵金属离子Pt4 不干扰测定.实验用的荧光试剂价廉易得,方法操作简单、快速,选择性好,已用于钯催化剂及环境水样中钯含量测定. 相似文献