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211.
非奇异双重子ΔΔ结合能计算   总被引:6,自引:5,他引:1  
在推广的带矢量场的手征SU(3)夸克模型下,计算了非奇异的双重子ΔΔ结合能,我们分别考虑了分波耦合和隐色道(CC)耦合对ΔΔ双重子结合能的影响.结果表明,推广的带矢量场的手征SU(3)夸克模型和不带矢量场的手征SU(3)夸克模型给出的定性结果是一样的,即ΔΔ双重子的质量比两个Δ的质量小,但是比ΔNπ质量大.  相似文献   
212.
碳酸钙水溶液结晶的MD模拟   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了温度对碳酸钙水溶液中Ca2+和CO2-3结晶的影响,应用分子动力学(MD)方法模拟了在不同温度下由方解石110晶面和300个水分子、2个Ca2+及2个CO2-3组成的水溶液系统,计算了温度为283 K~373 K的水溶液中水分子、Ca2+和CO2-3的扩散系数以及两种离子与表面的结合能.通过水分子和Ca2+及CO2-3的扩散系数的计算证明在温度为353 K时水溶液中离子最容易反应形成离子对,进而长成微晶,而在343 K时离子最不易结晶.通过结合能的计算,可以看出在313 K时离子与表面的结合能最大,此时离子最容易被晶体表面吸附而在表面上形成新的结晶,而在373 K时结合能最小.  相似文献   
213.
利用有效质量方法和变分原理,考虑内建电场(BEF)效应和量子点的三维约束效应,研究了纤锌矿结构的GaN/A lxGa1-xN柱形量子点中类氢杂质的结合能随量子点高度、A l含量和杂质位置的变化规律。结果表明:类氢杂质位于量子点中心时,杂质结合能随量子点高度的增加先增大后减小,存在最大值;随着A l含量的增加,杂质结合能增大。而杂质从量子点下界面沿Z轴上移至上界面时,杂质结合能先增大后减小,存在最大值。  相似文献   
214.
用密度泛函理论在B3LYP/6-31G*的计算水平上研究了不同烷基链长的氯代N-甲基吗啉.通过计算可知,N甲-基乙基吗啉与1个Cl-形成的离子液体主要有3种构型(mon型、nop型和orth型)6种位置.每个位置形成了3个氢键,其中与吗啉环上的氢形成的氢键最强,键长最短.吗啉环上甲基或乙基上的H原子和Cl-形成相对较弱的氢键相互作用,有利于增强离子对的稳定性.对于N-甲基乙基吗啉、N-甲基丙基吗啉和N-甲基丁基吗啉,随着烷基链的增长,Cl-与吗啉环上的H原子形成的氢键键长逐渐增大,Cl原子与不同链长烷基取代基N-甲基吗啉结合的能力减弱.  相似文献   
215.
利用改进的LLP变分法计算了纤锌矿GaN/AlN无限量子阱中激子的基态能量和结合能,并对闪锌矿GaN/AlN量子阱和纤锌矿GaN/AlN量子阱中激子的基态能量和结合能进行了对比.结果表明:纤锌矿GaN/AlN无限量子阱材料中激子基态能量和结合能随着量子阱宽度增大而降低,当阱宽较小时急剧下降,阱宽较大时缓慢下降,最后趋近GaN体材料的三维值;考虑极化子效应时激子的基态能量和结合能明显低于裸激子的基态能量和结合能,电子-声子相互作用对激子能量的贡献较大;纤锌矿GaN/AlN量子阱中激子基态能量小于闪锌矿GaN/AlN量子阱中激子的基态能量,纤锌矿GaN/AlN量子阱中激子的结合能大于闪锌矿GaN/AlN量子阱中激子的结合能,且随着阱宽的增大,两种阱中基态能量和结合能的差距越来越小.  相似文献   
216.
冯小勤 《科技信息》2010,(32):I0125-I0126
碳由于其质量轻、结构多样化的特点,是一种很好的吸附氢的材料,它兼具物理吸附储氢和化学吸附储氢的能力。近年来,完全氢化的石墨层(graphane)被证实是存在的。本文主要对氢化的氮化硼(BNH2)进行计算研究,结果表明,氮化硼(BN)与石墨不同,在没有加氢的情况下就有带隙加氢之后的氮化硼(BN)是亚稳态结构:氢化形成的BNH2比在BN层上加H2分子的能量高,这一结论与石墨完全相反。  相似文献   
217.
TFDC模型和元素晶体结合能   总被引:5,自引:0,他引:5  
根据程氏理论(TFDC电子理论)的电子密度数据,采用与余氏理论平行的处理方法,得到了由原子半径和电子密度表示晶体结合能的一般数学公式. 结果表明,电子密度数据可以表征晶体中原子之间的键合强度. 用电子密度参数表达的结合能公式比用价键参数表达的结合能公式要简单得多,前者的模型参数比后者的更具有一般性. 这也表明,除原子半径和电子密度外,元素晶体的结合能参数是程氏理论应用于材料科学时需要考虑的一个重要参数.  相似文献   
218.
作者利用低温氧等离子体处理聚硅烷涂层,成功地制备了SiO2膜.由IR谱给出的Si-O键的吸收峰波数,随氧等离子体处理时间的不同在1065~1088cm-1范围变化;XPS谱给出Si2p的结合能为103.3~103.5eV,硅氧原子比为1:1.99;激光椭园偏振仪测得折射率在1.30~1.55范围;MOS电容的高频C-V特性曲线表明,平带电压为正,计算得氧化物电荷的电性为负,密度为6.6×1010~8.8×1011cm-2,其大小可以通过改变处理条件进行控制;BT实验表明,可动电荷密度为(3~6)×1010cm-2,这种新型的SiO2膜可望在微电子器工艺中得到应用.  相似文献   
219.
空位以及多空位的形成能的计算对研究空演位变行为有重要意义.本文利用已经现有的单、双空位形成能结果,采用刚性球模型来表达空位,得出了金属多空位形成能的计算公式,并且进行了讨论.计算了部分体心立方过渡金属的多空位形成能(3空位,4空位)和结合能,并与现有的结果进行比较,结果相差较小.  相似文献   
220.
为研究含能增塑剂和中性高分子键合剂(NPBA)对粘合剂-HMX(奥克托今)相互作用的影响,运用分子模拟软件Materials Studio进行了分子动力学模拟计算.根据文献中所举的应用实例,搭建了相应的粘合剂-含能增塑剂-NPBA-HMX微观模型,计算了各个组分之间的结合能E和径向分布函数(RDF).计算得到的结合能表明,含能增塑剂将削弱粘合剂与HMX之间的相互作用,而NPBA可以增强这种相互作用,其效果优于NC.  相似文献   
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