质子与Ti离子注入LiNbO3光波导

用１８０～３８０ｋｅＶ质子注入ＬｉＮｂＯ３造成折射率减小的埋层，以形成近表面处的平面波导；用３５０ｋｅＶ高注量Ｔｉ离子注入增加折射率，在注入区形成平面波导；用不同能量质子叠加注入，退掉由Ｔｉ内扩散制成的波导层。离子注入能在纵向与横向上改变ＬｉＮｂＯ３的折射率剖面分布，可用于制作集成光学器件。     

离子注入表面改性层组织结构及强化机制研究

本文主要论述应用 X 时线衍射和电子显微分析等对热处理 M2高速钢经不同工艺的氮离子注入层显微组织形态及合金相结构进行的一些研究。实验确认,注层所含合金相计有;a,Fe_(16)N_2,Fe_4N,Fe_3N,Fe_2N,Cr_2N,CrN 和 M_6C,M_3C,M_2C,MC 等。并初步探讨了注层强化作用的物理机制,认为是由常规合金化过程所发生的现象和只由注入才有的效应等两类结构因素所决定的。     

椭圆偏振光研究N2^＋注入Si的退火特性

本文用椭圆偏振仪测量了在不同剂量和不同能量下的N_2~+注入Si后的随偏参数ψ和Δ,给出了离子注入辐射损伤与注入剂量和注入能量的关系,同时,我们在N_2气氛中对离子注入片进行等时热退火,然后测量ψ和Δ,给出了N_2~+注入Si的退火特性,结果表明:N_2~+注入Si的退火特性曲线,对不同的注入剂量和注入能量分别为“υ”形和“W”形。     

靶温对钛离子注入纯铝的影响

高注量(>3×10~(17)cm~(-2))钛离子注入铝时,靶样品的温度明显地改变钛原子的浓度分布。靶温度超过400℃时,析出相为金属间化合物Al_3Ti。用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源注钛时,强束流(每脉冲2.0mA/cm~2)轰击产生的温升,使钛原子在铝中大约可以穿透1μm深,样品近表面700nm范围内钛的原子浓度超过了22％。     

一台400keV离子注入机的光路设计

本文给出了一台400keV离子注入机的物理设计总体方案。根据设计指标,详细计算了该机主要部件的参数。经调试,各项指标达到设计要求。     

适用于获得砷硼浅结的快速热退火解析模型

利用Boltzmann-Matno变换方法,求解与浓度有关的扩散方程,得到了砷硼快速热退火再分布的解析模型.实验证明本解析结果较好地符合快速热退火再分布的实际规律.     

基于硅隔离技术的耐高温压力传感器研究

采用硅隔离SoI(Silicon on Insulator)技术，应用高能氧离子的注入方法，在单晶硅材料中形成埋层二氧化硅，用以隔离作为测量电路的顶部硅层与体硅之间因温度升高而造成的漏电流。采用梁膜结合的压力传递机构，将被测压力与SoI敏感元件隔离开来，因此避免了被测压力的瞬时高温冲击，给出了传感器的结构模型和实验数据。测试结果表明，这种新型结构的耐高压力传感器，具有较好的动静态特性。     

Co／GC离子注入修饰电极的制备及表征

用离子注入法在玻碳表面注入钴制备了钴离子注入修饰电极（Co/GC），用X射线光电子能谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）等表面分析手段对Co/GC电极表面的元素组成和元素深度分布进行了表征。在环丙氟哌 酸（CIF）溶液中，用线性扫描伏安法（LSV）对Co/GC电极的催化活性进行了初步研究。     

钛合金及其表面处理的现状与展望

钛合金具有抗腐蚀能力强、比强度高、中温性能稳定等一系列优点，另一方面，它也有对粘着磨损和微动磨损非常敏感，耐磨性差，易氧化，对聚合物、金属及陶瓷涂层附着力差等缺点，这些缺点的存在限制了它的进一步应用，为克服钛合金这些缺点采取了一些相应的表面处理对策与手段，如表面微弧氧化、表面合金化、离子注入表面改性等。研究表明在钛合金表面形成TiC、TiN、TiO、(TiAl)N等纳米级，复合，渗、镀、注入层今后仍然是钛合金表面处理的发展方向。     

用增强质子背散射研究注氦纳米晶钛膜中氦的含量

作者使用增强质子背散射方法,分析了几种Mo基体纳米钛膜中氦的保持量情况．结果表明：采用离子注入法注入的氯在纳米钛膜中能保存较长的时间,氦的释放速率受氯在钛膜及基体中的分布、钛膜中氦浓度大小的影响;Ar,He混合气体放电法工作参数的选择可影响渗氦的效率。