Cu掺杂对ZnO纳米薄膜的结构及其光学特性的影响

采用磁控溅射法(RF)在玻璃基底上制备了未掺杂和不同Cu掺杂浓度的ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)分别对样品的形貌进行了表征,并对ZnO薄膜进行了应力分析.结果显示:所有样品都呈现出(002)衍射峰,有较好的c轴择优取向;所有样品出现有3个发光峰,分别对应于400 nm(3.14 eV,紫光),444 nm(2.78 eV,蓝光),484 nm(2.56 eV,蓝光).紫峰的存在与激子的存在有极大关系,而蓝光发射主要是由于电子从导带上向锌空位形成的浅受主能级上的跃迁.随着Cu掺杂量的增加,薄膜的带隙宽度Eg随之减小,样品光学带隙值由3.26 eV逐渐减小为2.99 eV.实验中还发现,随着Cu掺杂量增加,薄膜的透射率也随之减小.     

西洋参多糖(PPQ-d)的原子力显微镜观察

用原子力显微镜 ( AFM)对西洋参多糖的微观形貌进行观察 ,发现 PPQ- d呈多股紧密并行螺旋形排列 .这种现象是由于该多糖中所含糖醛酸发生糖链间氢键缔合所致     

Height measurement of DNA molecules with lift mode AFM

Atomic force microscopy (AFM) can be used to im-age and study the local properties of the sample surfacethrough tip/sample interactions. There are three operationmodes: contact mode, non-contact mode and tappingmode. Mostly, the measured heights of dsDNA were only0.7—0.8 nm[1—8] in air by tapping mode atomic force mi-croscopy (TMAFM), which were much less than the gen-erally accepted diameter of 2.0—2.2 nm[9]. In TMAFM, stable imaging is available when the tip is closer to sample surf…     

斜交U型桥台台身破裂病害机理分析与加固设计

以福建省某斜交U型桥台台身裂缝病害为例,结合现场勘查、钻孔取芯、三维有限元分析等手段和方法对桥台裂缝病害成因、正常和超载条件下的力学工作机理进行了受力分析.并对一般U型桥台随斜交角度和宽高比的力学工作机理变化规律进行了探讨研究,提出了相应加固方案,评价了加固效果,得到一些有益结论,可为斜交U型桥台的设计和加固提供参考.     

H3PW6Mo6O40/SiO2催化合成4-苯基-6-甲基-5-乙氧羰基-3,4-二氢嘧啶-2（H）-酮

采用溶胶-凝胶法制备H3PW6Mo6O40/SiO2催化剂,以苯甲醛,乙酰乙酸乙酯和尿素为原料,无水乙醇为溶剂催化合成4-苯基-6-甲基-5-乙氧羰基-3,4-二氢嘧啶-2(H)-酮,研究结果表明:反应物的摩尔比、反应温度、催化剂用量和反应时间是影响4-苯基-6-甲基-5-乙氧羰基-3,4-二氢嘧啶-2(H)-酮合成收率的重要因素.当n(苯甲醛)∶n(乙酰乙酸乙酯)∶n(尿素)=1.0∶1.2∶1.5,反应温度为90℃,催化剂的用量占反应物料总质量的1.5%,反应时间为75min时,产品收率可达70.3%.通过熔点、IR、1 H NMR和MS对合成目标化合物进行了表征确认.     

嵌入式操作系统μC／OS—Ⅱ在ADuC7020处理器上的移植

本文以ADI公司的基于ARM7TDMI核的MCUAduC7020为基础,介绍了嵌入式操作系统μC／OS-Ⅱ在ARM处理器平台上的移植,并在成功移植的基础上,进行了多任务的同步与通信。