浅谈电子设备中金属结构件的防腐设计

本文从材料、环境、耐蚀性表面处理及结构设计等方面,介绍了电子设备中金属结构件的几种常用防腐设计方法及特点。     

电镀法制备晶态Ni-W合金镀层摩擦与磨损性能

采用电镀方法在N80钢表面制备Ni-W合金镀层;经500℃热处理后镀层由非晶态转变为晶态,通过SEM,EDS和XRD等分析Ni-W镀层组织结构、元素能谱和物相组成,研究Ni-W镀层滑动磨损特性,测试其摩擦因数,用SEM观察试样磨损表面形貌,对磨损机理进行分析。研究结果表明:晶态Ni-W镀层为Ni基固溶体,表面显微硬度为1 100,粗糙度为454.41 nm,摩擦因数为0.52左右;Ni-W镀层具有较强的抗磨能力,磨损表面主要呈现轻微擦伤现象,镀层剥落而造成磨粒磨损,磨损率剧增。     

电沉积Cr－C，Ni－P非晶结构稳定性对C，P含量的依赖性

研究了在高加速电压的电子束作用下，Ｃｒ－Ｃ、Ｎｉ－Ｐ非晶镀层结构的稳定性与其组分的关系，发现在远低于晶化温度的条件下，类金属元素含量越低，晶化程度越大。     

化学镀镍工艺中添加剂的研究

采用酸性化学镀液制备了Ｎｉ－Ｐ合金镀层。研究了几种添加剂对镀速的影响，并讨论了添加剂对改善镀层光亮性、针孔以及镀层磷含量所起的作用。     

化学镀Ni—P—B4C合金的研究

研究了化学复合镀Ｎｉ－Ｐ－Ｂ４Ｃ合金镀液的组成、工艺和镀层性能，研究的结果表明，镀液中的Ｂ４Ｃ微粒含量在１０－１５ｇ．ｌ＾－１时，能获得性能较好的镀层，且具有特别高的硬度。     

金属及其二元合金镀层耐蚀性能的理论研究

本文用EHMO法研究了铁、镍、锌金属及其二元合金镀层的耐蚀性能,结果表明:金属表面形成氧化膜后能使金属的最高占有轨道能量降低,金属失去电子的能力减弱,相当于使电极电位正移,因而使金属抗氧化能力提高。这个结论支持了现有的耐蚀理论。计算结果可说明锌镀层与镍镀层具有较好的耐蚀性能的实验事实。对于二元合金,解释或预示铁镍、锌铁和锌镍等合金镀层有比单元金属较好的耐蚀性能。     

“两步”法镁合金化学镀镍的研究

以硫酸镍为主盐,研究了镁合金"两步"化学镀镍工艺·利用扫描电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)和X射线衍射仪检测镁合金"两步"化学镀膜的表面形貌、成分及相结构,利用增重法研究了化学镀速度,并通过锉刀试验评价镀层与基体的结合力·结果表明,在直接化学镀4min后可以实现以硫酸镍为主盐的第二步化学镀镍;"两步"化学镀层为高磷非晶态,表面光亮,耐蚀性良好;且镀层与基体结合力好·"两步"化学镀不仅其镀速快于单一直接化学镀,而且可以优化镁合金化学镀速度与相结构的结合,有效地调整镀层磷含量分布;以硫酸镍为主盐"两步"化学镀能降低镁合金化学镀成本,提高其实用性·     

锌镀层表面杂多酸盐彩色配合物膜的XPS和AES研究

在锌镀层表面，磷钼矾和铈硅钨三元杂多酸(盐)具有较好的配位成膜能力，获得多种具有金属光泽的不溶性彩色配合物膜，膜层有良好的耐蚀性能和装饰效果。加速腐蚀试验结果表明，Na6(PMo9V30Oo）xHzO和K15[Ce(HSiW9O34)2]．xH2O与锌镀层反应时，形成两种新型的杂多酸盐金黄色配合物膜耐蚀性最佳。XPS和AES分析表明，Na6[(PMo9V3O40]．xH2O膜层中钼在膜表面的价态为 6，而在膜内层则以 6、 4价共存，其它元素的价态分别为：Zn( 2)、P( 5)、V( 5)，从其AES深度剥蚀曲线的组成恒定区求得膜的组成为：Zn 19．7％，Mo 29．3％，V21.2％，P16．1％，O 13．5％，膜层的厚度为160nm。K15[Ce(HSiW9O34)2],xH2O膜层中元素的价态分别为：Zn( 2)、Ce( 4)、Si( 4)、w( 6)，组成为：Zn11．3％，Ce13．7％，Si 21．5％，W 26．9％，O 28．8％，膜厚230nm。     

电镀层中钼的分光光度法测定

电镀层中钼的分光光度法测定王尊本任金萍（厦门大学化学系材料和生命过程分析科学国家教委开放研究实验室厦门３６１００５）钼的电镀层外观精美,抗腐蚀性强,近年来受到越来越多的关注．为了了解镀层的质量或改进电镀工艺,必须及时对镀层中钼的含量进行分析．有关利用...     

化学镀Ni-B或Ni-P镀层与油溶性有机钼添加剂的协同效应

在45调质钢基体上化学镀Ni-B合金或Ni-P合金镀层.在基础油润滑下,Ni-B合金或Ni-P合金镀层比45钢耐磨性均提高4.1倍,但摩擦系数却分别增加16.3%,20.35%.在基础油中加入3%的二烷基二硫代磷酸钼(简称MoDTP).结果表明,与未加MoDTP的45钢相比,Ni-B、Ni-P镀层耐磨性分别提高12.8倍,7倍,摩擦系数分别降低54%,51.2%,说明Ni-B或Ni-P镀层与MoDTP有良好的协同效应.